[實用新型]一種琉璃瓦加工用拋光機

有效

• 申請號: 201520375012.2
• 申請日: 2015-06-03
• 公開（公告）號: CN204639804U
• 公開（公告）日: 2015-09-16
• 發明（設計）人: 沈高德
• 申請（專利權）人: 嘉善星窯新型建材有限公司
• 主分類號: B24B1/00
• 分類號: B24B1/00
• 代理公司: 北京中政聯科專利代理事務所(普通合伙) 11489
• 代理人: 吳建鋒

技術領域

本實用新型涉及一種琉璃瓦加工設備技術領域，特別是涉及一種琉璃瓦加工用拋光機。

背景技術

拋光機是一種電動工具，拋光機由底座、拋盤、拋光織物、拋光罩及蓋等基本元件組成。電動機固定在底座上，固定拋光盤用的錐套通過螺釘與電動機軸相連。拋光織物通過套圈緊固在拋光盤上，電動機通過底座上的開關接通電源起動后，便可用手對試樣施加壓力在轉動的拋光盤上進行拋光。拋光過程中加入的拋光液可通過固定在底座上的塑料盤中的排水管流入置于拋光機旁的方盤內。拋光罩及蓋可防止灰土及其他雜物在機器不使用時落在拋光織物上而影響使用效果。

拋光機操作的關鍵是要設法得到最大的拋光速率，以便盡快除去磨光時產生的損傷層。同時也要使拋光損傷層不會影響最終觀察到的組織，即不會造成假組織。前者要求使用較粗的磨料，以保證有較大的拋光速率來去除磨光的損傷層，但拋光損傷層也較深；后者要求使用最細的材料，使拋光損傷層較淺，但拋光速率低。解決這個矛盾的最好的辦法就是把拋光分為兩個階段進行。粗拋目的是去除磨光損傷層，這一階段應具有最大的拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不過也應當盡可能小；其次是精拋(或稱終拋)，其目的是去除粗拋產生的表層損傷，使拋光損傷減到最小。拋光機拋光時，試樣磨面與拋光盤應絕對平行并均勻地輕壓在拋光盤上，注意防止試樣飛出和因壓力太大而產生新磨痕。目前現有的拋光機在使用時會產生較多的粉塵，拋光效果一般，操作不方便。

實用新型內容

本實用新型要解決的技術問題是一種操作方便，拋光效果好，工作時不會產生粉塵，能夠保持較好的工作環境的琉璃瓦加工用拋光機。

為解決上述問題，本實用新型采用如下技術方案：

一種琉璃瓦加工用拋光機，包括殼體、離子束發生器、干涉儀和夾具，所述離子束發生器和干涉儀設在殼體上方，所述離子束發生器與殼體固定連接，所述干涉儀呈傾角設置，所述夾具設在殼體內，干涉儀能夠保持離子發生器產生的離子束更加集中，所述夾具下方設置有驅動裝置，驅動裝置能夠調節夾具的位置和角度，所述離子束發生器內設置有靜電透鏡，靜電透鏡具有聚焦的作用，所述靜電透鏡設有一塊以上，所述離子束發生器底部設置有偏轉板，所述偏轉板與離子束發生器轉動連接，所述干涉儀一側設置有視窗，所述視窗呈傾角設置，所述離子束發生器上設置有控制器。

作為優選，所述控制器與離子束發生器電性連接，方便操控離子束發生器。

作為優選，所述夾具與驅動裝置傳動連接，夾具能夠牢固的夾持琉璃瓦。

作為優選，所述殼體外側設置有加速裝置，能夠對離子束進行加速。

作為優選，所述加速裝置與殼體固定連接，保持加速裝置結構穩定。

該技術方案具有操作方便，拋光效果好，工作時不會產生粉塵，能夠保持較好的工作環境的特點。

本實用新型的有益效果是：設置的干涉儀能夠保持離子發生器產生的離子束更加集中，驅動裝置能夠調節夾具的位置和角度，靜電透鏡具有聚焦的作用，控制器與離子束發生器電性連接，方便操控離子束發生器，加速裝置能夠對離子束進行加速。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本實用新型的一種琉璃瓦加工用拋光機的結構圖。

具體實施方式

參閱圖1所示，一種琉璃瓦加工用拋光機，包括殼體1、離子束發生器2、干涉儀3和夾具4，所述離子束發生器2和干涉儀3設在殼體1上方，所述離子束發生器2與殼體1固定連接，在使用時，將琉璃瓦固定在夾具4上，啟動離子束發生器2和干涉儀3對琉璃瓦進行拋光，通過偏轉板7調節離子束的位置，驅動裝置5調節夾具4的位置，使得琉璃瓦能夠進行全方位的拋光，所述干涉儀3呈傾角設置，所述夾具4設在殼體1內，所述夾具4下方設置有驅動裝置5，所述離子束發生器2內設置有靜電透鏡6，所述靜電透鏡6設有一塊以上，所述離子束發生器2底部設置有偏轉板7，所述偏轉板7與離子束發生器2轉動連接，所述干涉儀3一側設置有視窗8，所述視窗8呈傾角設置，所述離子束發生器2上設置有控制器9。

所述控制器9與離子束發生器2電性連接，在使用時，方便操控離子束發生器2。

所述夾具4與驅動裝置5傳動連接，在使用時，夾具4能夠牢固的夾持琉璃瓦。

所述殼體1外側設置有加速裝置10，在使用時，能夠對離子束進行加速。