[實用新型]自走式擦地裝置

有效

• 申請號: 201520224087.0
• 申請日: 2015-04-14
• 公開（公告）號: CN204600371U
• 公開（公告）日: 2015-09-02
• 發明（設計）人: 李武;邱垚熙
• 申請（專利權）人: 深圳市恒潤暉光電科技有限公司
• 主分類號: A47L11/24
• 分類號: A47L11/24;A47L11/40
• 代理公司: 廣東國欣律師事務所 44221
• 代理人: 李文

1.一種自走式擦地裝置，其特征在于，包含有：

一本體，將前進方向定義為前方，該本體的底部設有多個輪體以及一吸塵口，該吸塵口位于該本體的底部前方，且該本體具有一與該吸塵口相通的集塵部；以及

一擦地模塊，可拆卸的裝設于該本體的底部，并位于該吸塵口后方，該擦地模塊具有一水箱、一第一抺布、兩個軸桿及一第二抺布；該水箱具有一第一結合區及一第二結合區，該第一結合區位于該第二結合區前方，該第一結合區設置有一滲水部，該滲水部下方形成至少一滲水孔；該第一抺布呈環繞狀，且環繞于該兩個軸桿，該兩個軸桿將該第一抺布的兩側撐開，該兩個軸桿相對該本體前進方向而橫向樞設于該水箱的第一結合區，而將該第一抺布橫向設置于該第一結合區，該第一抺布位于該滲水部的下方；當本體于地面或平面行進時，該第一抺布與地面摩擦接觸，而使該第一抺布沿著該兩個軸桿繞行運轉；該第二抺布結合于該第二結合區；當本體于地或平面行進時，該第二抺布與地面摩擦接觸。

2.依據權利要求1所述的自走式擦地裝置，其特征在于，該水箱由一上蓋及一底蓋所組成，該上蓋于該第一結合區橫向形成有一殼體，該殼體凹入向下延伸形成至少一凸塊，該底蓋于該第一結合區橫向形成有一片體，且該片體位置相對應該殼體，該片體與該殼體結合形成該滲水部，該片體開設有至少一開孔，該至少一凸塊數量及位置是一一對應該至少一開孔，該至少一凸塊位于該至少一開孔內，該至少一開孔的孔徑略大于該至少一凸塊外緣，使該至少一開孔與該至少一凸塊之間形成一滲水孔。

3.依據權利要求2所述的自走式擦地裝置，其特征在于，該底蓋于該第一結合區橫向凹設有兩對第一凹槽，該兩個軸桿分別置入該兩對第一凹槽，樞設于該底蓋。

4.依據權利要求2所述的自走式擦地裝置，其特征在于，還包含一滾輪；其中，該底蓋于該第二結合區的后方還設有一第二凹槽，該滾輪置入該第二凹槽，與該底蓋結合。

5.依據權利要求2所述的自走式擦地裝置，其特征在于，還包含一密封蓋，其中：該底蓋的第二結合區形成有一注水口，該密封蓋蓋合該注水口。

6.依據權利要求2所述的自走式擦地裝置，其特征在于，該底蓋于該第二結合區底部設有多個氈黏布，該第二抺布可拆卸地氈黏這些氈黏布。

7.依據權利要求2所述的自走式擦地裝置，其特征在于，該上蓋的底緣形成凹槽，該底蓋的上緣形成凸條，該凸條置入該凹槽內，該上蓋與該底蓋結合形成防水密合。

8.依據權利要求1所述的自走式擦地裝置，其特征在于，該水箱于該第一結合區兩側各設有一開槽，該本體的這些輪體中的兩個輪體分別穿過該兩個開槽，且露出于該兩個開槽。

9.依據權利要求1所述的自走式擦地裝置，其特征在于，該至少一滲水孔與該第一抺布相接觸。

10.依據權利要求1所述的自走式擦地裝置，其特征在于，該本體的底緣形成多個結合凹槽，該擦地模塊的上緣形成多個結合塊，這些結合塊以一一對應方式置入這些結合凹槽內，該本體與該擦地模塊結合。