[實用新型]一種氣體發生機構

有效

• 申請號: 201520239859.8
• 申請日: 2015-04-20
• 公開（公告）號: CN204598495U
• 公開（公告）日: 2015-08-26
• 發明（設計）人: 黃強
• 申請（專利權）人: 重慶藍岸通訊技術有限公司
• 主分類號: H05K5/02
• 分類號: H05K5/02
• 代理公司: 重慶為信知識產權代理事務所(普通合伙) 50216
• 代理人: 陳千

1.一種氣體發生機構，其特征在于：設置有第一容納腔(1)和第二容納腔(2)，其中第一容納腔(1)用于填充NaN₃，第二容納腔(2)用于裝填NH₄NO₃，所述第一容納腔(1)和第二容納腔(2)之間通過隔膜(3)隔離，且第一容納腔(1)的腔室氣壓大于第二容納腔(2)的腔室氣壓，在所述第一容納腔(1)的側壁設置有電極接口(4)，該電極接口(4)上連接有一根電弧(5)，所述電弧(5)伸入所述第一容納腔(1)的腔室內，且該電弧(5)的端部正對所述隔膜(3)，在所述第二容納腔(2)的側壁上還設置有噴氣口(6)。

2.根據權利要求1所述的一種氣體發生機構，其特征在于：所述隔膜(3)為可被電弧擊穿的塑料薄膜。

3.根據權利要求1所述的一種氣體發生機構，其特征在于：在所述噴氣口(6)安裝有用于連接氣囊的導管。

4.根據權利要求1所述的一種氣體發生機構，其特征在于：所述第一容納腔(1)中預裝有NaN₃，所述第二容納腔(2)中預裝有NH₄NO₃。