[實用新型]一種一體式巖體打磨拋光裝置

有效

• 申請號: 201520250973.0
• 申請日: 2015-04-23
• 公開（公告）號: CN204700704U
• 公開（公告）日: 2015-10-14
• 發明（設計）人: 李曉軍;郭玲
• 申請（專利權）人: 西安科技大學
• 主分類號: B24B19/22
• 分類號: B24B19/22;G01N1/32
• 代理公司: 西安永生專利代理有限責任公司 61201
• 代理人: 曹宇飛

技術領域

本實用新型屬于巖土工程試驗技術領域，尤其是涉及一種巖體的打磨與拋光裝置。

背景技術

通常，當進行SEM試驗時，需將樣品先進行打磨，后拋光。現有大多的打磨和拋光儀器是分開的，不能在同一儀器上實現既打磨又拋光的功能，因此，在實驗時，使得儀器占地面積較大、設備復雜且數量多，而且一次只能進行一個樣品。在拋光的過程中分為粗拋與精拋，精拋需要進行人為手動操作，操作過程中，需手的力度保持一致，使打磨的面是均勻、平整以保證掃描的效果精準而清晰，稍有不慎力度控制不當則會磨過或者精磨不到位。

因此，在實驗室對巖體進行制作試樣時，均不同程度地存在操作不便、儀器工藝繁雜、試驗效果不可靠、效率不高等多種缺陷和不足。

發明內容

為了克服上述現有的巖體試樣打磨與拋光過程中所存在的不足，本實用新型提供了一種結構簡單、打磨與拋光效果好且可多個樣品同時進行的一體式巖體打磨拋光裝置。

本實用新型為了實現上述目的所采用的技術方案是：該裝置包括機箱，在機箱側壁上設置有控制開關，機箱內設置有與控制開關相連的調速電機，該調速電機的動力輸出軸延伸至機箱的頂部，并在其上水平設置有打磨拋光轉盤，在機箱的外側設置有支架，在支架的頂部設置有與打磨拋光轉盤平行的平衡桿，在平衡桿的中部設置有至少1個可上下移動的調節螺桿，在調節螺桿的下端設置有可固定巖體試件的固定板，固定板位于打磨拋光轉盤的上方且下表面與打磨拋光轉盤平行。

上述固定板與打磨拋光轉盤的垂直距離小于等于50mm，以保證試驗操作的簡便和精準。

上述調節螺桿是2～4個，并且在同一圓周上平均分布，可以同時多個試?件同時操作，提高打磨拋光效率。

上述固定板正方體結構，其厚度為1～2cm，其厚度小于等于邊長。

本實用新型的一體式巖體打磨拋光裝置，是利用調節螺桿將巖體試件固定在打磨拋光轉盤的上方，通過調節螺桿可適時調整巖體試件的高度，使巖體試件的待處理面與打磨拋光轉盤剛好接觸，通過調節機箱內的電機轉速調節打磨拋光轉盤的轉速，通過更換不同砂質及所需的研磨粉末進行打磨與拋光切換，本實用新型將巖體打磨拋光一體化制作，結構簡單、設計合理、使用操作簡便且可機動精拋，節省體力、試驗結果穩定可靠，適于推廣應用。

附圖說明

圖1為實施例1的打磨拋光裝置結構示意圖。

圖2為圖1中調節螺桿的結構示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖和實施例，對本實用新型的技術方案做進一步的詳細描述。

實施例1

如圖l和圖2所示，本實施例的一體式巖體打磨拋光裝置是由左底座1、左支撐桿2、平衡桿3、左調節螺桿4、右調節螺桿5、固定板6、打磨拋光轉盤7、右支撐桿8、右底座9、機箱10、調速電機11以及控制開關12構成。

本實施例的左底座1和右底座9是固定放置在實驗臺面上，呈長方體結構，長為17cm，寬10cm，高3.5cm，分別用于固定左支撐桿2和右支撐桿8，與左支撐桿2、右支撐桿8組成本實施例的支架。左底座1和右底座9的間隔為36cm。左支撐桿2和右支撐桿8呈圓柱體，其直徑為30mm，高度為35cm，左支撐桿2和右支撐桿8的頂部之間用螺栓固定安裝有平衡桿3，該平衡桿3的長為56cm，寬為5cm，厚為3cm，呈長方體，在平衡桿3的中部加工有兩個并列的螺孔，在兩個螺孔內安裝有調節螺桿，本實施例的調節螺桿分為左調節螺桿4和右調節螺桿5，本實施例的左調節螺桿4和右調節螺桿5的直徑均為30mm，用于調節巖體試件的高度，左調節螺桿4和右調節螺桿5的底端加工有內螺紋，通過螺紋連接方式與固定板6的上表面中部連接，本實施例的固定板6是一個長為2cm，寬為2cm、厚度為1.5cm的有機玻璃方形體，其下表面與打磨拋光轉盤7平行，打磨或拋光時將巖體試件用強力膠粘結在?固定板6上。在固定板6下方的左底座1和右底座9之間安裝有機箱10，本實施例的機箱10是長方殼體結構，在其側壁上安裝有控制開關12，控制開關12通過導線與調速電機11連接，控制調速電機11的轉速大小，該調速電機11安裝在機箱10內，其動力輸出軸向上延伸至機箱10的頂部外側，在調速電機11的動力輸出軸上套裝有打磨拋光轉盤7，該打磨拋光轉盤7的外部直徑為18cm，內部直徑為16cm，屬于普通轉盤，可以放置砂紙或者拋光粉等實現打磨或拋光，為了保證試驗操作的簡便和精準，打磨拋光轉盤7與固定板6之間的縱向距離盡量不超過50mm，本實施例的距離是15mm，還可以根據待打磨試件大小進行適當調整。