[實(shí)用新型]一種適用于氣浮工藝的免維護(hù)高壓溶氣釋放裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201520201341.5 | 申請(qǐng)日： | 2015-04-03 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN204643897U | 公開（公告）日： | 2015-09-16 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 王曉陽;閆清云;崔慧慧;姚紅坡;劉靜;袁志丹;曹寧 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 北京翰祺環(huán)境技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C02F1/24 | 分類號(hào)： | C02F1/24 |
| 代理公司： | 北京瑞思知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11341 | 代理人： | 李濤 |
| 地址： | 100085 北京市海淀*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 適用于 工藝 維護(hù) 高壓 釋放 裝置 | ||
1.一種適用于氣浮工藝的免維護(hù)高壓溶氣釋放裝置，其特征是主要由兩條并列的釋氣管路組成，第一釋氣管路上裝有第一手動(dòng)柱塞閥(2)、第一壓力表(4)、第一循環(huán)水隔膜閥(6)和第一氣動(dòng)球閥(8)；第二釋氣管路上裝有第二手動(dòng)柱塞閥(3)、第二壓力表(5)、第二循環(huán)水隔膜閥(7)和第二氣動(dòng)球閥(9)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適用于氣浮工藝的免維護(hù)高壓溶氣釋放裝置，其特征是釋氣管路的壓力為0.6Mpa，比溶氣系統(tǒng)的空氣管路進(jìn)口壓力低0.05Mpa。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適用于氣浮工藝的免維護(hù)高壓溶氣釋放裝置，其特征是釋氣管路應(yīng)采用襯塑管。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適用于氣浮工藝的免維護(hù)高壓溶氣釋放裝置，其特征是第一釋氣管道還包括第一釋氣口(10)，第二釋氣管道還包括第二釋氣口(11)，第一釋氣口和第二釋氣口在平面和立面上均呈交錯(cuò)放置。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京翰祺環(huán)境技術(shù)有限公司，未經(jīng)北京翰祺環(huán)境技術(shù)有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201520201341.5/1.html，轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 維護(hù)控制器、維護(hù)方法以及維護(hù)系統(tǒng)
- 維護(hù)輔助系統(tǒng)、維護(hù)輔助裝置及維護(hù)輔助方法
- 維護(hù)液和維護(hù)方法
- 儀器維護(hù)裝置、儀器維護(hù)系統(tǒng)、儀器維護(hù)方法、儀器維護(hù)程序以及記錄介質(zhì)
- 裝置維護(hù)設(shè)備、裝置維護(hù)方法、裝置維護(hù)程序和記錄介質(zhì)
- 電池維護(hù)儀和電池維護(hù)方法
- 設(shè)備維護(hù)系統(tǒng)及維護(hù)方法
- 維護(hù)系統(tǒng)以及維護(hù)方法
- 基站維護(hù)方法和基站維護(hù)裝置
- 維護(hù)支援裝置、作業(yè)機(jī)械、維護(hù)支援系統(tǒng)及維護(hù)支援方法
