[實用新型]調整蒸鍍偏位的裝置有效
| 申請號: | 201520384974.4 | 申請日: | 2015-06-04 |
| 公開(公告)號: | CN204714884U | 公開(公告)日: | 2015-10-21 |
| 發明(設計)人: | 李偉麗;朱修劍 | 申請(專利權)人: | 昆山國顯光電有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司: | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 唐清凱 |
| 地址: | 215300 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 調整 蒸鍍偏位 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及顯示屏的制備,特別是涉及一種彩色化顯示屏制備過程中快速調整蒸鍍偏位的裝置。
背景技術
目前,OLED(Organic?Light-Emitting?Diode,有機發光二極管)蒸鍍過程中普遍需要使用掩膜板,隨著超高分辨率顯示屏的出現,掩膜板與TFT(Thin?Film?Transistor,薄膜晶體管)基板的對位精度要求也越來越高。若掩膜板與基板的對位精度過低,則會引起較大的蒸鍍偏位,嚴重影響了顯示質量。
傳統技術在調整彩色化顯示屏的蒸鍍偏位時,需要把有機材料蒸鍍完后,從蒸鍍腔室中取出蒸鍍有有機材料的基板,放到顯微鏡下測量蒸鍍層相對于下層基板的圖案的偏移量,然后另取基板放入蒸鍍腔室蒸鍍,并根據前一次在顯微鏡下觀察到的偏移量來調整機臺的對位參數,蒸鍍完成后放到顯微鏡下測量蒸鍍偏差,依次循環,直至蒸鍍偏差在允許的范圍之后,再進行下一層有機材料的蒸鍍偏位調整,一直到所有的彩色化有機材料全部完成且符合產品設計要求。該方法需要將基板從蒸鍍腔室中取出,再置于顯微鏡下進行人工測量,不僅效率低,且人工測量存在較大的偏差,不利于精度的提高。
實用新型內容
本實用新型提供了一種調整蒸鍍偏位的裝置,可以實現蒸鍍偏位的高精度快速調整。
為達到上述目的,本實用新型采用如下技術方案:
一種調整蒸鍍偏位的裝置,包括
基板,所述基板上設置有第一TEG,所述第一TEG包括多個結構相同的第一矩形框,所述多個第一矩形框沿橫向和縱向間隔分布,形成矩陣結構;
掩膜板,所述掩膜板上設置有第二TEG,所述第二TEG包括至少一個第二矩形框,所述掩膜板與所述基板對準后,所述第二矩形框與所述第一TEG中的預設區域相對應;以及
用于觀察蒸鍍偏位的CCD鏡頭,所述CCD鏡頭設置在蒸鍍腔室中。
在其中一個實施例中,橫向方向上相鄰的兩個所述第一矩形框之間的距離與所述第一矩形框的長度相等,縱向方向上相鄰的兩個所述第一矩形框之間的距離與所述第一矩形框的寬度相等。
在其中一個實施例中,所述第二矩形框的長度為所述第一矩形框長度的整數倍,所述第二矩形框的寬度為所述第一矩形框寬度的整數倍。
在其中一個實施例中,所述第一矩形框和所述第二矩形框均為正方形。
在其中一個實施例中,所述基板包括有機材料蒸鍍區域以及設置在所述有機材料蒸鍍區域外圍的第一對位區域,所述第一TEG設置在所述第一對位區域中。
在其中一個實施例中,所述掩膜板包括有效區域以及設置在所述有效區域外圍的第二對位區域,所述有效區域和所述第二對位區域中均設置有多個矩形構圖孔,所述第二TEG選自所述第二對位區域中多個矩形構圖孔中的一個或多個。
在其中一個實施例中,所述第一TEG的每一行和每一列上均設置有數字標識。
在其中一個實施例中,每個所述第一矩形框內以及相鄰兩個所述第一矩形框的間隙中均設置有數字標識。
在其中一個實施例中,所述第一TEG為一個,所述第二TEG為多個,所述掩膜板與所述基板對準后,不同的所述第二TEG分別對應所述第一TEG的不同位置。
在其中一個實施例中,所述第一TEG為多個,所述第二TEG為多個,所述掩膜板與所述基板對準后,所述多個第一TEG與所述多個第二TEG一一對應。
本實用新型具有如下有益效果:
本實用新型的調整蒸鍍偏位的裝置,在基板上設置了第一TEG,在掩膜板上設置了第二TEG,在進行有機材料蒸鍍后,基板上與第二TEG相對應的位置處會生成對位圖案,通過CCD鏡頭即可觀察該對位圖案相對于第一TEG的預設區域的偏移量,將該偏移量輸入設備即可完成蒸鍍偏位的一次調整。本實用新型無需將基板移出沉積腔室即可完成蒸鍍偏位的調整,實現了基板的重復利用,即可在該基板上繼續沉積下一有機材料層,進行所述下一有機材料層蒸鍍偏位的調整,大大節約了材料成本,提高了調整效率;同時,本實用新型的第一TEG和第二TEG均由矩形框構成,使得蒸鍍偏位的觀察更加直觀、準確,節約了時間,提高了精度。
附圖說明
圖1為本實用新型的調整蒸鍍偏位的裝置中第一TEG和第二TEG一實施例的結構示意圖,其中,(a)為第一TEG一實施例的結構示意圖;(b)為第二TEG一實施例的結構示意圖;
圖2為使用圖1所示的第一TEG和第二TEG調整蒸鍍偏位時,不同偏位情況的結構示意圖,其中,黑色框為對位圖案;
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