[實(shí)用新型]一種真空鍍膜設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201520245919.7 | 申請(qǐng)日: | 2015-04-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN204589286U | 公開(公告)日: | 2015-08-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 康劍莉;郎文昌;曹艷 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 溫州職業(yè)技術(shù)學(xué)院 |
| 主分類號(hào): | C23C14/02 | 分類號(hào): | C23C14/02 |
| 代理公司: | 溫州甌越專利代理有限公司 33211 | 代理人: | 李友福 |
| 地址: | 325000 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 真空鍍膜 設(shè)備 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種真空鍍膜設(shè)備。
背景技術(shù)
真空鍍膜是指在真空環(huán)境下利用物理或化學(xué)手段在工件表面沉積一層具有特殊用途膜層的表面處理方法,由于在通常情況下,人們?cè)趯?duì)工件進(jìn)行鍍膜前都需先對(duì)工件進(jìn)行預(yù)加熱處理,因此在現(xiàn)有技術(shù)中,真空鍍膜箱體內(nèi)均設(shè)置有預(yù)加熱裝置,但是現(xiàn)有的預(yù)加熱裝置往往是固定不可調(diào)節(jié)的,從而致使所述預(yù)加熱裝置無法根據(jù)實(shí)際所需相應(yīng)調(diào)整加熱角度及位置,進(jìn)而容易造成被加熱處理的工件受熱不均,大大影響后續(xù)鍍膜的效果。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足,本實(shí)用新型提供了一種可使工件均勻受熱并有效改善后續(xù)鍍膜效果的真空鍍膜設(shè)備。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供了一種真空鍍膜設(shè)備,包括真空鍍膜箱體,所述真空鍍膜箱體的內(nèi)底面上固定有一底座,所述的底座上設(shè)置有用于放置工件的工作臺(tái)和驅(qū)動(dòng)所述工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),所述真空鍍膜箱體的內(nèi)頂端上設(shè)置有滑移導(dǎo)軌,所述的滑移導(dǎo)軌上滑動(dòng)均布有多個(gè)預(yù)加熱裝置,所述的預(yù)加熱裝置包括有滑塊、金屬撓性軟管、反射罩、加熱器,所述的滑塊滑動(dòng)設(shè)置于滑移導(dǎo)軌上并在滑動(dòng)后通過鎖緊螺栓與滑移導(dǎo)軌形成固定,金屬撓性軟管的一端與所述滑塊固定,所述的反射罩為半圓形,并固定在金屬撓性軟管的另一端上,所述的加熱器固裝于反射罩內(nèi)并朝向工作臺(tái)。
本實(shí)用新型的有益效果是:采用上述結(jié)構(gòu),由于所述的預(yù)加熱裝置是安裝于滑移導(dǎo)軌上,因此其加熱位置可根據(jù)所需進(jìn)行調(diào)節(jié),同時(shí),由于所述的加熱器是裝設(shè)在反射罩內(nèi),而所述反射罩與滑塊之間通過金屬撓性軟管連接,因此根據(jù)金屬撓性軟管可任意彎曲轉(zhuǎn)動(dòng)變形的特性,從而可根據(jù)所需對(duì)加熱器的加熱角度進(jìn)行調(diào)節(jié)。此外,由于所述用于放置工件的工作臺(tái)還可在驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的作用下旋轉(zhuǎn),因此通過上述結(jié)構(gòu)設(shè)置,可有效確保工件更加均勻地受熱,從而有利于改善后續(xù)鍍膜效果。
本實(shí)用新型可進(jìn)一步設(shè)置為半圓形反射罩的外表面上涂設(shè)有惰性材料層,所述的惰性材料層優(yōu)選氧化鋁涂層。半圓形反射罩的開口端上可拆卸安裝固定有封口板,所述的可拆卸安裝固定優(yōu)選螺紋連接配合。
采用上述結(jié)構(gòu),在半圓形反射罩的外表面涂設(shè)惰性材料層,可在后續(xù)鍍膜階段對(duì)反射罩形成有效保護(hù)。同理,所述封口板在人們對(duì)工件預(yù)加熱時(shí)打開,而在鍍膜階段封閉,從而對(duì)加熱器形成有效保護(hù)。
本實(shí)用新型還可進(jìn)一步設(shè)置為所述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括有電機(jī)、連接軸和軸承,連接軸的一端與電機(jī)傳動(dòng)連接,連接軸的另一端與工作臺(tái)固定,所述的軸承裝設(shè)在連接軸與底座之間。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為圖1的I部放大圖。
具體實(shí)施方式
如圖1、2所示給出了一種真空鍍膜設(shè)備,包括真空鍍膜箱體1,所述真空鍍膜箱體1的內(nèi)底面上固定有一底座2,所述的底座2上設(shè)置有用于放置工件的工作臺(tái)3和驅(qū)動(dòng)所述工作臺(tái)3旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)4,所述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)4包括有電機(jī)41、連接軸42和軸承43,連接軸42的一端與電機(jī)41傳動(dòng)連接,連接軸42的另一端與工作臺(tái)3固定,所述的軸承43裝設(shè)在連接軸42與底座2之間。所述真空鍍膜箱體1的內(nèi)頂端上設(shè)置有滑移導(dǎo)軌5,所述的滑移導(dǎo)軌5上滑動(dòng)均布有多個(gè)預(yù)加熱裝置6,所述的預(yù)加熱裝置6包括有滑塊61、金屬撓性軟管62、反射罩63、加熱器64,所述的滑塊61滑動(dòng)設(shè)置于滑移導(dǎo)軌5上并在滑動(dòng)后通過鎖緊螺栓7與滑移導(dǎo)軌5形成固定,金屬撓性軟管62的一端與所述滑塊61固定,所述的反射罩63為半圓形,并固定在金屬撓性軟管62的另一端上,所述的加熱器64固裝于反射罩63內(nèi)并朝向工作臺(tái)3。半圓形反射罩63的外表面上涂設(shè)有惰性材料層8,所述的惰性材料層8優(yōu)選氧化鋁涂層。半圓形反射罩63的開口端上可拆卸安裝固定有封口板9,所述的可拆卸安裝固定優(yōu)選螺紋連接配合。
采用上述結(jié)構(gòu),由于所述的預(yù)加熱裝置6是安裝于滑移導(dǎo)軌5上,因此其加熱位置可根據(jù)所需進(jìn)行調(diào)節(jié),同時(shí),由于所述的加熱器64是裝設(shè)在反射罩63內(nèi),而所述反射罩63與滑塊61之間通過金屬撓性軟管62連接,因此根據(jù)金屬撓性軟管62可任意彎曲轉(zhuǎn)動(dòng)變形的特性,從而可根據(jù)所需對(duì)加熱器64的加熱角度進(jìn)行調(diào)節(jié)。此外,由于所述用于放置工件的工作臺(tái)3還可在驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)4的作用下旋轉(zhuǎn),因此通過上述結(jié)構(gòu)設(shè)置,可有效確保工件更加均勻地受熱,從而有利于改善后續(xù)鍍膜效果。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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