[實(shí)用新型]一種可控制不規(guī)則沙粒投射角度和速度的發(fā)射裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201520370793.6 | 申請(qǐng)日: | 2015-06-02 |
| 公開(公告)號(hào): | CN204667238U | 公開(公告)日: | 2015-09-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 何畏;黃寧;頓洪超 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 蘭州大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G05D27/02 | 分類號(hào): | G05D27/02 |
| 代理公司: | 北京中恒高博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11249 | 代理人: | 高玉濱 |
| 地址: | 730000 甘肅*** | 國(guó)省代碼: | 甘肅;62 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 控制 不規(guī)則 沙粒 投射 角度 速度 發(fā)射 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種可控制不規(guī)則沙粒投射角度和速度的發(fā)射裝置,屬于機(jī)械技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
在現(xiàn)有的有關(guān)投射沙粒的試驗(yàn)中,一般使用人工投射沙粒,人工投射沙粒因投射的力度、角度和初始速度不同,導(dǎo)致投射的后果是,每次投射沙粒的速度、角度均不相同,如此導(dǎo)致實(shí)驗(yàn)的結(jié)果差別較大,誤差較大,最終所得的實(shí)驗(yàn)結(jié)果可信度就不高。但現(xiàn)有的技術(shù)中,并不設(shè)有專門的用于實(shí)驗(yàn)使用的沙粒投射裝置,因此,現(xiàn)急需一種能夠控制沙粒投射的角度、速度的發(fā)射裝置。?
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型提供一種可控制不規(guī)則沙粒投射角度和速度的發(fā)射裝置,能夠解決以上所述問題。
為解決以上技術(shù)問題,本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:一種可控制不規(guī)則沙粒投射角度和速度的發(fā)射裝置,包括底座、支架、電機(jī)、控制懸臂、制動(dòng)桿、制動(dòng)槽、轉(zhuǎn)盤、刻度盤、發(fā)射槽,轉(zhuǎn)盤中心固定轉(zhuǎn)軸,轉(zhuǎn)軸由支架支撐,轉(zhuǎn)軸由電機(jī)帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng),轉(zhuǎn)盤上開有等徑弧形制動(dòng)槽,制動(dòng)槽的圓心角為90度;對(duì)稱設(shè)置的控制懸臂套接在轉(zhuǎn)軸上,控制旋臂設(shè)置在支架的兩側(cè),兩控制旋臂間連接制動(dòng)桿,制動(dòng)桿垂直穿過制動(dòng)槽;轉(zhuǎn)盤內(nèi)具有容納沙粒的空間,在轉(zhuǎn)盤的邊緣處設(shè)有發(fā)射口,發(fā)射口處設(shè)有發(fā)射槽;逆時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng),發(fā)射槽直徑略大于沙粒最大直徑,發(fā)射槽軸線位于轉(zhuǎn)盤的中面內(nèi)且與發(fā)射槽底部中心點(diǎn)所在圓相切,因此當(dāng)圓盤突然制動(dòng)時(shí)沙粒可按發(fā)射槽的方向運(yùn)動(dòng)出去;制動(dòng)桿與制動(dòng)槽右側(cè)平面接觸的面位于制動(dòng)桿垂直于轉(zhuǎn)盤的對(duì)稱面內(nèi);設(shè)置好控制懸臂的角度就能控制沙粒的出射角度;設(shè)置開關(guān),制動(dòng)桿插入另一側(cè)時(shí),控制桿會(huì)按下電機(jī)開關(guān),電機(jī)斷電,保證制動(dòng)的效果和保護(hù)電機(jī);當(dāng)抬起制動(dòng)桿后,手動(dòng)按下開關(guān)電機(jī)再次啟動(dòng)。
進(jìn)一步地,所述發(fā)射槽在側(cè)頂部具有豁口。
進(jìn)一步地,所述支架為雙耳支座。
進(jìn)一步地,所述支架上以轉(zhuǎn)軸圓心為中心設(shè)置刻度盤。
進(jìn)一步地,所述電機(jī)與轉(zhuǎn)軸之間設(shè)有雙軸齒輪嚙合的減速傳動(dòng)裝置。
