[實用新型]一種高精度銅帶擦拭裝置有效
| 申請號: | 201520307655.3 | 申請日: | 2015-05-13 |
| 公開(公告)號: | CN204638604U | 公開(公告)日: | 2015-09-16 |
| 發明(設計)人: | 陳航 | 申請(專利權)人: | 順德工業(江蘇)有限公司 |
| 主分類號: | B08B1/02 | 分類號: | B08B1/02 |
| 代理公司: | 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 杜丹盛 |
| 地址: | 215634 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高精度 擦拭 裝置 | ||
1.一種高精度銅帶擦拭裝置,其包括底座、上蓋,所述底座和上蓋之間緊固連接形成空間位置,其特征在于:所述底座和上蓋之間所形成的空間位置內布置有上壓塊、下壓塊,所述上壓塊位于所述下壓塊的正上方位置,所述上壓塊、下壓塊的中間段設置有擦拭布結構,所述上蓋上固裝有氣缸,所述氣缸的活塞桿貫穿所述上蓋后緊固連接所述上壓塊,調整螺絲自下而上貫穿所述底座后分別緊固連接所述下壓塊的底端面的四角位置,所述上蓋的兩側自上而下布置有導柱,所述導柱的上端緊固連接所述上蓋,所述導柱分別貫穿對應位置的上壓塊后支承于對應位置的所述下壓塊的上端面,待擦拭銅帶的下表面支承于所述下壓塊所對應的擦拭布結構的上表面。
2.如權利要求1所述的一種高精度銅帶擦拭裝置,其特征在于:所述下壓塊對應于所述導柱的支承位置設置有定位凹槽,所述導柱的下端對應定位于所述定位凹槽。
3.如權利要求1或2所述的一種高精度銅帶擦拭裝置,其特征在于:所述底座、上蓋的四角之間分別設置有等高柱。
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