[實用新型]一種防止玻璃光罩金屬圖層靜電擊傷的裝置有效
| 申請號: | 201520196720.X | 申請日: | 2015-04-03 |
| 公開(公告)號: | CN204479905U | 公開(公告)日: | 2015-07-15 |
| 發明(設計)人: | 不公告發明人 | 申請(專利權)人: | 廣州市仕元光電有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/40 | 分類號: | G03F1/40 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 510730 廣東省廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 防止 玻璃 金屬 靜電 擊傷 裝置 | ||
1.一種防止玻璃光罩金屬圖層靜電擊傷的裝置,其特征在于,所述裝置包括:用于平整PET防靜電膜并能夠將所述PET防靜電膜貼附到玻璃光罩上的主動輥軸、用于安裝所述PET防靜電膜的被動輥軸、以及用于驅動所述主動輥軸運轉的驅動裝置,所述主動輥軸和所述被動輥軸之間由所述PET防靜電膜連接,所述被動輥軸的運轉則由所述主動輥軸通過所述PET防靜電膜帶動。
2.根據權利要求1所述的裝置,其特征在于,所述裝置包括兩個所述主動輥軸和兩個所述被動輥軸,且一個所述主動輥軸和一個所述被動輥軸組成一組,其中,一組所述主動滾軸和所述被動滾軸設置于所述玻璃光罩的上方,另一組所述主動滾軸和所述被動滾軸設置于所述玻璃光罩的下方,且兩個所述主動輥軸緊鄰設置以便在所述玻璃光罩上下兩面分別貼附所述PET防靜電膜。
3.根據權利要求2所述的裝置,其特征在于,所述裝置還包括用于回收PET覆蓋膜的兩個回收輥軸,且所述兩個回收輥軸通過所述被動輥軸的運轉間接實現驅動運轉。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





