[實用新型]一種球團煙氣脫硝系統(tǒng)的還原劑環(huán)形噴霧裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201520211288.7 | 申請日: | 2015-04-09 |
| 公開(公告)號: | CN204601982U | 公開(公告)日: | 2015-09-02 |
| 發(fā)明(設計)人: | 趙頦宇;趙躍 | 申請(專利權)人: | 常熟市華能環(huán)保工程有限公司 |
| 主分類號: | B01D53/79 | 分類號: | B01D53/79;B01D53/56 |
| 代理公司: | 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 張俊范 |
| 地址: | 215500 江蘇省蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 煙氣 系統(tǒng) 還原劑 環(huán)形 噴霧 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種噴霧裝置,特別是涉及一種球團煙氣脫硝系統(tǒng)的還原劑環(huán)形噴霧裝置,屬于煙氣脫硝技術領域。
背景技術
煙氣脫硝技術中,選擇性非催化還原是在合適的煙氣溫度段內噴入還原劑將其中氮氧化物還原為氮氣和水的過程。一般采用爐內噴氨、尿素或氫氨酸作為還原劑還原氮氧化物。為了達到預期的脫硝效果,還原劑通常是以霧化形式噴入爐內。因此在現有的回轉窯中,通常采用在窯內頂部位置安裝多個噴頭,分別通過管路連接,并配置自動控制系統(tǒng)以控制還原劑噴入量達到提高脫硝效率的目的。但是位于窯內頂部噴頭噴入還原劑必然造成還原劑在窯內高度方向分布不均,頂部過剩溫度下降幅度大的問題。
實用新型內容
針對上述現有技術的不足,本實用新型的目的是提供一種回轉窯煙氣脫硝系統(tǒng)的還原劑環(huán)形噴霧裝置,解決窯內還原劑噴霧不均的問題。
本實用新型的技術方案是這樣的:一種回轉窯煙氣脫硝系統(tǒng)的還原劑環(huán)形噴霧裝置,包括環(huán)形管路支架、噴嘴板和調節(jié)板,所述環(huán)形管路支架包括同心固定連接的內支架和外支架,所述內支架和外支架均為環(huán)形槽鋼,所述內支架和外支架的凹口相對設置;所述噴嘴板和調節(jié)板成環(huán)形設置在內支架和外支架之間,所述噴嘴板和調節(jié)板與環(huán)形管路支架構成內部中空的環(huán)形管路,所述噴嘴板外側設有若干霧化噴嘴,所述調節(jié)板設有若干調節(jié)桿,所述調節(jié)桿穿過調節(jié)板,調節(jié)桿頭端設有用于遮擋霧化噴嘴與噴嘴板連接口的擋板。
在本實用新型的一個具體實施例中,所述噴嘴板和調節(jié)板可轉動地卡設在內支架和外支架之間,所述噴嘴板外邊緣設有齒條,所述環(huán)形管路支架設有與齒條嚙合的齒輪,所述噴嘴板內側設有盲孔,所述調節(jié)桿頭端設置在盲孔內。
在本實用新型的一個具體實施例中,所述霧化噴嘴設置在噴嘴板環(huán)形等分位置,所述霧化噴嘴方向與噴嘴板垂直。
在本實用新型的一個具體實施例中,所述調節(jié)桿頭端設有擺動桿,所述擋板設置在擺動桿頭端。
在本實用新型的一個具體實施例中,所述外支架的外側面設有與環(huán)形管路相隔離的空氣通路,所述空氣通路與霧化噴嘴的進氣口相連。
本實用新型所提供的技術方案的有益效果是,環(huán)形噴霧裝置垂直于煙氣流動方向布置在回轉窯內,霧化噴嘴分布在整個煙氣流動截面,并且采用調節(jié)桿調節(jié)霧化噴嘴連接口大小,使得處于不同位置的霧化噴嘴還原劑噴射濃度可調。有效提高了整個煙氣流動截面的還原劑分布均勻度,促進還原反應,提高脫硝效率。并且通過設置的齒輪齒條裝置使噴嘴板得以轉動,以實時改變霧化噴嘴位置,進一步提高噴霧均勻性。
附圖說明
圖1為本實用新型結構示意圖。
圖2為圖1的AA截面示意圖。
圖3為圖1的BB截面示意圖。
具體實施方式
下面結合實施例對本實用新型作進一步說明,但不作為對本實用新型的限定。
請結合圖1、圖2及圖3,本實施例涉及的球團煙氣脫硝系統(tǒng)的還原劑環(huán)形噴霧裝置,包括環(huán)形管路支架1、噴嘴板2和調節(jié)板3。環(huán)形管路支架1包括同心固定連接的內支架11和外支架12,設置在回轉窯內,并且平行于窯內煙氣流動方向安裝。內支架11和外支架12均為環(huán)形槽鋼,內支架11和外支架12的凹口相對設置。噴嘴板2和調節(jié)板3可轉動地卡設在內支架11和外支架12之間,噴嘴板2和調節(jié)板3與環(huán)形管路支架1構成內部中空的環(huán)形管路4,外支架12的外側面設有與環(huán)形管路4相隔離的空氣通路12a,如此形成外環(huán)為氣路,內環(huán)為還原劑通道的結構。噴嘴板2外側環(huán)形等分位置設有若干霧化噴嘴5,一般為八等分位置設置八個霧化噴嘴5,霧化噴嘴5方向與噴嘴板2垂直。霧化噴嘴5的還原劑入口設置在噴嘴板2上直接與環(huán)形管路4連通,霧化噴嘴5的進氣口則通過軟管與外支架12的外環(huán)氣路連通。調節(jié)板3上與霧化噴嘴相應地設八個調節(jié)桿6,調節(jié)桿6穿過調節(jié)板3,噴嘴板2內側設有盲孔10,調節(jié)桿6頭端設置在盲孔10內。調節(jié)桿6頭端設有擺動桿61,擺動桿61頭端設有用于遮擋霧化噴嘴5與噴嘴板2連接口的擋板7,轉動調節(jié)桿6的時候擺動桿61擺動帶動擋板7對霧化噴嘴5的還原劑入口形成遮擋。噴嘴板2外邊緣設有齒條8,環(huán)形管路支架1上設置與齒條8嚙合的齒輪9,通過齒輪9的轉動使得噴嘴板2和調節(jié)板3同時在環(huán)形管路支架1上轉動。
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