[實用新型]一種用于晶圓曝光的工件臺

有效

• 申請號: 201520120168.6
• 申請日: 2015-02-28
• 公開（公告）號: CN204595427U
• 公開（公告）日: 2015-08-26
• 發明（設計）人: 段占曉;鐵玉峰;賈輝;馬鳳霞;曹若愚
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

1.一種用于晶圓曝光的工件臺，從上至下依次包括曝光旋轉機構、XY方向移動臺以及大理石基座，所述曝光旋轉機構從上至下依次包括硅片交接機構、旋轉機構、垂向機構以及氣足系統，所述XY方向移動臺主要由三個相互獨立的第一X向永磁直線電機、第二X向永磁直線電機和Y向永磁直線電機組成，其特征在于，所述垂向機構在底板上安裝有凸輪驅動單元，用于減少垂向機構設計時垂直方向的公差。

2.根據權利要求1所述的用于晶圓曝光的工件臺，其特征在于，所述旋轉機構設置有光柵尺，用于測量位于所述旋轉機構上的吸盤在X、Y和Z三個方向上的移動距離。

3.根據權利要求1所述的用于晶圓曝光的工件臺，其特征在于，所述垂向機構在底板上安裝有三組凸輪驅動單元，并通過三角簧片將所述凸輪驅動單元固定在一起。

4.根據權利要求3所述的用于晶圓曝光的工件臺，其特征在于，相鄰兩個所述凸輪驅動單元之間設置垂向光柵尺，所述垂向機構的左側部與后部都安裝有反射鏡。

5.根據權利要求1所述的用于晶圓曝光的工件臺，其特征在于，所述凸輪驅動單元分別安裝在所述底板上的垂向調整墊的斜面上，所述垂向調整墊前側安裝有調整螺釘，所述凸輪驅動單元中的凸輪安裝在凸輪座中，所述凸輪的半徑范圍在14.5mm到18mm之間。

6.根據權利要求1所述的用于晶圓曝光的工件臺，其特征在于，所述硅片交接機構采用光斷續器作為電氣限位，在所述光斷續器后安裝橡膠墊作為機械限位。

7.根據權利要求1所述的用于晶圓曝光的工件臺，其特征在于，所述第一X向永磁直線電機、第二X向永磁直線電機和Y向永磁直線電機為三相或者多相永磁直線電機。

8.根據權利要求1所述的用于晶圓曝光的工件臺，其特征在于，所述旋轉機構采用傳感器作為電氣限位，在與所述電氣限位相距半個圓周處設置機械限位。

9.根據權利要求1所述的用于晶圓曝光的工件臺，其特征在于，所述XY方向移動臺兩側的所述第一X向永磁直線電機通過第一X向浮動側板浮于所述大理石基座一側，所述第一X向永磁直線電機與第一X向浮動側板中間夾有第一X向陶瓷導軌，所述第二X向永磁直線電機通過第二X向浮動側板浮于所述大理石基座的另一側，所述第二X向永磁直線電機與所述第二X向浮動側板之間夾有第二X向陶瓷導軌，所述第一X向陶瓷導軌與所述第二X向陶瓷導軌分別與Y向橫梁陶瓷導軌固定連接，所述第二X向陶瓷導軌中部設置X向光柵尺，所述Y向橫梁陶瓷導軌中部設置Y向光柵尺。

10.根據權利要求9所述的用于晶圓曝光的工件臺，其特征在于，所述XY方向移動臺中的第一X向浮動側板為第一X向氣浮側板，所述第二X向浮動側板為第二X向氣浮側板。

11.根據權利要求9所述的用于晶圓曝光的工件臺，其特征在于，所述XY方向移動臺中的第一X向浮動側板為第一X向磁浮側板，所述第二X向浮動側板為第二X向磁浮側板。

12.根據權利要求9所述的用于晶圓曝光的工件臺，其特征在于，采用激光干涉儀獲取X、Y向位置和速度的信息，用于補償X向光柵尺和Y向光柵尺的數據誤差。

13.根據權利要求1所述的用于晶圓曝光的工件臺，其特征在于，在所述XY方向移動臺上X與Y方向運動的電氣限位為傳感器，機械限位為緩沖器。

14.根據權利要求1所述的用于晶圓曝光的工件臺，其特征在于，所述氣足系統設置在所述XY方向移動臺上并與所述大理石基座的暴露部分形成氣膜，所述氣足系統由氣足底板和兩側氣足側板組成，所述氣足底板氣浮面與大理石基座形成氣膜，所述氣足底板的四角為開泄壓槽，氣浮區域在所述開泄壓槽內部聯通，所述開泄壓槽周圍分布著真空吸附區域，分布在四角的每個所述真空吸附區域中各自設有一個真空吸附孔。

15.根據權利要求14所述的用于晶圓曝光的工件臺，其特征在于，所述大理石基座在與所述氣足系統接觸的氣浮區域的變形量小于1μm。