[實用新型]真空處理設備

有效

• 申請號: 201520295524.8
• 申請日: 2015-05-08
• 公開（公告）號: CN204644463U
• 公開（公告）日: 2015-09-16
• 發明（設計）人: 約亨·克勞瑟
• 申請（專利權）人: 馮·阿登納有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C16/54
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 劉明海;楊生平

技術領域

本發明涉及一種真空處理設備。

背景技術

通常，可使用真空處理設備，來處理基體，例如板形基體、玻璃板、晶片或其他載體，例如真空處理設備可設置成為真空涂層設備，用于在真空處理設備中涂層基體。在此，真空處理設備可具有多個室、部(隔間)或處理腔，以及具有運送系統，用于將待涂層的基體運送通過真空處理設備。真空處理設備的不同的室可借助于所謂的室壁或隔壁相互分開，例如對于水平連續涂層設備(串聯-設備)來說借助于豎直室壁或豎直隔壁。在此，每個室壁(或分隔壁)可以下述方式具有基體-轉運-開口(基體-轉運-縫隙)，即，基體可被運送通過室壁，例如從真空處理設備的第一室進入真空處理設備的第二室。

發明內容

根據不同的實施方式，可借助于室殼體提供室(隔室)，或可以在共同的室殼體中提供多個室(隔間)，其中室殼體例如可以具有多個室壁，其限制所述一個室或限制所述多個室并相互分開。

真空處理設備的室殼體例如可以是真空室的組成部分(主體)，例如是閘門室、緩沖室、轉運室或處理室(例如涂層室)的組成部分(主體)。在此，真空室的各功能或驅動類型可根據與室殼體一起使用的室蓋而限定。例如，具有一室蓋的室殼體可被用作為閘門室，且具有另一室蓋的室殼體可被用作為緩沖室或轉運室(或處理室)，和具有再一室蓋的室殼體可被用作為涂層室。為了能夠將室殼體抽真空，室殼體可以與前級真空泵組件和/或高中真空泵組件藕接。由此，可在借助于室蓋密封的室殼體中產生或提供至少一個前級真空(Vorvakuum)(或也可以是高真空)。

明顯地，室殼體和關聯的室蓋可以具有前級真空供應部，用于能夠實現將至少處理設備的真空室或整個處理設備抽真空。例如室蓋可以具有高真空泵組件，必須向其供應前級真空，以便能夠實現高真空泵的運行。可以借助于前級真空供應結構實現為室蓋供應前級真空，所述前級真空供應結構可以與前級真空泵組件藕接。此外，前級真空泵組件可以額外地直接與室殼體藕接，用于在處理設備的真空室中提供前級真空。

此外，真空處理設備可以具有運送系統用于運送基體通過真空處理設備，例如運送系統可以具有多個運送滾筒和相應地與運送滾筒藕接的驅動部。

為將基體帶入真空處理設備中，或將基體帶出真空處理設備，例如可使用一個或多個閘門室，一個或多個緩沖室，和/或一個或多個轉運室。為將至少一個基體帶入真空處理設備中，例如所述至少一個基體可置于通風的閘門室中，然后，帶有至少一個基體的閘門室可被抽真空，且基體可分批地從抽成真空的閘門室中被運送進入真空處理設備的鄰接的真空室中(例如緩沖室中)。例如，借助于緩沖室可維持基體，且可提供小于閘門室中的壓力。分批被置入的基體可借助于轉運室聚集成所謂的基體帶，使得在基體之間僅保留小的間隙，而基體在真空處理設備的相應處理室中被處理(例如被涂層)。替選地，基體也可直接從閘門室被置入轉運室中，而不使用緩沖室，這例如可導致延長的周期(將基體置入真空處理設備中所必須的時間)。

在處理室中例如可以將帶入的基體處理，其中處理室例如可以具有處理室蓋，可以將室殼體中的相應隔間覆蓋并真空密封地封閉。在處理室蓋上例如可以固定一個磁控管或多個磁控管，例如處理室蓋可以具有至少一個管式磁控管或雙管式磁控管或至少一個平面磁控管或雙平面磁控管。

根據不同的實施方式，室殼體例如可以借助于相應的室蓋被用作為閘門室，其中閘門室例如可以在前級真空范圍(例如最高到10^-2mbar)操作。此外，室殼體例如可以借助于相應的室蓋被用作為處理室或涂層室，其中，處理室或涂層室例如可在高真空范圍中(例如在處理真空的范圍中，例如在大致10^-3mbar至大致10^-7mbar的范圍中)被驅動。在此，所述高真空范圍例如可以借助于至少一個渦輪分子泵產生，分子泵可以集成在室蓋中并可以借助于前級真空供應結構提供前級真空。

明顯地，可以看到不同實施方式的一個方面在于，能夠實現室蓋的前級真空供應，其中當室蓋關閉時，即當室蓋放置在相應的室殼體上或至少放置在室殼體的一個室上時，這自動地提供。明顯地，用于真空室的前級真空供應部可以分成兩個單獨的前級真空供應結構，當室蓋開啟時它們自動地相互分開，當室蓋封閉時它們自動相應連接。因此，具有一部分前級真空供應部的室蓋可以遠離室殼體。