[實(shí)用新型]流體調(diào)節(jié)器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201520198108.6
• 申請日: 2015-02-25
• 公開（公告）號: CN204942669U
• 公開（公告）日: 2016-01-06
• 發(fā)明（設(shè)計）人: C·林;A·加爾;H·P·特里彭
• 申請（專利權(quán)）人: 艾默生過程管理調(diào)節(jié)技術(shù)公司
• 主分類號: F16K17/20
• 分類號: F16K17/20
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 曹雯

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型一般涉及流體調(diào)節(jié)器，并且更特別地，涉及具有平衡隔膜的直接操作的流體調(diào)節(jié)器。

背景技術(shù)

根據(jù)系統(tǒng)提出的需求、天氣、供給源和/或其他因素，典型的流體分配系統(tǒng)供給流體的壓力是不同的。然而，大多數(shù)裝備有燃?xì)庥镁撸热缛蹱t，烤爐等等的終端用戶設(shè)備都需要根據(jù)預(yù)定壓力，并且以或低于氣體調(diào)節(jié)器的最大容量來輸送氣體。所以，為了確保所輸送的氣體滿足終端用戶設(shè)備的需求，在這些分配系統(tǒng)中配備流體調(diào)節(jié)器。

直接操作的流體調(diào)節(jié)器主要被設(shè)計用于工業(yè)和商業(yè)用途，其將流體，比如天然氣和丙烷，供給到熔爐、燃燒爐和其他設(shè)備上，并且一般在本領(lǐng)域中是公知的。流體調(diào)節(jié)器典型地被用于將流體的壓力調(diào)節(jié)到大致不變的值。特別地，流體調(diào)節(jié)器具有入口，該入口典型地以相對高的壓力接收供給流體，并且該流體調(diào)節(jié)器在出口處提供相對較低的且大致不變的壓力。為了調(diào)節(jié)下游壓力，流體調(diào)節(jié)器通常包括傳感元件或隔膜，以檢測與下游壓力流體連通的出口壓力。流體調(diào)節(jié)器還能夠包括平衡系統(tǒng)，該平衡系統(tǒng)能夠被用于抵消由較高壓力的入口流體所施加在閥盤的頂部上的力，以及還可能抵消由繞著閥盤經(jīng)過的排出流體所施加在閥盤的底部上的力。

實(shí)用新型內(nèi)容

根據(jù)本實(shí)用新型的一個示范性的方面，流體調(diào)節(jié)器包括致動器組件、被緊固到所述致動器組件上的本體組件，和被設(shè)置在所述致動器組件和所述本體組件之間的平衡系統(tǒng)。所述致動器組件包括上部殼體、被緊固到所述上部殼體上的下部殼體和被設(shè)置在所述上部殼體與所述下部殼體之間的隔膜組件。所述本體組件包括被可操作地連接到所述隔膜組件上以隨著所述隔膜組件移動的桿組件。所述平衡系統(tǒng)包括被可操作地連接到所述桿組件上以隨著所述桿組件移動的隔膜。所述致動器組件的所述下部殼體包括限定了容納所述平衡系統(tǒng)的平衡腔體的一部分的壁和在肩部處終止的內(nèi)表面，并且所述壁具有形成在所述壁的內(nèi)表面中的環(huán)形凹槽，當(dāng)所述流體調(diào)節(jié)器從完全打開的位置移動到鎖閉位置時，所述環(huán)形凹槽容納所述平衡系統(tǒng)的所述隔膜的一部分。

根據(jù)本實(shí)用新型的另一示范性的方面，流體調(diào)節(jié)器包括致動器組件、被緊固到所述致動器組件上的本體組件，和被設(shè)置在所述致動器組件和所述本體組件之間的平衡系統(tǒng)。致動器組件包括上部殼體、被緊固到所述上部殼體上的下部殼體，和被設(shè)置在所述上部殼體與所述下部殼體之間的隔膜組件。所述本體組件限定了用于運(yùn)行流體的入口和用于所述運(yùn)行流體的出口，并且包括被可操作地連接到所述隔膜組件上以隨著所述隔膜組件移動的桿組件。所述平衡系統(tǒng)包括被可操作地連接到所述桿組件上以隨著所述桿組件移動的隔膜，所述隔膜具有在所述本體組件的所述入口處由所述運(yùn)行流體的入口壓力所作用的橫截面面積。所述流體調(diào)節(jié)器還包括當(dāng)所述流體調(diào)節(jié)器接近鎖閉位置時用于增加所述平衡組件的所述隔膜的所述橫截面面積的裝置。

根據(jù)本實(shí)用新型的另一示范性的方面，流體調(diào)節(jié)器包括致動器組件、被緊固到所述致動器組件上的本體組件和被設(shè)置在所述致動器組件和所述本體組件之間的平衡系統(tǒng)。所述致動器組件包括上部殼體、被緊固到所述上部殼體上的下部殼體，和被設(shè)置在所述上部殼體與所述下部殼體之間的隔膜組件。所述本體組件限定了用于運(yùn)行流體的入口和用于所述運(yùn)行流體的出口，并且包括被可操作地連接到所述隔膜組件上以隨著所述隔膜組件移動的桿組件。所述平衡系統(tǒng)包括被可操作地連接到所述桿組件上以隨著所述桿組件移動的隔膜，所述隔膜具有在所述本體組件的所述入口處由所述運(yùn)行流體的入口壓力所作用的橫截面面積。所述流體調(diào)節(jié)器還包括當(dāng)所述流體調(diào)節(jié)器移動遠(yuǎn)離所述完全打開的位置時用于以第一速率增加所述平衡組件的所述隔膜的所述橫截面面積的裝置。

另外根據(jù)本實(shí)用新型的任何一個或多個前述示范性的方面，流體調(diào)節(jié)器可以以任何組合的方式進(jìn)一步地包括下列優(yōu)選形式中的任何一個或多個。

在一個優(yōu)選形式中，所述環(huán)形凹槽從所述肩部偏移，以致當(dāng)所述流體調(diào)節(jié)器接近所述鎖閉位置時所述平衡系統(tǒng)的所述隔膜的所述一部分膨脹到所述環(huán)形凹槽中。

在另一個優(yōu)選形式中，在所述壁的所述內(nèi)表面和所述平衡系統(tǒng)的隔膜板之間的徑向距離在所述肩部和所述環(huán)形凹槽之間是不變的。

在另一個優(yōu)選形式中，所述環(huán)形凹槽包括壁，該壁以從所述內(nèi)表面預(yù)定角度處從所述下部殼體的所述壁的所述內(nèi)表面延伸。

在另一個優(yōu)選形式中，所述預(yù)定角度是在45度和70度之間。

在另一個優(yōu)選形式中，所述預(yù)定角度是在55度和65度之間。