[實用新型]處理系統及用于工藝腔室中的基板載體

有效

• 申請號: 201520355163.1
• 申請日: 2015-05-28
• 公開（公告）號: CN205011826U
• 公開（公告）日: 2016-02-03
• 發明（設計）人: 約翰·M·懷特;王作乾
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/50
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 黃嵩泉

技術領域

本公開案的實施方式一般涉及一種永磁掩膜夾盤，并且更具體而言，涉及一種適用于垂直和其他處理系統中的永磁掩膜夾盤。

背景技術

出于眾多原因使用利用有機材料的光電裝置。許多用于制造這種裝置的材料是相對便宜的，所以有機光電裝置與無機裝置相比在成本優勢方面具有潛能。此外，有機材料的固有特性(如柔性)可用于特定應用，如用于柔性基板上的沉積或形成。有機光電裝置的實例包括有機發光裝置(organiclightemittingdevices；OLEDs)、有機光電晶體管、有機光伏電池和有機光電檢測器。

對于OLED，有機材料被認為與其他材料相比具有性能優勢。例如，一般可用適宜的摻雜物輕易調諧有機發光層發光的波長。OLED利用跨裝置施加電壓時發光的薄有機膜。OLED正在成為用于如平板顯示器、照明和背光等應用中的日益引人關注的技術。

通常使用機械力將基板以及精制金屬掩膜固持在基板支撐件上。其他用于在處理期間固持基板和掩膜的機械接觸可常因施加高機械力而造成基板損壞。進一步施加機械力以在處理期間將精制金屬掩膜固持在適當位置中。其他機械載體一般在邊緣處固持基板，因此在基板邊緣處產生高度集中的物理接觸，以便確保施加足夠夾緊力來穩固地拾取基板。集中于基板邊緣處的這種機械接觸不可避免地產生接觸污染或物理損壞，使基板不當地劣化。

較新的處理系統已并入用于夾持基板的替代機構以避免上述損壞，如使用靜電力將基板固持在適當位置中。靜電力可在處理期間將基板有效地固持在適當位置中，同時最小化系統的金屬部件與基板之間的接觸。然而，用于夾持基板的靜電力無法同時將掩膜有效地夾持在適當位置中。

因此，需要一種用于在處理系統中獨立于基板定位掩膜的方法和設備。

實用新型內容

一種適用于處理系統中的基板載體，所述基板載體包括永磁掩膜夾盤。永磁掩膜夾盤被配置以產生磁性夾持力用于將精制金屬掩膜緊固在基板和基板載體上方的適當位置中。可關聯支撐基座獨立定位永磁掩膜夾盤。

在一個實施方式中，描述一種處理系統。處理系統可包括工藝腔室，所述工藝腔室被配置以在基板上沉積材料。處理系統可進一步包括定位于工藝腔室中的永磁掩膜夾盤。永磁掩膜夾盤可包括定位裝置和多個耦接至定位裝置的永磁體，所述定位裝置被配置以控制提供給掩膜的磁力量值，以使得將掩膜磁性夾持在基板上方的適當位置中。

在另一實施方式中，描述一種用于工藝腔室中的基板載體。基板載體可包括支撐基座，所述支撐基座被配置以移動進出工藝腔室。支撐基座可包括基板支撐表面和電極組件，所述電極組件可操作以將基板靜電夾持至基板支撐表面。基板載體可進一步包括耦接至支撐基座的永磁掩膜夾盤。永磁掩膜夾盤可包括：夾盤主體，所述夾盤主體具有第一壁和第二壁，所述第一壁靠近支撐基座且所述第二壁遠離支撐基座；多個定位于夾盤主體中的永磁體，所述永磁體具有磁場；和定位裝置，以獨立于支撐基座移動永磁掩膜夾盤。

在另一實施方式中，描述一種用于在工藝腔室中夾持掩膜的方法。所述方法可包括將安置于基板載體的基板支撐表面上的基板移送到工藝腔室中。隨后，可朝向基板支撐表面移動磁性夾盤，以使得磁性夾盤的多個永磁體將掩膜夾持至安置于基板載體上的基板。隨后可透過掩膜將一層沉積在基板上。

附圖說明

因此，為可詳細理解本公開案的上述特征結構，可參照實施方式對上文簡要概述進行更詳細描述，其中一些實施方式示出于附圖中。然而，應注意，附圖僅示出本公開案的典型實施方式，并且因此這些附圖不欲視為本公開案范疇的限制，因為本公開案可允許其他同等有效的實施方式。

圖1A至圖1D示出示意圖，所述示意圖圖示根據本文描述的實施方式與磁性夾持組件一起使用的有機材料的蒸發源；

圖2示出根據本文描述的實施方式具有磁性夾持組件的沉積設備的示意性俯視圖；

圖3描繪根據一實施方式具有整合靜電夾盤的基板載體的一個實施方式的分解圖；

圖4A描繪根據一實施方式具有永磁掩膜夾盤的夾持組件；以及

圖4B至圖4E描繪根據本文描述的實施方式的永磁掩膜夾盤。

為了促進理解，在可能的情況下，相同元件符號已用于指代諸圖共用的相同元件。應設想，一個實施方式中的元件和特征結構可有利地并入其他實施方式而無需贅述。

具體實施方式