[實用新型]退火氧化設備

有效

• 申請號: 201520351700.5
• 申請日: 2015-05-27
• 公開（公告）號: CN204760405U
• 公開（公告）日: 2015-11-11
• 發明（設計）人: 張松;劉超;劉成法;徐大超;王鵬磊;季海晨;高云峰
• 申請（專利權）人: 上海大族新能源科技有限公司
• 主分類號: H01L31/18
• 分類號: H01L31/18
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 何沖

技術領域

本實用新型涉及太陽能電池制備領域，特別是涉及退火氧化設備。

背景技術

目前，高效、低成本為晶硅太陽電池發展的主要趨勢。其中，離子注入技術、表面SiO₂/SiNx疊層膜鈍化技術廣泛地應用在高效電池的制備工藝中。離子注入技術是一種把摻雜劑的原子引入固體中的一種材料改性方法。簡單地說，離子注入的過程，就是在真空系統中，用經過加速的，要摻雜的原子的離子照射(注入)固體材料，從而在所選擇的(即被注入的)區域形成一個具有特殊性質的表面層(注入層)。

在離子注入技術后續的過程中需要增加退火工藝以激活硅片內的摻雜源，使其從間隙式摻雜形成有效的替位式摻雜，同時高溫通入氧氣，在硅片表面形成一層氧化硅薄膜，達到良好的表面鈍化效果。一般地，離子注入技術的退火工藝是在離子注入后進行特定的濕法化學處理，甩干后放入管式設備中進行退火氧化處理，管式設備需經過上料、進管、升溫、氧化、降溫、退管、下料等流程，步驟較多，生產時間長。

實用新型內容

基于此，有必要提供一種可以節約生產時間的退火氧化設備。

一種退火氧化設備，包括：

爐體，一端設有進料口，另一端設有出料口，所述爐體包括相互連通的加熱區和冷卻區，所述冷卻區靠近所述出料口；

傳送裝置，位于所述爐體內部，自所述進料口向所述出料口延伸；

進氣裝置，位于所述爐體內部并與所述爐體連通；

加熱裝置，位于所述爐體外部，用于升高所述加熱區內的溫度；

冷卻裝置，位于所述爐體外部，用于控制所述冷卻區內的降溫速度；

保溫層，包覆所述爐體的外壁，并位于所述加熱裝置和所述冷卻裝置的外部；以及

控制裝置，分別與所述傳送裝置、所述加熱裝置、所述進氣裝置和所述冷卻裝置連接。

上述退火氧化設備，硅片經進料口進入爐體，經傳送裝置自進料口向出料口運動，硅片在爐體內經加熱區向冷卻區運動的過程中，進氣裝置不斷向爐體內輸送氧氣，控制裝置通過控制加熱裝置、冷卻裝置、進氣裝置以及傳送裝置進而調節加熱區內的升溫速度、爐體內氣體流量、冷卻區的降溫速度和硅片的傳送速度，同時保溫層保持爐體內溫度的穩定，從而完成硅片的退火工藝。硅片在從爐體中傳送并輸出的同時完成了硅片的退火氧化，減少了操作步驟，節約了生產時間。

在其中一個實施例中，所述進料口處設有進料擋板，所述出料口處設有出料擋板，所述進料擋板和所述出料擋板均與所述爐體連接。

在其中一個實施例中，還設有降溫裝置，所述降溫裝置位于所述保溫層外部，所述降溫裝置與所述控制裝置連接。

在其中一個實施例中，所述加熱裝置的數量為多個，多個所述加熱裝置對稱地設置在所述爐體外部。

在其中一個實施例中，所述冷卻裝置的數量為多個，多個所述冷卻裝置對稱地設置在所述爐體外部。

在其中一個實施例中，所述加熱區的數量為多個，每個所述加熱區均設有所述加熱裝置。

在其中一個實施例中，所述加熱裝置為電阻絲或紅外燈管。

在其中一個實施例中，所述傳送裝置為導軌或傳送帶。

附圖說明

圖1為一實施方式的退火氧化設備的截面圖；

圖2為圖1所示的退火氧化設備的側視圖；

附圖標記：

10、退火氧化設備；20、硅片；100、爐體；200、傳送裝置；300、進氣裝置；400、加熱裝置；500、冷卻裝置；600、保溫層；700、控制裝置；800、降溫裝置；110、加熱區；120、冷卻區；102、進料口；104、出料口；130、進料擋板；140、出料擋板。

具體實施方式

為了便于理解本實用新型，下面將參照相關附圖對本實用新型進行更全面的描述。附圖中給出了本實用新型的較佳的實施例。但是，本實用新型可以以許多不同的形式來實現，并不限于本文所描述的實施例。相反地，提供這些實施例的目的是使對本實用新型的公開內容的理解更加透徹全面。