[實用新型]一種穩定輸出的考夫曼離子源

有效

• 申請號: 201520397770.4
• 申請日: 2015-06-08
• 公開（公告）號: CN204651286U
• 公開（公告）日: 2015-09-16
• 發明（設計）人: 喬憲武
• 申請（專利權）人: 中國計量學院
• 主分類號: H01J37/08
• 分類號: H01J37/08
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種新型離子源，特別涉及一種穩定輸出的考夫曼離子源。

背景技術

離子束薄膜沉積和離子束材料改性技術是材料科學的一個重要分支，離子束技術的研究和推廣取得了巨大的成就。目前，離子源的種類很多，Kaufman(考夫曼)離子源是使用較為廣泛的對薄膜進行離子束轟擊的裝置，該裝置的基本工作原理為：首先由陰極在離子源內腔產生等離子體，然后由兩層或三層陽極柵格將離子從等離子腔體中抽取出來，這種離子源產生的離子方向性強，離子能量帶寬集中，可廣泛應用于真空鍍膜中。

離子束的產生需要有穩定的惰性氣體氣流，氣流一般由單根氣體導管出入，氣體流量通過氣體流量計控制。當氣體流量大時，氣流不穩定，造成離子束不穩定。

實用新型內容

本實用新型解決上述氣流不穩定的技術缺陷，設計一種穩定輸出的考夫曼離子源。

一種穩定輸出的考夫曼離子源，包括包括進氣孔、陰極和陽極，其特征在于：所述裝置的進氣孔為陣列結構。

所述裝置的進氣孔至少有兩個，進氣孔排列均勻。

本實用新型有益效果：多孔陣列裝置，減小了單一孔徑氣流不穩的缺陷，提高反應氣體接觸面積，增加接觸幾率，使離子束平穩輸出。

附圖說明

圖1為本結構裝置圖

圖2為進氣孔陣列圖

具體實施方式

如圖1所示，惰性氣體由考夫曼離子源的進氣孔1進入，與陰極2陽極3的電子束混合反應，進氣孔1由原有單一孔徑，改造成多孔陣列結構。這一變化，提高反應氣體接觸面積，增加接觸幾率，使離子束平穩輸出。