[實用新型]霜控制系統和冷凍切片機

有效

• 申請號: 201520293607.3
• 申請日: 2015-05-08
• 公開（公告）號: CN205015178U
• 公開（公告）日: 2016-02-03
• 發明（設計）人: 李治瑋;周陽;徐挺;沈于潔
• 申請（專利權）人: 賽默飛世爾（上海）儀器有限公司
• 主分類號: G01N1/06
• 分類號: G01N1/06;G01N1/28
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 王瑋;胡斌

1.用于組織切片儀器的霜控制系統，所述霜控制系統包括：

第一制冷供應部件(11);

第二制冷供應部件(12);

所述第一制冷供應部件(11)和所述第二制冷供應部件(12)分別提供冷媒以與所述組織切片儀器環境下的熱量進行熱交換使得在所述組織切片儀器內形成至少一個低溫位置；

位于所述至少一個低溫位置中的至少一個位置(14)并對該位置供熱的加熱件(13)，

其特征是：所述霜控制系統還包括控制單元(15)，所述控制單元(15)分別與所述第一制冷供應部件(11)、所述第二制冷供應部件(12)、和所述加熱件(13)連接。

2.根據權利要求1所述的霜控制系統，其特征是：所述至少一個低溫位置包括第一低溫位置(14A)，所述第一低溫位置(14A)為所述組織切片儀器的樣本頭所在的位置，其中所述樣本頭用于定位待切割的組織樣本，所述控制單元(15)選擇性地控制所述第一制冷供應部件(11)和所述第二制冷供應部件(12)以提供冷媒使得所述樣本頭的溫度在預定的溫度范圍內。

3.根據權利要求2所述的霜控制系統，其特征是：所述霜控制系統還包括第一制冷回路(C1)和第二制冷回路(C2)；所述至少一個低溫位置還包括第二低溫位置(14B)；所述第一制冷回路(C1)包括所述第一制冷供應部件(11)和冷卻器(16)，所述第一制冷供應部件(11)輸送冷媒通過所述冷卻器(16)，并且在所述第一制冷回路(C1)的一側形成所述第一低溫位置(14A)；所述第二制冷回路(C2)包括所述第二制冷供應部件(12)、蒸發器(17)、和所述冷卻器(16)，其中所述第一制冷回路(C1)與所述第二制冷回路(C2)共用所述冷卻器(16)，所述第二制冷供應部件(12)輸出冷媒通過所述蒸發器(17)和所述冷卻器(16)，并且在所述第二制冷回路(C2)的一側形成所述第二低溫位置(14B)，所述第二制冷回路(C2)的冷媒在所述冷卻器(16)中與所述第一制冷回路(C1)的冷媒進行熱交換。

4.根據權利要求3所述的霜控制系統，其特征是：所述第一制冷供應部件(11)為供給鹽水以作為所述第一制冷回路(C1)的冷媒的泵；所述第二制冷供應部件(12)為壓縮機。

5.根據權利要求3所述的霜控制系統，其特征是：所述加熱件(13)包括靠近所述樣本頭設置的第一加熱件(13A)，所述第一加熱件(13A)為帕爾貼元件；所述控制單元(15)控制所述第一加熱件(13A)對所述樣本頭加熱。

6.根據權利要求3所述的霜控制系統，其特征是：所述第二低溫位置(14B)為所述組織切片儀器內的、在除霜過程中期望生成霜的位置，所述第二低溫位置(14B)鄰近樣本臺，其中所述樣本臺用于冷凍待切割的組織樣本，所述蒸發器(17)在所述第二低溫位置(14B)上。

7.根據權利要求6所述的霜控制系統，其特征是：所述加熱件(13)還包括靠近所述蒸發器(17)設置的第二加熱件(13B)，所述第二加熱件(13B)為加熱墊板，所述控制單元(15)控制第二加熱件(13B)對所述蒸發器(17)加熱，從而去除所述蒸發器(17)上的霜。

8.根據權利要求3所述的霜控制系統，其特征是：所述樣本頭的預定的溫度范圍為－12℃至－15℃，當樣本頭的溫度大于－12℃時，所述控制單元控制所述第一制冷供應部件(11)和所述第二制冷供應部件(12)工作以提供冷媒；當樣本頭的溫度小于－15℃時，所述控制單元(15)控制第一制冷供應部件(11)工作以提供冷媒，控制所述第二制冷供應部件(12)停止工作。

9.冷凍切片機，其特征是包括根據權利要求1－2中任一項所述的霜控制系統。