[實用新型]水平連續式磁控濺射鍍膜機在線面板恒溫加熱裝置

有效

• 申請號: 201520225919.0
• 申請日: 2015-04-15
• 公開（公告）號: CN204570026U
• 公開（公告）日: 2015-08-19
• 發明（設計）人: 萬志;黃國興
• 申請（專利權）人: 赫得納米科技（昆山）有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 南京縱橫知識產權代理有限公司 32224
• 代理人: 董建林;劉艷艷

技術領域

本實用新型涉及一種水平連續式磁控濺射鍍膜機在線面板恒溫加熱裝置，具體涉及一種在水平式真空濺鍍鍍膜時，待鍍面板在進入真空腔的每一個腔室時，都能給待鍍面板加熱，保證面板恒溫，并實時檢測溫度并控制加熱的裝置，屬于機械技術領域。

背景技術

抗反射導電膜是一種具有良好透明導電性能的金屬化合物，具有禁帶寬、可見光譜區光透射率高和電阻率低等特性，廣泛地應用于平板顯示器件、太陽能電池、特殊功能窗口涂層及其他光電器件領域，是目前LCD、PDP、OLED、觸摸屏等各類平板顯示器件唯一的透明導電電極材料。作為平板顯示器件的關鍵基礎材料，其隨著平板顯示器件的不斷更新和升級而具有更加廣闊的市場空間。

近年來，行業內普遍證實：隨著基底溫度的升高，表面電阻迅速降低，可見光透過率和紅外反射率都有明顯提高，?高的基底溫度改善了膜的結晶，減少了晶界，使膜的遷移率和Sn^4?+?載流子密度有所提高，從而降低了表面電阻，同時載流子密度的提高減少了黑色InO?的生成，提高了可見光透過率。

因此，抗反射導電膜行業內對面板鍍膜有了更高的品質要求。除在原有影響品質因素之外，真空腔室內對面板鍍前加熱是解決問題的關鍵。為了更好的滿足此工藝，立式磁控鍍膜機采用玻璃加熱采用紅外線加熱，設計簡單，滿足工藝的需要，但自身存在一些問題，導致其鍍抗反射導電膜品質低，產能少。許多公司采用水平式連續式磁控鍍膜機可以更好克服上述問題，但在抗反射導電膜前在面板上均勻加熱就出現了瓶頸。

實用新型內容

目的：為了克服現有技術中存在的不足，本實用新型提供一種水平連續式磁控濺射鍍膜機在線面板恒溫加熱裝置，在真空環境下給被鍍材料基底進行均勻加熱，能夠降低導電膜的方阻和提高可見光透過率。

技術方案：為解決上述技術問題，本實用新型采用的技術方案為：

一種水平連續式磁控濺射鍍膜機在線面板恒溫加熱裝置，其特征在于：包括真空腔室、工作平臺、傳輸導軌、傳輸基板、銅傳導板和銅盤電極；工作平臺設置在真空腔室內部，工作平臺上平行設置有一對傳輸導軌，傳輸導軌滑動連接水平設置有用于傳輸待鍍面板的傳輸基板；傳輸基板上水平設置有銅傳導板，銅傳導板裝有內嵌式熱電偶測溫棒和PTC恒溫低壓加熱元件，且PTC恒溫低壓加熱元件的電源引線和熱電偶測溫棒引線分別與傳輸基板上的銅盤電極對應連接；

真空腔室底部設置有旋轉式導電輪電極，旋轉式導電輪電極包括兩組：其中一組為電源電極，另一組為測溫電極；

當傳輸基板到達一真空腔室工作時，傳輸基板的銅盤電極與旋轉式導電輪電極對應接觸進行電連接，從而進行待鍍面板實時溫度檢測和加熱的控制。

所述的水平連續式磁控濺射鍍膜機在線面板恒溫加熱裝置，其特征在于：真空腔室側壁預留的KF40口處設置有KF40法蘭系列真空電極，KF40法蘭系列真空電極通過導線與旋轉式導電輪電極相連。

所述的水平連續式磁控濺射鍍膜機在線面板恒溫加熱裝置，其特征在于：所述銅傳導板與待鍍面板的接合面上開設有排氣槽和排氣孔。

作為優選方案，所述的水平連續式磁控濺射鍍膜機在線面板恒溫加熱裝置，其特征在于：所述銅傳導板與傳輸基板連接處采用多個不銹鋼方塊支撐，使銅傳導板與傳輸基板之間留有間隙，保證傳輸基板從大氣狀態進入到真空狀態不會溢氣影響鍍膜真空。

作為優選方案，所述的水平連續式磁控濺射鍍膜機在線面板恒溫加熱裝置，其特征在于：所述在線面板恒溫加熱裝置還包括絕緣底座，旋轉式導電輪電極通過絕緣底座固定安裝在真空腔室底部。

作為優選方案，所述的水平連續式磁控濺射鍍膜機在線面板恒溫加熱裝置，其特征在于：所述在線面板恒溫加熱裝置還包括鐵弗龍絕緣法蘭墊片，銅盤電極通過鐵弗龍絕緣法蘭墊片進行絕緣固定安裝在傳輸基板上。