[實(shí)用新型]機(jī)電反饋控制移相干涉儀

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201520278052.5
• 申請(qǐng)日: 2015-04-28
• 公開（公告）號(hào): CN204881512U
• 公開（公告）日: 2015-12-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 林燕彬
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 林燕彬
• 主分類號(hào): G01B9/02
• 分類號(hào): G01B9/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種機(jī)電反饋控制移相干涉儀，其特征在于：所述機(jī)電反饋控制移相干涉儀主要包括激光器(1)、擴(kuò)束系統(tǒng)(2)、多個(gè)分束鏡、CCD(6)、參考鏡(8)和壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器(9)，其中，多個(gè)分束鏡包括第一分束鏡(3)和第二分束鏡(4)，第一分束鏡(3)設(shè)置在擴(kuò)束系統(tǒng)(2)后側(cè)，第二分束鏡(4)對(duì)應(yīng)第一分束鏡(3)設(shè)置，被測(cè)件(11)設(shè)置在第一分束鏡(3)后側(cè)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)電反饋控制移相干涉儀，其特征在于：所述擴(kuò)束系統(tǒng)(2)由多個(gè)透鏡構(gòu)成。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)電反饋控制移相干涉儀，其特征在于：所述第二分束鏡(4)和CCD(6)之間設(shè)置有成像透鏡構(gòu)成的成像系統(tǒng)(5)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)電反饋控制移相干涉儀，其特征在于：所述壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器(9)配設(shè)有壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)控制器(10)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)電反饋控制移相干涉儀，其特征在于：所述壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器(9)與第二分束鏡(4)之間設(shè)置有光電探測(cè)器(7)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5之一所述的機(jī)電反饋控制移相干涉儀，其特征在于：所述參考鏡(8)設(shè)置在壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器(9)與第一分束鏡(3)之間。