[實用新型]基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201520338205.0
• 申請日: 2015-05-22
• 公開（公告）號: CN204684303U
• 公開（公告）日: 2015-10-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 鄭海榮;柴之芳;洪序達(dá);陳垚;胡戰(zhàn)利;梁棟;桂建保;劉新
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳先進技術(shù)研究院
• 主分類號: A61M1/02
• 分類號: A61M1/02
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 王濤

1.一種基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述血液輻照系統(tǒng)包括：X射線屏蔽罩，高壓發(fā)生器，中低壓電源，水冷機，工控機，人機交互裝置及設(shè)置在所述X射線屏蔽罩內(nèi)的兩個面陣列X光源、兩個濾過器、一血袋架；其中，

兩個所述面陣列X光源相對設(shè)置在所述血袋架的兩側(cè)；兩個濾過器相對設(shè)置，且分別位于兩個所述面陣列X光源的相對的兩側(cè)，以對所述面陣列X光源發(fā)射的X射線進行低能過濾；所述血袋架設(shè)置于所述兩個濾過器之間，用于放置待輻照血制品；

所述高壓發(fā)生器、所述中低壓電源、所述水冷機分別連接至兩個所述面陣列X光源及所述工控機；所述人機交互裝置連接至所述工控機，以控制所述高壓發(fā)生器、所述中低壓電源及所述水冷機的工作狀態(tài)。

2.如權(quán)利要求1所述的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述血液輻照系統(tǒng)包括一控制箱，所述高壓發(fā)生器、所述中低壓電源、所述水冷機及所述工控機設(shè)置在所述控制箱中。

3.如權(quán)利要求1所述的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述面陣列X光源為由M×N個所述X射線子發(fā)射單元排列組成的M×N陣列，其中M和N為整數(shù)，M≥1，N≥1。

4.如權(quán)利要求3所述的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述X射線子發(fā)射單元包括陰極、柵極及陽極；

其中，在所述陰極和所述柵極之間的偏置電壓作用下，所述陰極因場致電子發(fā)射效應(yīng)而發(fā)射電子束，所述電子束轟擊所述陽極發(fā)射X射線；所述人機交互裝置根據(jù)所述陰極的發(fā)射電流調(diào)整柵極電壓使所述發(fā)射電流為一恒定電流值。

5.如權(quán)利要求4所述的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述X射線子發(fā)射單元包括聚焦極，所述聚焦極聚焦所述陰極發(fā)射的電子束，聚焦后的所述電子束轟擊所述陽極發(fā)射X射線。

6.如權(quán)利要求3所述的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述X射線子發(fā)射單元包括陰極和陽極；

其中，所述陽極接地，所述陰極接負(fù)高壓；在所述陰極和所述陽極之間的偏置電壓作用下，所述陰極因場致電子發(fā)射效應(yīng)而發(fā)射電子束，所述電子束轟擊所述陽極發(fā)?射X射線；所述人機交互裝置根據(jù)所述陰極的發(fā)射電流調(diào)整陰極電壓使所述發(fā)射電流為一恒定電流值。

7.如權(quán)利要求5所述的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述陰極接地，所述柵極電壓的范圍為2kv至5kv，聚焦極電壓小于所述柵極電壓，陽極電壓為120kv至160kv范圍內(nèi)的一正電壓。

8.如權(quán)利要求5所述的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述血液輻照系統(tǒng)還包括一真空腔室，用于真空密封所述陰極、所述柵極、所述聚焦極及所述陽極；所述真空腔室為玻璃封裝腔室、金屬陶瓷封裝腔室或金屬真空腔室；所述真空腔室的真空度為10^-6～10^-11毫米汞柱；所述陽極通過陶瓷或云母與所述金屬陶瓷封裝腔室絕緣。

9.如權(quán)利要求6所述的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述血液輻照系統(tǒng)還包括一真空腔室，用于真空密封所述陰極和陽極；所述真空腔室為玻璃封裝腔室、金屬陶瓷封裝腔室或金屬真空腔室；所述真空腔室的真空度為10^-6～10^-11毫米汞柱。

10.如權(quán)利要求4至6任一項所述的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述陽極為透射靶或反射靶，所述透射靶的厚度小于100微米，由鎢或銀材料制成。

11.如權(quán)利要求8或9所述的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述真空腔室中還設(shè)置有水冷裝置，設(shè)于所述陽極遠(yuǎn)離所述陰極的一側(cè)，并連接所述水冷機；所述水冷裝置由聚乙烯材料制成。

12.如權(quán)利要求4至6任一項所述的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述陰極為碳納米管陰極。

13.如權(quán)利要求12所述的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述碳納米管陰極上設(shè)有碳納米管陣列，所述碳納米管陣列由化學(xué)氣相沉積法或電泳法制備得到。