[實用新型]一種凈化鎂或鎂合金熔體的裝置

有效

• 申請號: 201520193477.6
• 申請日: 2015-03-31
• 公開（公告）號: CN204529933U
• 公開（公告）日: 2015-08-05
• 發明（設計）人: 陳榮石;馬躍群;侯丹輝;吳軍偉;柯偉
• 申請（專利權）人: 中國科學院金屬研究所
• 主分類號: C22B9/10
• 分類號: C22B9/10;C22C1/06;C22B26/22;C22C23/00
• 代理公司: 沈陽科苑專利商標代理有限公司 21002
• 代理人: 許宗富;周秀梅

1.一種凈化鎂或鎂合金熔體的裝置，其特征在于：該裝置包括筒狀容器和隔板，其中：所述隔板置于容器內并將容器分隔為腔室Ⅰ和腔室Ⅱ，所述隔板的下部留有使腔室Ⅰ和腔室Ⅱ相連通的通道；所述腔室Ⅰ和腔室Ⅱ的連通口處或其上方分別設置篩網Ⅰ和篩網Ⅱ，或者，僅在腔室Ⅱ的連通口處或其上方設置篩網Ⅱ；所述腔室Ⅱ側壁上或頂部設置熔體導出口。

2.根據權利要求1所述的凈化鎂或鎂合金熔體的裝置，其特征在于：所述腔室Ⅰ用于凈化前熔劑和熔體的導入腔體；所述腔室Ⅱ用于使熔體的強制彌散分布凈化、分層富集及導出；所述篩網Ⅰ和篩網Ⅱ用于將熔體進行強制彌散分布。

3.根據權利要求1所述的凈化鎂或鎂合金熔體的裝置，其特征在于：所述篩網Ⅰ和篩網Ⅱ其結構的孔眼尺寸為0.1mm～200mm，孔眼間距為0.1～200mm；篩網Ⅰ和篩網Ⅱ的結構為平板沖孔或管材沖孔形式，平板篩網厚度或管材篩網的壁厚為0.1～200mm。

4.根據權利要求3所述的凈化鎂或鎂合金熔體的裝置，其特征在于：所述篩網Ⅰ和篩網Ⅱ為單層結構或多層疊加結構，多層疊加時層間距為0.1～200mm。