[實用新型]一種基于光源自反射及燈具二次配光的路燈裝置

有效

• 申請號: 201520179113.2
• 申請日: 2015-03-29
• 公開（公告）號: CN204460002U
• 公開（公告）日: 2015-07-08
• 發明（設計）人: 韓金玲;周興國
• 申請（專利權）人: 韓金玲
• 主分類號: F21S8/08
• 分類號: F21S8/08;F21V7/22;F21V17/10;F21V19/00;F21W131/103
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

??????本實用新型屬于道路照明技術領域，涉及一種路燈光源具有自反射技術，具體涉及一種基于光源自反射及燈具二次配光的路燈裝置。

背景技術

????道路照明在道路上設置照明燈具為在夜間給車輛和行人提供必要的能見度。道路照明可以改善交通條件，減輕駕駛員疲勞，并有利于提高道路通行能力和保證交通安全，此外，還可美化市容。道路照明用的照明器有高壓鈉燈、低壓鈉燈、無極燈、金鹵燈、熒光燈、新型索明氙氣路燈等。白熾燈、高壓汞燈、低壓鈉燈由于光源性能缺陷已逐漸被淘汰。照明器要合理使用光能，為了適應城市道路照明特點。燈泡必須放入密封的燈具中，燈具里有一個凹形燈碗-即反光器，燈泡就置入反光器中，經過反光器的反射和折射進行燈具的二次配光，使路燈泡發出的光能夠均勻的投射道路面上。現有公知的路燈反光器一般都是壓鑄鋁的，由鋁板經過沖壓形成一定的凹形，根據模具的不同形狀，做出不同規格要求的反光器，然后經過簡易的表面氧化處理，或者稍加電解，使其內部具有一定的光滑度，起到一定的反光效果，就可以了，這樣的反光器反射效率非常低，從而大大降低了燈具的效率，經檢測目前市場上裝有這種簡易的反光器燈具的效率只有40％左右，也就是說從光源發出的光線，有60％的都被反光器損失掉了，這樣大大浪費了能源，同時，一定的光線被反光器自身吸收，使反光器的溫度升高，這樣導致反光器被處理的內表面很快被氧化腐蝕，失去光潔度，更加降低了燈具的效率，這樣惡性循環，很快路燈的照明效果就非常差了，還有要求較高的反光器，對內表面進行真空鍍膜，形成一定的光滑鏡面，以達到有更高的反射率，提高燈具的效率，但是由于鍍膜表面過于光滑，鏡面反射效應明顯，這樣就使投射到路面的光線很不均勻，明暗斑點效應明顯，難于推廣使用。也有人采用石英玻璃經過設計后，進行真空鍍膜，形成波紋型鏡面，這樣可以減少鏡面反射不均勻現象，但是由于石英鍍膜反光器里燈泡很近，二路燈光源一般功率都很大，長時間照明溫度很高，由于石英與鍍膜材料的膨脹系數不一致，使得鍍層很容易脫落，也影響了高效反光器的使用。我國照明用電約占總發電量的12％左右，而城市路燈照明用電占照明用電的30％，且道路照明以低效照明光源和低效率的路燈具為主，因此對道路照明光源和燈具反光器進行設計研發，以提高光源出射到路面的流明率和燈具的配光效率，節約能源，是當前城市道路照明亟待解決的問題。

發明內容

???為了解決目前路燈光源出射到路面的流明率和燈具反光器反光效率低，反光后投射路面光線不均勻及反光器鍍膜容易脫落的現象，實現光源自反光和燈具二次配光，本實用新型提供一種基于光源自反射及燈具二次配光的路燈裝置，已解決上述問題。

??????為實現上述目的，本實用新型的解決方案是：一種基于光源自反射及燈具二次配光的路燈裝置，包括：光源電弧管，光源玻殼，光源玻殼反射層，光源燈頭，燈頭旋卡機構，燈具反光器，燈座旋卡機構，燈具殼體。本裝置首先在光源玻殼表面的一側面鍍上一薄層銀鏡反射膜，形成光源玻殼反射層，光源電弧管裝置于已鍍膜的光源玻殼內，光源玻殼的開口端為光源燈頭，燈頭裝置有燈頭旋卡結構，構成整個自反光路燈光源，光源電弧管發出的光照通過一側的玻殼反射層直接被反射出來，把光源電弧管的出光度由原來的360°減小為180°至270°，以增加光源自身反射效果。路燈燈具殼體內裝置有燈具反光器，燈具反光器的一端固定有燈座旋卡機構，燈頭旋卡機構與燈座旋卡機構相互活動嚙合，把路燈光源通過燈頭旋卡機構安裝在燈座旋卡機構內，調整光源角度使光源的出光面正對于燈具反光器的出光面，調整燈頭和燈座的卡簧使光源固定并鎖死，構成光源自反射及燈具二次配光的路燈裝置。

????所述的光源電弧管為氣體電光源電弧管，其特征在于光源電弧管為圓柱形、橢球形及圓形電弧管，包括高壓鈉燈電弧管、金鹵燈電弧管及氙氣燈電弧管。

?????所述的光源電弧管為氣體電光源電弧管，其特征在于在一只玻殼內安裝1-3只同樣材質和規格的電弧管，電弧管的電氣連接為并聯連接。

?????所述的光源玻殼，其特征在于光源玻殼為一端封閉的圓柱形或橢球形玻璃管，圓柱形玻殼的直徑為26-46mm，橢球形玻殼其膨脹部分直徑為50-120mm。

?????所述的光源玻殼反射層，其特征在于光源玻殼的反射層為銀鏡反射層，反射層的厚度為10-50μm,鍍層在光源玻殼的側面，鍍層面積為整個玻殼面積的三分之一至二分之一處。