[實(shí)用新型]一種真空滅弧室有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201520338624.4 | 申請(qǐng)日: | 2015-05-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN204577319U | 公開(公告)日: | 2015-08-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳或龍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 浙江森光電氣科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01H33/664 | 分類號(hào): | H01H33/664 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 325608 浙江省溫州*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 真空 滅弧室 | ||
1.一種真空滅弧室,包括靜觸頭、靜端蓋、陶瓷外殼、屏蔽罩、動(dòng)觸頭和動(dòng)端蓋;所述靜觸頭焊接于靜端蓋上;所述靜端蓋焊接于陶瓷外殼的上端;所述屏蔽罩的一端焊接于靜端蓋上;所述動(dòng)端蓋滑動(dòng)連接于屏蔽罩內(nèi);所述動(dòng)觸頭焊接在動(dòng)端蓋上且所述動(dòng)觸頭朝向所述屏蔽罩的內(nèi)部;其特征是:所述屏蔽罩朝向動(dòng)端蓋的端部上卡接有定位環(huán);所述定位環(huán)的內(nèi)環(huán)壁抵接于屏蔽罩且所述定位環(huán)的外環(huán)壁抵接于陶瓷外殼上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空滅弧室,其特征是:所述定位環(huán)的內(nèi)環(huán)壁上延伸有若干均朝向環(huán)心的定位齒;所述屏蔽罩上開設(shè)有若干與定位齒一一對(duì)應(yīng)并相互適配的定位槽。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空滅弧室,其特征是:若干所述定位齒均勻分布于定位環(huán)的內(nèi)環(huán)壁上。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于浙江森光電氣科技有限公司,未經(jīng)浙江森光電氣科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201520338624.4/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類





