[實用新型]一種染色機加熱冷卻裝置

有效

• 申請號: 201520164808.3
• 申請日: 2015-03-23
• 公開（公告）號: CN204676305U
• 公開（公告）日: 2015-09-30
• 發明（設計）人: 許敏忠;單紅軍
• 申請（專利權）人: 無錫陽博印染機械設備有限公司
• 主分類號: D06B23/20
• 分類號: D06B23/20;D06B23/22
• 代理公司: 無錫互維知識產權代理有限公司 32236
• 代理人: 印蘇華

技術領域

本實用新型屬于紡織品染色設備領域，具體涉及一種染色機加熱冷卻裝置。

背景技術

眾所周知，在染色機的使用過程中，需要加熱裝置對染液進行加熱、冷卻，以達到對織物上色和清洗的目的。在傳統染色機中，一般而言，加熱裝置和冷卻裝置設置在染缸內，如專利號為：201320093807.5，名稱為：雙缸無管路中樣染色機的實用新型專利，請參閱圖1，圖1為現有染色機加熱冷卻裝置的結構示意圖。如圖1所示，染色缸內部底板上設置有冷卻水管B和加熱管A，因面料不能與加熱裝置直接接觸，所以冷卻水管B和加熱管A上方設置有固定的染色缸內壁網板3，這樣的設置模式需要所述網板C與染缸底部內壁之間的距離至少為5厘米。在染色機運轉過程中，被染物從網板C上經過時，需要至少部分被染物浸入染液，因此需要增加染液，增加浴水比，這種方式的染色機中，被染物與水的浴比大于1：10，故所需水量較大，因此耗水，后期所排出的廢水量也大，不僅造成了水的浪費，還提高了污水處理成本，污染了環境。不僅如此，由于加熱，所以染缸中所加入的染料、助劑等物質易發生化學反應，以致在加熱管A上形成污垢，由于有污垢的存在，所以在清洗時，所加入的清水會被污垢所污染，導致清洗不凈加熱裝置，造成二次污染。

實用新型內容

本實用新型要解決的技術問題是提供一種染色機加熱冷卻裝置，克服上述缺陷，通過對染色機加熱冷卻裝置的位置及結構改進，來解決被染物與水的浴比高、浪費水和染液等物品、污水處理成本高、清洗不干凈、易降低染布品質的問題。

為解決上述技術問題，本實用新型提供一種染色機加熱冷卻裝置，所述加熱冷卻裝置包括冷卻管和加熱器，所述冷卻管接通冷卻水，所述加熱器與電源電性連接，所述加熱冷卻裝置設置在染色機缸體下方，所述加熱冷卻裝置與所述染色機缸體的外壁結構相匹配，所述加熱冷卻裝置貼合所述染色機缸體外壁。

作為本實用新型所述一種染色機加熱冷卻裝置的一種優選方案，所述加熱冷卻裝置可拆卸安裝于所述染色機缸體外壁。

作為本實用新型所述一種染色機加熱冷卻裝置的一種優選方案，所述染色機缸體外壁設有固定架，所述固定架縱向設置與缸體垂直，所述固定架橫向設置與缸體平行，所述加熱冷卻裝置插設在所述固定架與所述染色機缸體外壁之間。

作為本實用新型所述一種染色機加熱冷卻裝置的一種優選方案，所述固定架至少有兩側具有所述縱向設置。

作為本實用新型所述一種染色機加熱冷卻裝置的一種優選方案，所述加熱冷卻裝置的冷卻管包括若干個冷卻彎管，所述加熱器包括若干個加熱管，所述冷卻彎管環繞所述加熱管，任意相鄰兩個冷卻彎管首尾相接。

作為本實用新型所述一種染色機加熱冷卻裝置的一種優選方案，所述冷卻彎管呈U形，所述加熱管位于所述冷卻彎管的兩個直管之間。

作為本實用新型所述一種染色機加熱冷卻裝置的一種優選方案，所述加熱冷卻裝置包括固定罩，所述冷卻管和所述加熱器設置在所述固定罩內，所述固定罩與所述染色機缸體的外壁結構相匹配。

作為本實用新型所述一種染色機加熱冷卻裝置的一種優選方案，所述加熱冷卻裝置為不銹鋼結構。

與現有技術相比，本實用新型提出的一種染色機加熱冷卻裝置，將染色機加熱冷卻裝置設置于缸體外部，并改進染色機加熱冷卻裝置的結構，具有以下優點：

1：從原有的網板C與染缸內壁之間的距離為5厘米，所需水面大于5厘米，變為缸體內部水面下降近4厘米，達到了節省染液的目的；

2：由到染液量少，故后期所排出的廢水量也減少，不僅節省了水的浪費，還降低了污水處理成本，保護了環境；

3：由于采取了外部加熱，所以染缸中所加入的染料、助劑等物質不會與加熱冷卻裝置發生化學反應，避免在加熱管上形成污垢，所以在清洗時，所加入的清水不會被污垢所污染，便于布料及染色機的清洗；

4：原有的小樣、中樣和大樣染色機的被染物和水的浴比分別為1：5、1：20-25和1：5，所以在變換小樣、中樣和大樣染色機時需要進行相應物質之間的比例換算，而利用本實用新型中所述染色機加熱冷卻裝置的小樣、中樣和大樣染色機的被染物和水的浴比分別為1：5、1：5-10和1：5，因此，在變換小樣、中樣和大樣染色機時，不需要進行相應物質之間的比例換算，這樣，不僅提升了工作效率，而且避免了因換算錯誤而導致工作失誤的可能。

附圖說明