[實(shí)用新型]晶片組件以及成像系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201520152272.3
• 申請(qǐng)日: 2015-03-18
• 公開（公告）號(hào): CN204422960U
• 公開（公告）日: 2015-06-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 達(dá)靖虹
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 達(dá)靖虹
• 主分類號(hào): G03B21/14
• 分類號(hào): G03B21/14;G02B5/20
• 代理公司: 無
• 代理人: 無

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種用于投影的晶片組件和含有該晶片組件的成像系統(tǒng)

背景技術(shù)

近年來，體積龐大且笨重的陰極射線管(CRT)投影機(jī)，已逐漸被液晶投影機(jī)及數(shù)字光源處理(DLP)投影機(jī)等產(chǎn)品所取代。這些產(chǎn)品具有輕薄且可攜性高的特性，并可直接與數(shù)字產(chǎn)品連結(jié)以將影像投影顯示出來。

一般而言，現(xiàn)有的投影機(jī)大多是采用基于色輪的、利用空間光調(diào)制器的原理，將白光依序分成紅光、藍(lán)光與綠光，再通過投影鏡頭的配合，進(jìn)行彩色圖像的顯示。在投影裝置中，光源所提供的白光首先通過準(zhǔn)直光學(xué)件，再反射至色輪。色輪包括紅色濾光片、綠色濾光片與藍(lán)色濾光片，通過色輪的轉(zhuǎn)動(dòng)，將白光按照順序快速過濾成紅光、綠光與藍(lán)光，并射向空間光調(diào)制器?？刂破鹘邮蛰斎氲囊曨l信號(hào)，并與色輪同步，將圖像數(shù)據(jù)發(fā)給空間光調(diào)制器。之后，投影鏡頭再將經(jīng)過調(diào)制的紅色、綠色與藍(lán)色光束聚焦投影于屏幕上，三種原色的圖像合在一起，在屏幕上形成全彩影像。

附圖1是傳統(tǒng)的圓形彩輪的結(jié)構(gòu)示意圖。由圖1可知，傳統(tǒng)的圓形彩輪包括設(shè)有在白光中只讓相應(yīng)于各個(gè)彩色的光波波長才允許通過的顏色濾波器；設(shè)有用來固定顏色濾波器的聯(lián)軸器；以及設(shè)有連接在聯(lián)軸器上的產(chǎn)生轉(zhuǎn)矩的電動(dòng)機(jī)。圓形彩輪在電動(dòng)機(jī)的拖動(dòng)下，帶動(dòng)聯(lián)軸器和固定在其上面的顏色濾波器進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，因此能依次分離出彩色光。

但是，采用上述順序彩色，利用RGB(紅綠藍(lán))三原色色輪實(shí)現(xiàn)彩色的方法，存在著如下的問題。

首先，圖像的表現(xiàn)力和色彩飽和度不夠。

其次，光源的利用率不高，理論值小于1/3。為了克服該弱點(diǎn)，提高光的利用率，進(jìn)而采用了RGB+W(紅綠藍(lán)白)四段色輪，但由于增加W段濾色片會(huì)降低畫面色彩飽和度，因此其?所占色輪的比重不能過大。所以，由于色輪和光學(xué)系統(tǒng)的限制，光的利用率仍然較低。

再次，上述方法通常是通過色輪實(shí)現(xiàn)的白光分離，圓形彩輪在一邊進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的同時(shí)，光將通過顏色濾波器；這時(shí)光能通過多大的有效面積，就能濾過多少波，而且純色亮度將隨著彩輪的紅綠藍(lán)濾波區(qū)域的增加而增大，即彩輪的直徑越大，純色亮度和畫面質(zhì)量越好。若減小這種彩輪的大小，將會(huì)產(chǎn)生降低畫面質(zhì)量等問題。但增大色輪，會(huì)增加投影設(shè)備的大小、重量以及噪音，因此這一問題就成為了投影設(shè)備小型化和輕量化的一個(gè)負(fù)擔(dān)。而且，在圓形的色輪上，想均勻地涂布彩色需要很大的費(fèi)用，而且廢品率高。另外，色輪為轉(zhuǎn)動(dòng)件，其在可靠度方面較固定件差，并且磨損率也很高，所以較容易發(fā)生故障。并且，色輪采用的濾光片通常采用染色法、顏料分散法、印刷法、電鍍法和噴墨法等方法制作，無法兼顧工藝簡便、高精度、低成本的要求。

中國專利申請(qǐng)CN103777446A公開了一種晶片組件，該晶片組件包括依次疊置的多層成像基片，還包括黑色濾光基片和基片固定件，黑色濾光基片位于多層成像基片側(cè)面，基片固定件將多層成像基片與黑色濾光基片固定，成像基片上雕刻有圖像信息。但由于黑色濾光基片上的黑色鍍膜會(huì)吸收較多的光源熱量，尤其是在使用大功率光源的時(shí)候，由于黑色鍍膜吸收了較多的光源熱量因此較容易過熱進(jìn)而導(dǎo)致晶片組件變形甚至損壞。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型旨在克服上述缺陷，提供一種晶片組件，該晶片組件包括依次疊置的多層成像基片，還包括側(cè)部基片和基片固定單元，側(cè)部基片位于多層成像基片側(cè)面，基片固定單元將多層成像基片與側(cè)部基片固定，成像基片上雕刻有圖像信息，側(cè)部基片包括反光膜。

優(yōu)選地，成像基片包括原材和鍍于原材上的各色濾光膜。

優(yōu)選地，成像基片上雕刻有圖像信息包括使用激光設(shè)備根據(jù)單色圖像信息消除每個(gè)基片上單色圖像不需要的濾光膜，以及削薄單色圖像不同部位的濾光膜的厚度，從而在基片上形成圖像信息。

優(yōu)選地，側(cè)部基片具有中央被擊穿為圓形或方形或不規(guī)則形狀的窗口，周邊的反光膜被保留。

優(yōu)選地，多層成像基片包括三層基片，多層成像基片之間可以采用壓制或粘膠層疊放置。

優(yōu)選地，成像基片和側(cè)部基片上的鍍膜僅存在于原材的一面上，固定形成晶片組件時(shí)，成像基片上的鍍膜都處于靠近側(cè)部基片的一面上。

優(yōu)選地，側(cè)部基片上的鍍膜處于靠近成像基片的一面上。

本實(shí)用新型也涉及一種成像系統(tǒng)，其特征在于該成像系統(tǒng)包括光源和前述的晶片組件。

本實(shí)用新型由于采用了反光膜，該反光膜既能夠遮擋光線，又可以將投向側(cè)部基片邊緣的絕大部分光線反射走，因此不會(huì)導(dǎo)致晶片組件過熱而導(dǎo)致晶片組件變形設(shè)置損壞，因此不僅解決了晶片組件的優(yōu)質(zhì)成像問題，還解決了現(xiàn)有晶片組件容易吸熱而導(dǎo)致變形、受損的問題。

附圖說明