本實(shí)用新型涉及的這種可控制不規(guī)則沙粒投射角度和速度的發(fā)射裝置,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,能夠控制沙粒的角度和速度。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型可控制不規(guī)則沙粒投射角度和速度的發(fā)射裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)圖;
圖2為本實(shí)用新型圖1的平面圖;
圖3為本實(shí)用新型圖2的側(cè)視圖;
圖4為本實(shí)用新型發(fā)射槽剖視圖。
具體實(shí)施方式
如圖1所示,一種可控制不規(guī)則沙粒投射角度和速度的發(fā)射裝置,包括底座1、支架2、電機(jī)、控制懸臂5、制動(dòng)桿6、制動(dòng)槽7、轉(zhuǎn)盤3、刻度盤、發(fā)射槽4,轉(zhuǎn)盤3中心固定轉(zhuǎn)軸,轉(zhuǎn)軸由支架2支撐,轉(zhuǎn)軸由電機(jī)帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng),轉(zhuǎn)盤3上開有等徑制動(dòng)槽7,制動(dòng)槽7的圓心角為90度;對(duì)稱設(shè)置的控制懸臂5套接在轉(zhuǎn)軸上,控制旋臂設(shè)置在支架的兩側(cè),兩控制旋臂間連接制動(dòng)桿6,制動(dòng)桿6垂直穿過制動(dòng)槽;轉(zhuǎn)盤3內(nèi)具有容納沙粒的空間,在轉(zhuǎn)盤3的邊緣處設(shè)有發(fā)射口41,發(fā)射口41處設(shè)有發(fā)射槽4;逆時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng),發(fā)射槽4直徑略大于沙粒最大直徑,發(fā)射槽4軸線位于轉(zhuǎn)盤的中面內(nèi)且與發(fā)射槽底部中心點(diǎn)所在圓相切,因此當(dāng)圓盤突然制動(dòng)時(shí)沙粒可按發(fā)射槽的方向運(yùn)動(dòng)出去;制動(dòng)桿與制動(dòng)槽右側(cè)平面接觸的面位于制動(dòng)桿6垂直于轉(zhuǎn)盤的對(duì)稱面內(nèi);設(shè)置好控制懸臂5的角度就能控制沙粒的出射角度;設(shè)置開關(guān),制動(dòng)桿6插入另一側(cè)時(shí),控制桿6會(huì)按下電機(jī)開關(guān),電機(jī)斷電,保證制動(dòng)的效果和保護(hù)電機(jī);當(dāng)抬起制動(dòng)桿后,手動(dòng)按下開關(guān)電機(jī)再次啟動(dòng)。
所述發(fā)射槽4在側(cè)頂部具有豁口。
所述支架2為雙耳支座。
所述支架2上以轉(zhuǎn)軸圓心為中心設(shè)置刻度盤。
所述電機(jī)與轉(zhuǎn)軸之間設(shè)有雙軸齒輪嚙合的減速傳動(dòng)裝置8。
1.由電機(jī)控制轉(zhuǎn)盤的角速度,根據(jù)發(fā)射槽軸線距轉(zhuǎn)軸的距離可以計(jì)算出發(fā)射槽的速度,進(jìn)而得出發(fā)射槽底部沙粒的速度。
2.轉(zhuǎn)盤如圖1中方位逆時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng),發(fā)射槽直徑略大于沙粒最大直徑,發(fā)射槽軸線位于轉(zhuǎn)盤的中面內(nèi)且與發(fā)射槽底部中心點(diǎn)所在圓相切,因此當(dāng)圓盤突然制動(dòng)時(shí)沙粒可按發(fā)射槽的方向運(yùn)動(dòng)出去。制動(dòng)桿與制動(dòng)槽右側(cè)平面接觸的面位于制動(dòng)桿垂直于轉(zhuǎn)盤的對(duì)稱面內(nèi)。設(shè)置好控制懸臂的角度就能控制沙粒的出射角度。
3.設(shè)置開關(guān),制動(dòng)桿插入另一側(cè)時(shí),控制桿按下電機(jī)開關(guān),電機(jī)斷電,保證制動(dòng)的效果和保護(hù)電機(jī)。當(dāng)抬起制動(dòng)桿后,手動(dòng)按下開關(guān)電機(jī)會(huì)再次啟動(dòng)。
4.由于制動(dòng)桿與轉(zhuǎn)盤均為脆性材料,按下制動(dòng)桿時(shí)會(huì)制動(dòng)桿與轉(zhuǎn)盤間產(chǎn)生的碰撞可能使轉(zhuǎn)盤向反方向回彈,也可能會(huì)損壞制動(dòng)桿。因此,在制動(dòng)槽末端,需要安裝橡膠墊等材料。
5.本裝置發(fā)射槽出口與制動(dòng)槽末端之間的角度是固定的。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于蘭州大學(xué),未經(jīng)蘭州大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201520370793.6/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





