[實用新型]一種AlGaN/GaN HEMT壓力傳感器有效
| 申請號: | 201520205686.8 | 申請日: | 2015-04-07 |
| 公開(公告)號: | CN204607576U | 公開(公告)日: | 2015-09-02 |
| 發明(設計)人: | 王凱;程知群;董志華;劉國華;周濤;柯華杰 | 申請(專利權)人: | 杭州電子科技大學 |
| 主分類號: | B81B7/02 | 分類號: | B81B7/02 |
| 代理公司: | 杭州求是專利事務所有限公司 33200 | 代理人: | 杜軍 |
| 地址: | 310018 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 algan gan hemt 壓力傳感器 | ||
1.一種AlGaN/GaN?HEMT壓力傳感器;包括襯底、h-BN移除層、AlN緩沖層、?GaN溝道層、隔離層AlN、非摻雜Al0.3Ga0.7N勢壘層和帽層GaN;
其特征在于:所述的h-BN移除層下方粘貼有開有孔洞的金屬銅襯底,h-BN移除層上生長AlN緩沖層;接著在AlN緩沖層上面外延生長GaN溝道層;之后在溝道層GaN上外延生長隔離層AlN,接著在隔離層AlN上外延生長非摻雜Al0.3Ga0.7N勢壘層和帽層GaN;帽層上設有AlGaN/GaN?HEMT的柵極、源極和漏極;
所述的h-BN移除層厚度為3nm;
所述的AlN緩沖層厚度為100nm;
所述的GaN溝道層厚度為1.9μm;
所述的AlN隔離層厚度為1nm;
所述的Al0.3Ga0.7N勢壘層厚度為20nm;
所述的GaN帽層厚度為2nm。
2.根據權利要求1所述的一種AlGaN/GaN?HEMT壓力傳感器,其特征在于:所述的柵極金屬為Ni或者Au,源極和漏極金屬為鈦、鋁、鎳、金中的一種。
3.根據權利要求1所述的一種AlGaN/GaN?HEMT壓力傳感器,其特征在于:所述的源極為一個圓形結構,直徑50μm;柵極與源極為同心的開口圓環,內徑和外徑分別為150和200μm;漏極與源極為同心的開口圓環,內徑和外徑分別為250和300μm。
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