[實(shí)用新型]新型飽和電抗器框架裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201520370259.5 | 申請(qǐng)日： | 2015-06-02 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN204596572U | 公開(kāi)（公告）日： | 2015-08-26 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 劉中平;陳曉;楊劍峰;周素平 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 臥龍電氣集團(tuán)股份有限公司;臥龍電氣集團(tuán)浙江變壓器有限公司 |
| 主分類號(hào)： | H01F27/06 | 分類號(hào)： | H01F27/06 |
| 代理公司： | 浙江翔隆專利事務(wù)所(普通合伙) 33206 | 代理人： | 王曉燕 |
| 地址： | 312300 浙江*** | 國(guó)省代碼： | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書(shū)： | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū)： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 新型 飽和 電抗 框架 裝置 | ||
1.新型飽和電抗器框架裝置，?包括:用于承載電抗器的底托架，所述的底托架包括上槽鋼（1）、下槽鋼（2）、支撐柱，所述的上槽鋼（1）與下槽鋼（2）平行設(shè)于左右兩支撐柱之間；特征在于：所述的下槽鋼（2）分為左右兩段，分別為左下槽鋼（2）、右下槽鋼（2），左下槽鋼（2）和右下槽鋼（2）之間設(shè)有絕緣的隔磁板（4）。
2.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型飽和電抗器框架裝置，其特征在于：隔磁板（4）兩側(cè)分別設(shè)有左、右固定板（3），所述的左下槽鋼（2）通過(guò)左固定板、隔磁板（4）、右固定板與右下槽鋼（2）相連。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型飽和電抗器框架裝置，其特征在于：所述的左下槽鋼（2）與右下槽鋼（2）之間的距離為20-40mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型飽和電抗器框架裝置，其特征在于：所述的隔磁板（4）為環(huán)氧玻璃布板。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型飽和電抗器框架裝置，其特征在于：所述的上槽鋼（1）、下槽鋼（2）均為“]”形。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型飽和電抗器框架裝置，其特征在于：所述的上槽鋼（1）、下槽鋼（2）通過(guò)焊接固定在支撐柱的內(nèi)側(cè)，上槽鋼（1）與下槽鋼（2）之間存在間隙。
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