[實用新型]吸附裝置

有效

• 申請號: 201520167807.4
• 申請日: 2015-03-24
• 公開（公告）號: CN204523216U
• 公開（公告）日: 2015-08-05
• 發明（設計）人: 許麗敏;林恬盛;王麗娟;徐少華;趙明;何建全;陳俊明;王威;吳城材;鐘森林;朱遠標;周慶紅;張超達
• 申請（專利權）人: 廣州粵有研礦物資源科技有限公司
• 主分類號: B03C1/02
• 分類號: B03C1/02;B08B3/04
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 謝偉

1.一種吸附裝置，其特征在于，包括：

吸附腔，吸附腔設有第一進液口和第一出液口；

至少兩個吸附器，吸附器與吸附腔匹配；

清洗工位，清洗工位設有清洗裝置，清洗裝置用于清洗吸附器；

切換裝置，切換裝置與吸附器對接，用于將吸附器在吸附腔和清洗工位之間切換。

2.根據權利要求1所述的吸附裝置，其特征在于，所述吸附腔的頂部設有供所述吸附器出入的切換開口，所述吸附腔的下部設有所述第一進液口，所述吸附腔的上部設有所述第一出液口，所述吸附腔的附近設有電磁發生裝置，所述電磁發生裝置用于在所述吸附腔內產生電磁場，所述吸附器設有磁介質。

3.根據權利要求2所述的吸附裝置，其特征在于，所述吸附器設有導液套筒，所述磁介質套設于所述導液套筒中，所述導液套筒的下部設有第二進液口，所述第二進液口與所述第一進液口對接，所述導液套筒的上部設有第二出液口，所述第二出液口與所述第一出液口對接。

4.根據權利要求3所述的吸附裝置，其特征在于，所述吸附腔的下部或所述吸附腔的下方設有第一磁軛，所述吸附器設有第二磁軛，所述第二磁軛套設于所述導液套筒內，所述磁介質位于所述第一磁軛和所述第二磁軛之間。

5.根據權利要求4所述的吸附裝置，其特征在于，所述第二磁軛將所述導液套筒隔開為上層和下層，所述磁介質設于所述下層，所述第二出液口設于所述上層，所述第二磁軛設有至少兩個均流孔，所述均流孔將所述上層和所述下層連通。

6.根據權利要求1至5任一所述的吸附裝置，其特征在于，所述清洗工位為至少兩個。

7.根據權利要求1至5任一所述的吸附裝置，其特征在于，所述吸附器的頂部設有清洗孔，所述清洗孔與所述清洗裝置對接，或/和所述吸附器的頂部設有導氣孔。

8.根據權利要求1至5任一所述的吸附裝置，其特征在于，所述切換裝置設有平移機構或/和旋轉機構。

9.根據權利要求8所述的吸附裝置，其特征在于，至少兩個所述吸附器通過連接件相互連接成一個整體，所述切換裝置與所述連接件對接。