[實用新型]一種氣液兩相霧化清洗裝置

有效

• 申請號: 201520330359.5
• 申請日: 2015-05-21
• 公開（公告）號: CN204746945U
• 公開（公告）日: 2015-11-11
• 發明（設計）人: 滕宇;吳儀
• 申請（專利權）人: 北京七星華創電子股份有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B13/00
• 代理公司: 上海天辰知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 31275
• 代理人: 陶金龍;張磊

1.一種氣液兩相霧化清洗裝置，其特征在于，所述裝置包括氣體管道、液體管道以及氣液兩相霧化噴嘴，所述氣體管道和液體管道的一端設置在擺臂上，其另一端連通所述氣液兩相霧化噴嘴以形成霧化顆粒，所述擺臂帶動所述氣液兩相霧化噴嘴在晶片邊緣與晶片中心之間做圓弧往復運動；其中，

所述氣液兩相霧化噴嘴包括噴嘴部件液體主管路、噴嘴部件氣體管路、液體出液孔以及氣體出氣孔；所述噴嘴部件液體主管路一端連接所述液體管道，另一端具有若干呈發散狀且等距離分布的噴嘴部件液體分管路，所述噴嘴部件液體分管路具有與所述氣液兩相霧化噴嘴的軸向方向呈預設角度傾斜的端面，所述端面上具有若干預設直徑的液體出液孔，所述噴嘴部件氣體管路側壁上設有氣體管路接口以連通所述氣體管道，各噴嘴部件液體分管路之間具有水平設置的扇形出氣網板，所述出氣網板上設有若干預設直徑的氣體出氣孔。

2.根據權利要求1所述的氣液兩相霧化清洗裝置，其特征在于，所述端面與所述氣液兩相霧化噴嘴的軸向方向之間的夾角為10°～80°。

3.根據權利要求1所述的氣液兩相霧化清洗裝置，其特征在于，所述氣液兩相霧化噴嘴的下端設有霧化顆粒導向管路，以去除與所述氣液兩相霧化噴嘴軸向方向不平行的霧化顆粒。

4.根據權利要求1所述的氣液兩相霧化清洗裝置，其特征在于，所述氣液兩相霧化噴嘴的上方設有噴嘴旋轉部件，以調整所述氣液兩相霧化噴嘴的噴射角度。

5.根據權利要求1所述的氣液兩相霧化清洗裝置，其特征在于，所述氣體管道上設有用于調節氣體流量的氣體流量調節閥，和/或所述液體管道上設有用于調節液體流量的第一液體流量調節閥。

6.根據權利要求1所述的氣液兩相霧化清洗裝置，其特征在于，所述液體出液孔和氣體出氣孔的預設直徑為1～300μm。

7.根據權利要求1所述的氣液兩相霧化清洗裝置，其特征在于，所述擺臂上還設有用于向晶片噴射液相流體的液相清洗管道。

8.根據權利要求7所述的氣液兩相霧化清洗裝置，其特征在于，所述液相清洗管道上設有用于調節液體流量的第二液體流量調節閥。

9.根據權利要求7所述的氣液兩相霧化清洗裝置，其特征在于，所述氣體管道、液體管道以及液相清洗管道上均設有用于控制開關的氣動閥。