[實用新型]帶潔凈裝置的光催化氧化處理器

有效

• 申請號: 201520372671.0
• 申請日: 2015-06-02
• 公開（公告）號: CN204684276U
• 公開（公告）日: 2015-10-07
• 發明（設計）人: 徐小明
• 申請（專利權）人: 江門市三清環境技術工程有限公司
• 主分類號: A61L9/20
• 分類號: A61L9/20;A61L9/18;B01D46/30;B08B3/02;B08B3/08
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205
• 代理人: 馮劍明

技術領域

本實用新型涉及空氣處理器，具體涉及一種帶潔凈裝置的光催化氧化處理器。

背景技術

空氣處理器常用于對氣體進行氧化消毒，具有環保意義。光催化氧化裝置是空氣處理器中的常用裝置，利用真空UV管和光觸媒相配合產生紫外線進行氧化消毒?，F有光催化氧化裝置普遍存在真空UV管和光觸媒表面容易被氣體中顆粒物或其他物質覆蓋，從而降低催化效率甚至是失去催化活性的問題。

實用新型內容

為了解決現有的光催化氧化裝置容易積塵而降低效率的問題，本實用新型的目的在于提供一種帶潔凈裝置的光催化氧化處理器，能自動對光觸媒和真空UV管進行清洗，保證光觸媒和真空UV管的表面能充分的與氣體中的污染物接觸。

本實用新型所采用的技術方案是：

帶潔凈裝置的光催化氧化處理器，包括殼體，所述殼體上設置有進風口和出風口，殼體內設置有真空UV管和光觸媒，所述殼體內設置有多個用于清洗真空UV管和光觸媒表面的噴淋頭，所述進風口處設置有靜電除塵室。

作為上述技術方案的進一步改進，所述殼體內設置有多層蜂窩過濾網，蜂窩過濾網能進一步去除氣體中的顆粒物。優選的，所述蜂窩過濾網為活性炭，利用活性炭的吸附能力更好的去除空氣中的雜質。

作為上述技術方案的進一步改進，所述殼體內還設置有微波氧化裝置，所述微波氧化裝置處也設置有噴淋頭。微波氧化裝置能進一步對氣體進行氧化消毒，消除氣體中的有害物質，而噴淋頭可自動對微波氧化裝置進行清洗，使其表面保持潔凈，保證其高效工作。

本實用新型的有益效果是：

本實用新型在殼體的進風口處設置靜電除塵室，先把氣體中的顆粒物通過靜電作用收集起來，減少顆粒物覆蓋在光觸媒和真空UV管表面，然后在殼體的各個反應室里安裝噴淋頭，對光觸媒和真空UV管進行清洗，保證光觸媒和真空UV管的表面能充分的與氣體中的污染物接觸，從而大大的提升了光觸媒的反應效率和處理時間。

附圖說明

下面結合附圖和具體實施方式對本實用新型作進一步詳細的說明。

圖1是帶潔凈裝置的光催化氧化處理器的結構示意圖。

具體實施方式

參照圖1，本實用新型提供的優選實施例，包括殼體1，殼體1上設置有進風口和出風口，殼體1內依次設置有靜電除塵室11、紫外線氧化室12和微波氧化室13。所述靜電除塵室11靠近進風口設置，靜電除塵室11內設置有相對的分別帶正電荷和負電荷的吸附板，可把氣體中的顆粒物通過靜電作用收集起來。靜電除塵室11后是紫外線氧化室12。所述紫外線氧化室12內設置有多根真空UV管2以及多層蜂窩過濾網4，蜂窩過濾網4進一步去除氣體中的顆粒物；紫外線氧化室12內壁還涂有光觸媒，真空UV管2發出的紫外線與光觸媒接觸后，加快氣體中污染物的氧化流程。紫外線氧化室12內還設置有多個噴淋頭4，所述噴淋頭4可噴射清洗液，沖洗真空UV管2和光觸媒的表面，有效清除其表面灰塵雜物，保證光觸媒和真空UV管2的表面能充分的與氣體中的污染物接觸，提升污染物氧化的反應效率和處理時間。所述微波氧化室13靠近出風口處，微波氧化室13內設置有微波氧化裝置5，微波氧化裝置5能進一步對氣體進行氧化消毒，消除氣體中的有害物質，微波氧化室13內也設置有噴淋頭4，可自動對微波氧化裝置5進行清洗，使其表面保持潔凈，保證其高效工作。

以上具體結構和尺寸數據是對本實用新型的較佳實施例進行了具體說明，但本實用新型創造并不限于所述實施例，熟悉本領域的技術人員在不違背本實用新型精神的前提下還可做出種種的等同變形或替換，這些等同的變形或替換均包含在本申請權利要求所限定的范圍內。