[實用新型]一種高性能低輻射鍍膜玻璃有效
| 申請號： | 201520396968.0 | 申請日： | 2015-06-11 |
| 公開（公告）號： | CN204689889U | 公開（公告）日： | 2015-10-07 |
| 發明（設計）人： | 顧黎明;徐峰 | 申請（專利權）人： | 太倉耀華玻璃有限公司 |
| 主分類號： | C03C17/36 | 分類號： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 蘇州市方略專利代理事務所(普通合伙) 32267 | 代理人： | 馬廣旭 |
| 地址： | 215433 江蘇省蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 性能 輻射 鍍膜 玻璃 | ||
【權利要求書】：
1.一種高性能低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，包括：
玻璃基片以及由下至上層疊設置于所述玻璃基片上的底層電介質膜層、第一阻擋層、銀層、第二阻擋層以及頂層電介質膜層；
所述底層電介質膜層包括由下至上設置的第一Si3N4層、第一ITO氧化銦錫層及第一氧化鉻膜層；
所述第一、第二阻擋層為Cu-N層或Cu-O層；
所述頂層電介質膜層包括由下至上設置的第二氧化鉻膜層、第二ITO氧化銦錫層及第二Si3N4層。
2.根據權利要求1所述的高性能低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述銀層厚度為15~20nm。
3.根據權利要求1所述的高性能低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述底層電介質膜層厚度為40~50nm。
4.根據權利要求1所述的高性能低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一、第二阻擋層厚度分別為10~15nm。
5.根據權利要求1所述的高性能低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述頂層電介質膜層厚度為50~70nm。
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