[實用新型]一種遮擋雜散X光的裝置

有效

• 申請號: 201520286566.5
• 申請日: 2015-05-06
• 公開（公告）號: CN204649973U
• 公開（公告）日: 2015-09-16
• 發明（設計）人: 閆帥;楊科;蔣升;張麗麗;王華;梁東旭;蘭旭穎
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海應用物理研究所
• 主分類號: G01T1/00
• 分類號: G01T1/00
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司 31002
• 代理人: 鄧琪;楊希

1.一種遮擋雜散X光的裝置，其特征在于，所述裝置包括：

可伸縮的組合支架；

光闌底座，其固定連接于所述組合支架；

光闌頂座，其可拆卸地吸附于所述光闌底座；

具有光闌孔的鉭片光闌，其固定連接于所述光闌頂座；以及

用于調節所述鉭片光闌姿態以使所述光闌孔供一聚焦X光束通過的運動控制機構，其連接在所述組合支架上方；

其中，所述光闌底座和光闌頂座分別開設有與所述光闌孔位置對齊的通光孔。

2.根據權利要求1所述的遮擋雜散X光的裝置，其特征在于，所述光闌孔的橫切面為楔形，且該光闌孔的孔徑沿所述聚焦X光束的入射方向由小到大。

3.根據權利要求1所述的遮擋雜散X光的裝置，其特征在于，所述鉭片光闌通過一中空的光闌支架連接于所述光闌頂座。

4.根據權利要求3所述的遮擋雜散X光的裝置，其特征在于，所述光闌支架的一端與所述鉭片光闌粘結，另一端外緣具有帶膠層的螺紋；所述光闌頂座的通光孔的孔壁設有用于與所述光闌支架連接的螺紋。

5.根據權利要求1所述的遮擋雜散X光的裝置，其特征在于，所述光闌底座的面向所述光闌頂座的一側表面上嵌有底座磁鐵，所述光闌頂座的面向所述光闌底座的一側表面上嵌有與所述底座磁鐵位置對應且極性相反的頂座磁鐵。

6.根據權利要求1所述的遮擋雜散X光的裝置，其特征在于，所述裝置還包括用于使所述光闌底座與所述光闌頂座配合定位的定位機構，其包括：開設在所述光闌底座的面向所述光闌頂座的一側表面上的定位凹槽；以及鑲嵌在所述光闌頂座的面向所述光闌底座的一側表面上用于嵌入所述定位凹槽的定位鋼珠。

7.根據權利要求6所述的遮擋雜散X光的裝置，其特征在于，所述定位凹槽的數量為三個，且該三個定位凹槽的橫切面分別呈圓柱形、楔形和錐形。

8.根據權利要求1所述的遮擋雜散X光的裝置，其特征在于，所述運動控制機構包括：從上至下依次連接的Y向移動平臺、X向移動平臺、Z向移動平臺、傾角位移臺和轉動平臺；以及五個分別驅動所述Y向移動平臺、X向移動平臺、Z向移動平臺、傾角位移臺和轉動平臺運動的驅動電機，其中，所述轉動平臺與所述組合支架連接。

9.根據權利要求1所述的遮擋雜散X光的裝置，其特征在于，所述組合支架為由三根可相對于彼此移動的鋁合金條組成的三角形結構。

10.根據權利要求1所述的遮擋雜散X光的裝置，其特征在于，所述裝置還包括一位于所述運動控制機構上方的X向滑軌，所述運動控制機構通過滑軌轉接塊滑動連接于所述X向滑軌。