[實用新型]一種掩模版的夾持裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201520154596.0 | 申請日: | 2015-03-18 |
| 公開(公告)號: | CN204515341U | 公開(公告)日: | 2015-07-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 游定平 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市龍圖光電有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/64 | 分類號: | G03F1/64 |
| 代理公司: | 深圳市君盈知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44315 | 代理人: | 陳琳 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市寶安區(qū)*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 模版 夾持 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及掩模版技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種掩模版的夾持裝置。
背景技術(shù)
掩模版是一種在薄膜、塑料或玻璃基體材料上,制作各種功能圖形并精確定位,以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的結(jié)構(gòu),其也稱光罩或光學(xué)掩模版,常見的掩模版有鉻版、干版和菲林等。
掩模版在生產(chǎn)、運輸、安裝或使用之中,會在掩模版表面產(chǎn)生某些缺陷,如劃傷、頂傷、蹭傷、白缺陷、黑缺陷等,故在生產(chǎn)完成后或使用一段時間后,應(yīng)對掩模版表面進行檢查。
現(xiàn)有的檢查方式包括自動檢查和人工檢查,其中自動檢查是通過自動檢測設(shè)備進行檢查,但是其投入成本高,檢查效率低、檢查準(zhǔn)確性低;而人工檢查一般是在強光下進行查看是否存在缺陷,但是其不能正常檢查大尺寸掩膜版的外觀缺陷。
實用新型內(nèi)容
本實用新型要解決的技術(shù)問題在于,針對現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷,提供一種掩模版的夾持裝置,提高掩模版的檢查效率。
本實用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:提供一種掩模版的夾持裝置,包括總架,還包括:
固定組件,其包括可調(diào)支架和掩模版固定件,該掩模版固定件設(shè)置在可調(diào)支架上,用于固定掩模版;
底部支撐架,其與可調(diào)支架連接,并與總架轉(zhuǎn)動連接,該可調(diào)支架通過底部支撐架在一定傾斜角度上進行擺動。
其中,較佳方案是:該底部支撐架包括一移動組件,該可調(diào)支架與移動組件連接,該可調(diào)支架通過移動組件在底部支撐架上移動。
其中,較佳方案是:該移動組件包括第一鎖定件。
其中,較佳方案是:該移動組件包括設(shè)置在底部支撐架上的移動軌道,該可調(diào)支架的底部包括與移動軌道配合的限位結(jié)構(gòu),該可調(diào)支架通過限位結(jié)構(gòu)在移動軌道上移動。
其中,較佳方案是:該掩模版固定件包括設(shè)置在移動架底部的底部掩模版固定件,和設(shè)置在移動架頂部的頂部掩模版固定件。
其中,較佳方案是:該掩模版固定件包括一固定凹槽。
其中,較佳方案是:該底部掩模版固定件為“L”型結(jié)構(gòu)。
其中,較佳方案是:還包括一旋轉(zhuǎn)軸,該底部支撐架通過旋轉(zhuǎn)軸與總架旋轉(zhuǎn)連接。
其中,較佳方案是:該總架包括一限位凹槽,該底部支撐架設(shè)置在限位凹槽內(nèi)。
其中,較佳方案是:還包括與底部支撐架連接的第二鎖定組件。
本實用新型的有益效果在于,與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實用新型通過設(shè)計一種掩模版的夾持裝置,在檢查掩模版前夾緊掩模版,實現(xiàn)對大尺寸掩膜版進行人工外觀檢查,降低成本;同時掩模版可通過夾持裝置進行角度旋轉(zhuǎn),提高檢查準(zhǔn)確性,提高檢查效率。
附圖說明
下面將結(jié)合附圖及實施例對本實用新型作進一步說明,附圖中:
圖1是本實用新型夾持裝置的剖面正視圖;
圖2是本實用新型夾持裝置的剖面左視圖;
圖3是本實用新型夾持裝置的剖面放大圖;
圖4是本實用新型掩模版固定件的剖面正視圖;
圖5是本實用新型掩模版固定件的剖面左視圖。
具體實施方式
現(xiàn)結(jié)合附圖,對本實用新型的較佳實施例作詳細(xì)說明。
如圖1和圖2所示,本實用新型提供一種掩模版的夾持裝置的優(yōu)選實施例,其中,圖1是夾持裝置的剖面正視圖;圖2是夾持裝置的剖面左視圖
一種掩模版的夾持裝置,包括總架30,還包括固定組件10和底部支撐架20,掩模版通過固定組件10固定,并通過底部支撐架20帶動旋轉(zhuǎn),便于掩模版的檢查。
其中,固定組件10,其包括可調(diào)支架11和掩模版固定件12,掩模版固定件12設(shè)置在可調(diào)支架11上,用于固定掩模版;底部支撐架20,其與可調(diào)支架11連接,并與總架30轉(zhuǎn)動連接,可調(diào)支架11通過底部支撐架20在一定傾斜角度上進行擺動。
具體地,可調(diào)支架11是設(shè)置在底部支撐架20上的兩端的支撐架,包括第一可調(diào)支架11和第二可調(diào)支架11,掩模版固定在第一可調(diào)支架11和第二可調(diào)支架11之間。
掩模版固定件12包括設(shè)置在移動架底部的底部掩模版固定件121,和設(shè)置在移動架頂部的頂部掩模版固定件122,即包括兩個底部掩模版固定件121和兩個頂部掩模版固定件122,通過四個掩模版固定件12將掩模版固定在第一可調(diào)支架11和第二可調(diào)支架11之間。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備





