[實(shí)用新型]顯示裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201520272135.3 | 申請(qǐng)日: | 2015-04-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN204679743U | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-09-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳政雄;陳培杰;王兆祥;陳奕靜 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 群創(chuàng)光電股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1343 | 分類號(hào): | G02F1/1343 |
| 代理公司: | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 王濤 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)灣新竹*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示裝置 | ||
1.一種顯示裝置,其特征在于,所述的顯示裝置包括:
一陣列基板,具有至少一像素結(jié)構(gòu),所述像素結(jié)構(gòu)包含:
一第一導(dǎo)電層,具有沿一第一方向延伸的一走線部,所述走線部具有一第一側(cè)及與所述第一側(cè)相對(duì)的一第二側(cè);
一第二導(dǎo)電層,設(shè)置于所述第一導(dǎo)電層之上,并具有二接觸部,所述接觸部分別對(duì)應(yīng)設(shè)置于所述第一側(cè)及所述第二側(cè);及
一氧化物半導(dǎo)體層,設(shè)置于所述第一導(dǎo)電層與所述第二導(dǎo)電層之間,其中,所述氧化物半導(dǎo)體層的兩端分別接觸所述接觸部,并沿所述第一方向具有一第一寬度,所述接觸部的其中之一與所述第一導(dǎo)電層具有一重疊區(qū),所述重疊區(qū)沿所述第一方向具有最大的一第二寬度,所述第一寬度小于所述第二寬度;
一對(duì)向基板;以及
一顯示介質(zhì)層,設(shè)置于所述陣列基板與所述對(duì)向基板之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其特征在于,所述第一導(dǎo)電層還具有一突出部,所述突出部由所述走線部的所述第二側(cè)延伸凸出。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示裝置,其特征在于,所述走線部與所述接觸部的其中之一具有部分重疊,所述突出部與所述接觸部的其中另一具有部分重疊。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其特征在于,所述氧化物半導(dǎo)體層具有一連接部及位于所述連接部?jī)蓚?cè)的二端部,所述連接部沿所述第一方向的寬度小于所述端部的其中之一沿所述第一方向的寬度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其特征在于,所述像素結(jié)構(gòu)更包含一第一絕緣層,所述第一絕緣層設(shè)置于所述氧化物半導(dǎo)體層與所述第二導(dǎo)電層之間,所述第一絕緣層具有對(duì)應(yīng)于所述接觸部的兩開(kāi)口,且所述接觸部經(jīng)由所述開(kāi)口與所述氧化物半導(dǎo)體層接觸。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示裝置,其特征在于,所述開(kāi)口的其中之一使所述氧化物半導(dǎo)體層的其中之一末端完全露出。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示裝置,其特征在于,所述第一絕緣層覆蓋所述氧化物半導(dǎo)體層的其中另一末端。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其特征在于,所述像素結(jié)構(gòu)更包含一第二絕緣層及一電極,所述第二絕緣層設(shè)置于所述第二導(dǎo)電層上,所述電極設(shè)置于所述第二絕緣層上,且所述電極通過(guò)所述第二絕緣層的一通孔連接所述接觸部的其中之一。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示裝置,其特征在于,所述像素結(jié)構(gòu)更包含一遮光棒,所述遮光棒設(shè)置于所述第一導(dǎo)電層的所述第一側(cè),且所述通孔對(duì)應(yīng)位于所述遮光棒與所述走線部之間。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示裝置,其特征在于,所述第二導(dǎo)電層更具有沿一第二方向延伸的一導(dǎo)線部,所述導(dǎo)線部與所述接觸部的其中另一連接,且所述第一方向與所述第二方向?qū)嵸|(zhì)上垂直。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





