[實(shí)用新型]一種防止X射線泄露以及提高成像質(zhì)量的光路限制狹縫結(jié)構(gòu)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201520374879.6
• 申請(qǐng)日: 2015-06-03
• 公開（公告）號(hào): CN205124102U
• 公開（公告）日: 2016-03-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 顏天信;張猛;唐麟;汪洪波
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 合肥泰禾光電科技股份有限公司
• 主分類號(hào): H05G1/02
• 分類號(hào): H05G1/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及特種檢測(cè)領(lǐng)域，特別涉及一種防止X射線泄露以及提高成像質(zhì)量的光路限制狹縫結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)

作為一種特種檢測(cè)手段，X射線具有穿透能力強(qiáng)，由于能夠探測(cè)物體內(nèi)部結(jié)構(gòu)的特點(diǎn)而在各行各業(yè)得到廣泛的應(yīng)用。但是，由于X射線的肉眼不可見性和對(duì)人體傷害的不可逆性，X射線的設(shè)備的應(yīng)用在各個(gè)國(guó)家都有嚴(yán)格的管理規(guī)定和嚴(yán)格的市場(chǎng)準(zhǔn)入限制。其中一個(gè)很重要的指標(biāo)就是輻射泄露劑量的限定，目前在國(guó)際上，除美國(guó)限定5μSv/h外，其他國(guó)家都限定輻射劑量泄露率小于1μSv/h。目前很多的設(shè)備是采用鉛防護(hù)，這樣子不僅增加了整機(jī)的重量，增加了工藝方面的難度，而且還引入了有毒性的重金屬鉛的污染。

特種設(shè)備的檢測(cè)靈敏度和成像的質(zhì)量關(guān)系密切，現(xiàn)在提高圖像質(zhì)量的方法主要有：提高光源的功率、改用分辨率更高的探測(cè)器以及減少散射光的影響等等。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型提供一種防止X射線泄露以及提高成像質(zhì)量的光路限制狹縫結(jié)構(gòu)，在使用X射線檢測(cè)時(shí)，有效的防止X射線泄露；還對(duì)光路起到了準(zhǔn)直作用，大大降低了無關(guān)的雜散光的影響，提高了圖像成像質(zhì)量，對(duì)異物信號(hào)的提取和檢測(cè)靈敏度的提高，乃至整機(jī)性能的提高都具有重要意義。

本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是：

一種防止X射線泄露以及提高成像質(zhì)量的光路限制狹縫結(jié)構(gòu)，包括底板、側(cè)板和圍板，所述底板上開有狹縫，所述底板、側(cè)板和圍板之間通過螺栓固定。

作為優(yōu)選的，所述底板、側(cè)板和圍板材料為鋼或其他無毒害的對(duì)射線吸收較重的金屬材料。

優(yōu)選的，發(fā)射X射線的射線源最大工作電壓為80keV時(shí)，底板、側(cè)板和圍板的厚度至少為16mm；發(fā)射X射線的射線源最大工作電壓為100keV時(shí)，底板、側(cè)板和圍板的厚度至少為20mm；發(fā)射X射線的射線源最大工作電壓為160keV時(shí)，底板、側(cè)板和圍板的厚度至少為40mm。

作為優(yōu)選的，所述狹縫距離發(fā)出X射線的光源距離為L(zhǎng)1，光路限制狹縫結(jié)構(gòu)的狹縫的寬度為W1，用來接收X射線進(jìn)行成像的線陣探測(cè)器與光源之間的距離為L(zhǎng)2，物料通道的上下通過X射線的長(zhǎng)方行孔的寬度至少為(L2/L1)*W1，長(zhǎng)度為傳送帶寬度。

進(jìn)一步的，所述側(cè)板上方緊貼發(fā)出X射線的光源的出關(guān)口，所述底板下方固定在光學(xué)支撐架上帶有鏤空，鏤空狹縫寬度方向平行于傳送帶方向。

優(yōu)選的，所述光學(xué)支撐架上具有一定的容差調(diào)節(jié)移動(dòng)范圍，保證將光源、狹縫、長(zhǎng)方行孔、鏤空和線陣探測(cè)器調(diào)整在一根垂直線上。

進(jìn)一步的，所述底板下方設(shè)置物料通道，所述物料通道的上下面設(shè)有物料通道上面板長(zhǎng)方形孔和物料通道下面板長(zhǎng)方形孔，所述物料通道上面板長(zhǎng)方形孔和物料通道下面板長(zhǎng)方形孔均使用對(duì)射線吸收較弱的樹脂材料或者塑料密封，防止灰塵進(jìn)入機(jī)箱。

本實(shí)用新型的有益效果是：

本實(shí)用新型采用鋼材料制成帶有狹縫的結(jié)構(gòu)，從射線入射的源頭控制，將輻射泄露控制在一定的范圍內(nèi)，本實(shí)用新型還對(duì)光路起到了準(zhǔn)直作用，大大降低了無關(guān)的雜散光的影響，提高了圖像成像質(zhì)量，對(duì)異物信號(hào)的提取和檢測(cè)靈敏度的提高，乃至整機(jī)性能的提高都具有重要意義，同時(shí)，本實(shí)用新型的防護(hù)措施中，并沒有使用鉛，降低了工藝的難度、整機(jī)的重量以及減少了不必要的鉛污染。

附圖說明

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。

圖1為本實(shí)用新型一種防止X射線泄露以及提高成像質(zhì)量的光路限制狹縫結(jié)構(gòu)剖視圖。

圖2為本實(shí)用新型一種防止X射線泄露以及提高成像質(zhì)量的光路限制狹縫結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3為本實(shí)用新型傳送帶傳動(dòng)方向剖面的光路幾何示意圖。

圖4為本實(shí)用新型垂直傳送帶傳動(dòng)方向剖面的光路幾何示意圖。

圖5為本實(shí)用新型實(shí)施方案主視圖。

圖6為本實(shí)用新型實(shí)施方案?jìng)?cè)視圖。

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說明，但是本實(shí)用新型可以由權(quán)利要求限定和覆蓋的多種不同方式實(shí)施。

如圖1和圖2所示，本實(shí)用新型公開一種防止X射線泄露以及提高成像質(zhì)量的光路限制狹縫結(jié)構(gòu)，包括底板100、側(cè)板102和圍板103，所述底板100上開有狹縫101，所述底板100、側(cè)板102和圍板103之間通過螺栓固定，所述底板100、側(cè)板102和圍板103均使用鋼材料制成，便于防護(hù)射線。