[實用新型]一種防光反饋的高功率半導體激光加工光源系統

有效

• 申請號: 201520187698.2
• 申請日: 2015-03-31
• 公開（公告）號: CN204517158U
• 公開（公告）日: 2015-07-29
• 發明（設計）人: 王昌飛;宋濤;王敏;劉興勝
• 申請（專利權）人: 西安炬光科技有限公司
• 主分類號: H01S5/40
• 分類號: H01S5/40;H01S5/068;B23K26/064
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種防光反饋的高功率半導體激光加工光源系統，其特征在于：包括半導體激光器，光學整形模塊，殼體以及防反饋遮板；所述的半導體激光器固定設置于殼體內，所述的光學整形模塊固定設置于殼體內且位于半導體激光器的出光方向上，殼體的前端設置保護窗口，保護窗口的中心位于半導體激光器出光光路的光軸上；所述的防反饋遮板設置在半導體激光器與光學整形模塊之間且靠近半導體激光器，防反饋遮板的四周接觸殼體，將殼體內部分為兩個腔體，該防反饋遮板中部對應半導體激光器的位置設有通孔，通孔的尺寸可以使半導體激光器發出的激光光束完全通過。

2.?根據權利要求1所述的一種防光反饋的高功率半導體激光加工光源系統，其特征在于：還包括信號傳輸部件和反饋光分布分析與預警控制器；所述的防反饋遮板面向半導體激光器的一面上設置有多個熱電傳感器，所述的多個熱電傳感器間距均勻的環繞分布在防反饋遮板通孔的周圍，用于將防反饋遮板吸收的反饋光能量轉換為電信號；所述的信號傳輸部件用于將熱電傳感器產生的電信號傳送至反饋光分布分析與預警控制器；所述的反饋光分布分析與預警控制器包括電路板和顯示屏，電路板用于信號處理及預警控制，顯示屏用于顯示反饋光分布分析與預警控制器處理的反饋光參數。

3.根據權利要求2所述的一種防光反饋的高功率半導體激光加工光源系統，其特征在于：所述的信號傳輸部件為有線傳輸部件，或者為無線傳輸部件；所述的有線傳輸部件為信號電纜，信號電纜的數量與熱電傳感器的數量相同且信號電纜與熱電傳感器一一對應，所述每一條信號電纜的一端均連接在反饋光分布分析與預警控制器上，另一端分別與所對應的熱電傳感器連接；所述的無線傳輸部件包括設置在防反饋遮板上的信號發射端和設置在反饋光分布分析與預警控制器上的信號接收端。

4.根據權利要求1所述的一種防光反饋的高功率半導體激光加工光源系統，其特征在于：所述的防反饋遮板為光闌，所述的防反饋遮板采用1片光闌，或者同時采用多片光闌。

5.根據權利要求1所述的一種防光反饋的高功率半導體激光加工光源系統，其特征在于：所述的半導體激光器與防反饋遮板之間設置聚焦裝置，所述的聚焦裝置為一片球透鏡或者柱透鏡，或者為多片準直透鏡；所述的多片準直透鏡分別用于對半導體激光器的快軸和慢軸進行準直，或者同時對快軸和慢軸進行準直；快軸準直透鏡為準直D型非球面透鏡，慢軸準直透鏡為柱面透鏡。

6.根據權利要求1所述的一種防光反饋的高功率半導體激光加工光源系統，其特征在于：所述的半導體激光器為半導體激光器疊陣。

7.根據權利要求1所述的一種防光反饋的高功率半導體激光加工光源系統，其特征在于：所述的光學整形模塊包括至少兩片柱透鏡或者球透鏡。

8.根據權利要求2所述的一種防光反饋的高功率半導體激光加工光源系統，其特征在于：所述的熱電傳感器為熱敏電阻。

9.根據權利要求1所述的一種防光反饋的高功率半導體激光加工光源系統，其特征在于：所述的防反饋遮板材料為表面黑色氧化處理的鋁或者黑色氧化處理的銅。

10.根據權利要求1所述的一種防光反饋的高功率半導體激光加工光源系統，其特征在于：所述的半導體激光器上設置有指示單元，指示單元發出可見光，該可見光經光學整形模塊后會聚點位于半導體激光器光斑的中心。