[實用新型]用于將液體連續施涂到基底的裝置

有效

• 申請號: 201520171708.3
• 申請日: 2015-03-25
• 公開（公告）號: CN204953233U
• 公開（公告）日: 2016-01-13
• 發明（設計）人: H·鮑瑟
• 申請（專利權）人: 迪芬巴赫機械工程有限公司
• 主分類號: B05C1/08
• 分類號: B05C1/08;B05C11/10
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 江漪

1.一種用于將液體連續施涂到基底的裝置，所述液體(2)藉由施涂裝置轉移到所述基底，所述施涂裝置包括施涂輥(3)，所述施涂輥(3)繞所述施涂輥的軸(10)旋轉，其特征在于，配量裝置布置成用于將液體(2)施涂到所述施涂裝置的旋轉的所述施涂輥(3)，其中，所述配量裝置適于滴到、噴射到或者灌注到所述施涂輥(3)上。

2.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述施涂裝置或所述施涂輥(3)相對于所述基底可動地布置。

3.如權利要求1或2所述的裝置，其特征在于，所述配量裝置適用于根據所述基底的寬度(7)設定待施涂的液體的寬度。

4.如權利要求1或2所述的裝置，其特征在于，當使用多個配量裝置時，所述配量裝置沿著所述施涂輥(3)的軸(10)布置。

5.如權利要求1或2所述的裝置，其特征在于，將所述配量裝置實施成至少一個噴嘴(1)。

6.如權利要求1或2所述的裝置，其特征在于，多個配量裝置以單獨和/或成組的方式受控或受調節。

7.如權利要求1或2所述的裝置，其特征在于，在所述施涂輥(3)回流中和/或所述施涂輥(3)與所述基底接觸之后，傳感器(17)布置在所述基底上以檢測液體膜(14)，并且所述傳感器與開環或閉環控制裝置(16)有效連接，以控制所述配量裝置或液體(2)的施涂量。

8.根據權利要求1或2所述的裝置，其特征在于，沿所述施涂輥的軸布置有可移位噴射邊界(18)。

9.如權利要求1或2所述的裝置，其特征在于，至少外側的配量裝置布置成使得它們沿所述施涂輥(3)的所述軸(10)能夠被關閉。

10.如權利要求1或2所述的裝置，其特征在于，所述裝置用在壓力機中，并且將所述基底構造成材料帶(9)或平坦機械元件。

11.如權利要求8所述的裝置，其特征在于，所述可移位噴射邊界(18)具有用于液體(2)的收集槽(19)。