[實用新型]一種金屬化薄膜電阻測試支架有效
| 申請號: | 201520121586.7 | 申請日: | 2015-03-02 |
| 公開(公告)號: | CN204422655U | 公開(公告)日: | 2015-06-24 |
| 發明(設計)人: | 張世鐸 | 申請(專利權)人: | 黃山申格電子科技有限公司 |
| 主分類號: | G01R27/02 | 分類號: | G01R27/02 |
| 代理公司: | 無 | 代理人: | 無 |
| 地址: | 245000 安徽省*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 金屬化 薄膜 電阻 測試 支架 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種金屬化薄膜電阻測試支架,屬于薄膜電容器生產制造技術領域。
背景技術
現有技術中已公知的,用于制造薄膜電容器的金屬化薄膜具有梯度變化或漸進變化的鍍層厚度,對于在以下這些方面具有進步意義:降低自愈能耗,減少引出線與電極的接觸電阻,提高承載電流的能力,提高耐壓能力;金屬化薄膜鍍層厚度的變化直接影響金屬化薄膜電阻性能的變化,為了排除材料品質、加工工藝等細微變化對產品性能的影響,以金屬化薄膜的電阻性能來限定或判定金屬化薄膜各定義位置處鍍層厚度更符合實際需要,也更具有實際操作性。此外,即便是常規的等鍍層厚度的金屬化薄膜,對于薄膜鍍層厚度均勻性的監控也很有必要。為了檢測金屬化薄膜在不同方向和不同位置處的鍍層電阻特性,通常需要對金屬化薄膜的多個位置進行檢測,通常的檢測方法需要不斷地改變金屬化薄膜的夾持方式,容易造成金屬化薄膜的破損,或者采用手持的方式檢測不同位置之間的電阻特性則存在測試誤差大、檢測結果的平行性差的不足。針對上述問題有必要提出可行的技術方案加以克服。
實用新型內容
本實用新型正是針對現有技術存在的不足,提供一種金屬化薄膜電阻測試支架,無需多次改變金屬化薄膜的夾持方式,即可完成金屬化薄膜多個位置之間的電阻特性的檢測,滿足實際使用要求。
為解決上述問題,本實用新型所采取的技術方案如下:
一種金屬化薄膜電阻測試支架,包括:
一用于平托金屬化薄膜樣品的支撐底座;
用于接觸金屬化薄膜樣品的檢測頭,所述檢測頭為兩個且分別連接電阻檢測設備的正負極檢測線;
一固定設置于所述支撐底座上用于夾持金屬化薄膜樣品的夾持片;
一固定設置于所述支撐底座上用于夾持金屬化薄膜樣品且用于固定所述檢測頭的固定夾持片;
一活動設置于所述支撐底座上用于固定所述檢測頭的固定片,所述固定片位于所述夾持片和所述固定夾持片之間;
所述夾持片、所述固定夾持片和所述固定片均為長方形且相互平行,所述固定夾持片和所述固定片在長度方向上都設置有鏤空的檢測滑槽,所述檢測頭位于所述檢測滑槽內。
作為上述技術方案的改進,所述夾持片、所述固定夾持片的兩端均通過安裝螺栓固定連接所述支撐底座;所述支撐底座上設置有垂直于所述固定片的凸起滑道,所述凸起滑道為兩個且分別位于所述固定片的兩端,所述固定片的兩端底部設置有配合所述凸起滑道的限位凹槽。
作為上述技術方案的改進,所述夾持片、所述固定夾持片和所述固定片均為金屬制成,且所述夾持片和所述固定夾持片的底面設置有第一橡膠墊,所述支撐底座的頂面設置有第二橡膠墊,且所述夾持片和所述固定夾持片的頂面均設置有配合所述安裝螺栓的安裝導套。
上述改進采用金屬作為主材料便于加工且剛性好,從而便于控制表面平整度,降低夾持金屬化薄膜時施力不均的程度,但是金屬表面過于堅硬容易刮傷金屬化薄膜且摩擦力較小,夾持穩固效果不佳,因此設置第一橡膠墊和第二橡膠墊,既能夠大大降低刮傷金屬化薄膜的幾率而且夾持很穩固,測試結果準確;此外,設置安裝導套不僅可以在保證螺紋不打滑的前提下減小夾持片和固定夾持片的厚度,而且可以提高夾持的穩固性,不會發生偏轉從而造成施力不均。
作為上述技術方案的改進,所述檢測頭包括球形觸頭、導電柱、以及包封所述球形觸頭和所述導電柱的絕緣塊,所述導電柱下端連接所述球形觸頭,所述導電柱上端連接電阻檢測設備的正負極檢測線。
用于接觸金屬化薄膜的觸頭為球形觸頭,因此減少了尖端放電的幾率,即降低了設備擊穿拉火的幾率,同時采用絕緣塊包封導體,使得檢測頭之間以及檢測頭與測試夾持器具之間的電氣絕緣性能進一步提高。
本實用新型與現有技術相比較,本實用新型的實施效果如下:
本實用新型所述的一種金屬化薄膜電阻測試支架,可以選擇將兩個檢測頭均放置于所述固定夾持片的檢測滑槽中或所述固定片的檢測滑槽中,也可以在兩個檢測滑槽中各放置一個檢測頭,由于所述固定片可以自由滑動,而檢測頭可以在檢測滑槽中自由滑動,因此無需多次改變金屬化薄膜的夾持方式,即可完成金屬化薄膜多個位置之間的電阻特性的檢測,滿足實際使用要求。
附圖說明
圖1為本實用新型所述的一種金屬化薄膜電阻測試支架俯視結構示意圖;
圖2為本實用新型所述的一種金屬化薄膜電阻測試支架平視結構示意圖;
圖3為圖1中A—A處的剖面結構示意圖;
圖4為圖1中B—B處的剖面結構示意圖;
圖5為圖1中C—C處的剖面結構示意圖。
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