[實用新型]一種低收縮率聚酰亞胺薄膜消應力系統(tǒng)

有效

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• 申請日: 2015-04-14
• 公開（公告）號: CN204977506U
• 公開（公告）日: 2016-01-20
• 發(fā)明（設計）人: 張玉謙;滕國榮;李秀銘
• 申請（專利權）人: 天津市天緣電工材料有限責任公司
• 主分類號: B29C71/00
• 分類號: B29C71/00;B29C71/02;B29L7/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型屬于薄膜生產技術領域，尤其是涉及一種低收縮率聚酰亞胺薄膜消應力系統(tǒng)。

背景技術

幾乎所有薄膜制品都會有不同程度地存在內應力，尤其是PI薄膜制品的內應力更為明顯。內應力的存在不僅使薄膜制品在貯存和使用過程中出現翹曲、變形、收縮或開裂現象，也影響薄膜制品的力學性能、光學性能、電學性能及外觀質量。產生內應力的原因有很多，如在成膜加工過程中存在的取向與結晶作用，制品在加工過程中因冷卻定型時收縮不均勻而產生。PI薄膜在覆銅板及電子行業(yè)作為金屬薄膜的基膜及覆蓋層中應用，由于薄膜的收縮較大，導致覆蓋時薄膜不對應，或偏離對應元件的位置；或收縮后將不需要覆蓋的位置覆蓋上；或覆蓋后出現開裂及翹曲變形等現象，嚴重影響覆蓋效果，降低的電氣元件的成品率，因此低收縮率對薄膜產生的影響很大。

現有技術對聚酰亞胺薄膜生產過程，亞胺化后直接進行收卷，導致薄膜的卷曲度很大、收縮率較大嚴重影響下游產品的質量。薄膜內應力是指在薄膜加工過程中由于受到大分子鏈的取向和冷卻收縮等因素影響而產生的一種內在應力。內應力的實質為大分子鏈在加工過程中形成的不平衡構象，這種不平衡構象在冷卻固化時不能立即恢復到與環(huán)境條件相適應的平衡構象，這種不平衡構象的實質為一種可逆的高彈形變，而凍結的高彈形變平時以位能形式貯存在塑料制品中，在適宜的條件下，這種被迫的不穩(wěn)定的構象將向自由的穩(wěn)定的構象轉化，位能轉變?yōu)閯幽芏尫拧．敶蠓肿渔滈g的作用力和相互纏結力承受不住這種動能時，內應力平衡即遭到破壞，薄膜制品就會產生應力開裂及翹曲變形等現象。

因此，為了消除或最大程度地降低PI薄膜制品內部的應力，使殘余內應力在薄膜制品上盡可能均勻地分布，避免產生應力集中現象。本實用新型對生產設備進行改進，添加消應力裝置，一定程度上改善PI薄膜制品的力學、熱學等性能、消除薄膜的內應力與表面的應力，降低薄膜收縮率，提高薄膜的性能。

發(fā)明內容

為了解決薄膜收縮率低的問題，消除薄膜的內應力與表面的應力，降低薄膜收縮率，提高薄膜的性能。本實用新型提供一種低收縮率聚酰亞胺薄膜消應力系統(tǒng)，包括用于薄膜的拉伸機(亞胺化爐)、冷卻裝置、消應力爐和收卷機；所述薄膜流經亞胺化爐，并經過雙向拉伸的固定位置后拉伸，后冷卻器進入消應力爐，再次冷卻后收卷得到低收縮率聚酰亞胺薄膜；所述消應力爐設定在所述的兩個冷卻裝置之間，所述的拉伸機(亞胺化爐)、冷卻裝置以及消應力爐為密封裝置，所述冷卻裝置、消應力爐和收卷裝置用一支架固定住。

進一步的，所述該系統(tǒng)具有兩套冷卻裝置，冷卻裝置設定在消應力爐前和后，分別冷卻高溫亞胺化后出來的薄膜和消應力后出來的薄膜。

進一步的，所述的消應力爐為溫度控制在100-200℃之間的加熱裝置，可根據薄膜的厚度及用途不同進行隨時調溫，所述亞胺化爐溫度在200-300℃之間。

進一步的，所述的消應力爐由安裝底部支座、加熱器裝置、外層保溫層，以及各種導線、熱電偶裝置和調控按鈕組成。

進一步的，所述消應力爐外層保溫層部分為不銹鋼材料。

內應力的存在不僅使薄膜制品在貯存和使用過程中出現翹曲變形和開裂，也影響薄膜制品的力學性能、光學性能、電學性能及外觀質量；本實用新型的積極效果是：最大程度地降低PI薄膜制品內部的應力，并使殘余內應力在薄膜制品上盡可能均勻地分布，避免產生應力集中現象，從而改善PI薄膜制品的力學、熱學等性能。

附圖說明

圖1是本實用新型的結構示意圖。

圖中。

1、亞胺化爐 2、拉伸機 3、5冷卻裝置 4、消應力爐 6、收卷機

具體實施方式