[實(shí)用新型]一種非彈性X射線散射裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201520286567.X | 申請日： | 2015-05-06 |
| 公開（公告）號： | CN204649652U | 公開（公告）日： | 2015-09-16 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 閆帥;楊科;張玲;何燕;王娟;何上明;李愛國 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國科學(xué)院上海應(yīng)用物理研究所 |
| 主分類號： | G01N23/20 | 分類號： | G01N23/20 |
| 代理公司： | 上海智信專利代理有限公司 31002 | 代理人： | 鄧琪;楊希 |
| 地址： | 201800 上*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 彈性 射線 散射 裝置 | ||
1.一種非彈性X射線散射裝置，其特征在于，所述裝置包括：
底板；
供非彈性散射X射線通過并聚焦于一羅蘭圓上的毛細(xì)管；
供所述毛細(xì)管安裝于其上并調(diào)整該毛細(xì)管空間位置及姿態(tài)的毛細(xì)管控制組件，其滑動連接在所述底板上；
對從所述毛細(xì)管經(jīng)由所述羅蘭圓傳播的所述非彈性散射X射線進(jìn)行衍射的分析晶體，其位于所述羅蘭圓上并與所述毛細(xì)管的位置相對；
供所述分析晶體安裝于其上并調(diào)整該分析晶體空間位置及姿態(tài)的分析晶體控制組件，其滑動連接在所述底板上；
對經(jīng)所述分析晶體衍射并再次經(jīng)由所述羅蘭圓聚焦的所述非彈性散射X射線進(jìn)行探測的探測器，其具有位于所述羅蘭圓上并與所述分析晶體位置相對的探頭；以及
供所述探測器安裝于其上并調(diào)整該探測器空間位置及姿態(tài)的探測器控制組件，其滑動連接在所述底板上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非彈性X射線散射裝置，其特征在于，所述毛細(xì)管控制組件包括：
供所述毛細(xì)管置于其上的毛細(xì)管支撐機(jī)構(gòu)；
連接在所述毛細(xì)管支撐機(jī)構(gòu)下方的三維運(yùn)動控制器，其底部通過第一滑塊滑動連接于所述底板；以及
與所述三維運(yùn)動控制器連接的第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非彈性X射線散射裝置，其特征在于，所述分析晶體控制組件包括：
供所述分析晶體置于其上的晶體支架；
連接在所述晶體支架下方的第一五維運(yùn)動控制器；其底部通過第二滑塊滑動連接于所述底板；以及
與所述第一五維運(yùn)動控制器連接的第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非彈性X射線散射裝置，其特征在于，所述探測器控制組件包括：
L形支架，其具有豎直部以及連接在該豎直部頂端的水平部，所述豎直部底端通過第三滑塊滑動連接于所述底板；
連接在所述L形支架的水平部下表面上的第二五維控制器，其底部與所述探測器連接，以使該探測器吊在所述毛細(xì)管上方；以及
與所述第二五維控制器連接的第三驅(qū)動機(jī)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3或4所述的非彈性X射線散射裝置，其特征在于，所述裝置還包括設(shè)置在所述毛細(xì)管與所述分析晶體之間供所述非彈性散射X射線通過的充滿氦氣的管道。
6.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3或4所述的非彈性X射線散射裝置，其特征在于，所述底板上設(shè)有與所述毛細(xì)管控制組件、分析晶體控制組件以及探測器控制組件滑動連接的滑軌。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國科學(xué)院上海應(yīng)用物理研究所，未經(jīng)中國科學(xué)院上海應(yīng)用物理研究所許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201520286567.X/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇：一種全自動自燃點(diǎn)測定裝置
- 下一篇：一種高頻X射線探傷機(jī)
