[實用新型]一種液晶顯示屏曝光機

有效

• 申請號: 201520399041.2
• 申請日: 2015-06-10
• 公開（公告）號: CN204694990U
• 公開（公告）日: 2015-10-07
• 發明（設計）人: 郝建華;歐迪斐;李會斌
• 申請（專利權）人: 深圳市華宇彩晶科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02F1/13
• 代理公司: 深圳市凱達知識產權事務所 44256
• 代理人: 王琦

技術領域

本實用新型涉及液晶顯示屏加工領域，具體是一種液晶顯示屏曝光機。

背景技術

曝光機是集電子光學、電氣、機械、真空、計算機技術等于一體的復雜的半導體加工設備，70年代以后廣泛應用于半導體集成電路制造業，是在計算機的控制下，利用聚焦電子束對有機聚合物(通常稱為電子抗蝕劑或光刻膠)進行曝光，它常用于半導體制造，光電電子，平板，射頻微波，衍射光學，微機電系統，凹凸或覆晶設備和其他要求精細印制領域。現有的曝光機曝光的尺寸較小，不適用于大尺寸的基板曝光，若將現有的曝光機對大尺寸的基板進行曝光，其曝光的效果極差，基板的曝光面曝光不均勻，特別是基板邊緣地帶的曝光效果極差。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種液晶顯示屏曝光機，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：

一種液晶顯示屏曝光機，包括放板臺、曝光室、曝光平臺和光源，所述放板臺的臺面與曝光室的入口相對應，曝光平臺包括透光平臺座和翻轉蓋，翻轉蓋可轉動開合的安裝在透光平臺座上，翻轉蓋內設置有一層擋光膜；所述曝光室內水平設置有一伸縮氣缸，伸縮氣缸的活塞桿與曝光平臺連接；曝光室內設光源調整機構，光源調整機構包括光傳感器、移動機構和照射強度調整單元，光源以矩陣排列方式設置于光源平臺上，光源平臺固設在曝光室底部；所述光傳感器設置于移動機構；所述照射強度調整單元包括處理單元及存儲單元，光傳感器、移動機構和存儲單元電連接處理單元，處理單元電連接光源；所述移動機構包括相互連接的第一維度移動機構及第二維度移動機構，第一維度移動機構及第二維度移動機構的移動方向相互垂直，光傳感器通過連接件設置于第一維度移動機構；第一維度移動機構包括軌道，第二維度移動機構包括軌道。

進一步的，所述光源平臺上設有一燈光罩，燈光罩上方開口且其截面為弧形。

進一步的，所述曝光室上方設置有一控制室。

與現有技術相比，本實用新型的光源發出的光經過燈光罩的弧形面放射形成平行光，且對基板進行曝光，降低了光源的流失，增加了光源的強度，在相同曝光強度時，可以節約光源的數量，降低能耗；通過燈光罩的反射，保證了光源直射基板的曝光面，解決了大尺寸基板曝光不均勻，基板四周曝光質量不高的問題，且方便隨時檢測并調整曝光機的若干光源的照射強度至均勻，以提升曝光機曝光成品的合格率。

附圖說明

圖1為液晶顯示屏曝光機的結構示意圖。

圖2為液晶顯示屏曝光機中曝光平臺的結構示意圖。

圖3為液晶顯示屏曝光機中移動機構的結構示意圖。

具體實施方式

下面結合具體實施方式對本專利的技術方案作進一步詳細地說明。