[實用新型]一種用于極紫外輻照材料測試設(shè)備的抽真空系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201520104669.5 | 申請日: | 2015-02-12 |
| 公開(公告)號: | CN204758456U | 公開(公告)日: | 2015-11-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳進新;王宇;吳曉斌;謝婉露;王魁波;崔惠絨 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院光電研究院 |
| 主分類號: | G01N17/00 | 分類號: | G01N17/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 宋焰琴 |
| 地址: | 100094*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 紫外 輻照 材料 測試 設(shè)備 真空 系統(tǒng) | ||
1.一種用于極紫外輻照材料測試設(shè)備的抽真空系統(tǒng),所述極紫外輻照材料測試設(shè)備包括EUV光源腔室(A)、收集鏡腔室(B)和樣品腔室(C),其特征在于,所述抽真空系統(tǒng)包括:
分別連接到所述EUV光源腔室(A)、收集鏡腔室(B)和樣品腔室(C)的真空泵單元和真空計單元;
連接于所述EUV光源腔室(A)和收集鏡腔室(B)之間的第一插板閥(A3);
連接于所述收集鏡腔室(B)和樣品腔室(C)之間的第二插板閥(B3);
第一氣源(A4)和第二氣源(B4),分別連通所述第一插板閥(A3)和第二插板閥(B3),用于提供EUV輻照的緩沖氣體;
氣體分析單元(C5),其與所述樣品腔室(C)連接。
2.如權(quán)利要求1所述的用于極紫外輻照材料測試設(shè)備的抽真空系統(tǒng),其特征在于,所述真空泵單元中的至少一個包括分子泵(A11、B11、C11)和機械泵(A12、B12、C12),分子泵與相應(yīng)腔室(A、B、C)之間通過插板閥(A13、B13、C13)連接,在分子泵和機械泵之間用三通連接,三通的第三端口通過閥門連接到相應(yīng)腔室上。
3.如權(quán)利要求1所述的用于極紫外輻照材料測試設(shè)備的抽真空系統(tǒng),其特征在于,所述真空計單元中的至少一個包括第一真空計(A21、B21、C21)和第二真空計(A22、B22、C22),第一真空計和第二真空計具有不同的量程。
4.如權(quán)利要求1所述的用于極紫外輻照材料測試設(shè)備的抽真空系統(tǒng),其特征在于,所述第一氣源(A4)和第二氣源(B4)中的至少一個包括氣瓶(A41、B41)、減壓閥門(A42、B42)和截止閥門(A43、B43),氣瓶(A41、B41)依次通過減壓閥門(A42、B42)和截止閥門(A43、B43)與相應(yīng)插板閥(A3、B3)連接,所述截止閥門(A43、B43)和相應(yīng)插板閥(A3、B3)之間連接有流量控制單元。
5.如權(quán)利要求2至4中任一項所述的用于極紫外輻照材料測試設(shè)備的抽真空系統(tǒng),其特征在于,所述氣體分析單元(C5)通過閥門(B5)與所述收集鏡腔室(B)的真空泵單元(B1)相連。
6.如權(quán)利要求5所述的用于極紫外輻照材料測試設(shè)備的抽真空系統(tǒng),其特征在于,所述氣體分析單元(C5)包括氣體分析儀(C51)、流量調(diào)節(jié)閥(C52)和第三真空計(C53),所述氣體分析儀(C51)和所述樣品腔室(C)之間通過所述流量調(diào)節(jié)閥(C52)連接,所述的第三真空計(C53)連接到所述氣體分析儀(C51)與所述流量調(diào)節(jié)閥(C52)之間的管道上。
7.如權(quán)利要求6所述的用于極紫外輻照材料測試設(shè)備的抽真空系統(tǒng),其特征在于,所述收集鏡腔室(B)的真空泵單元包括分子泵(B11)和機械泵(B12),該分子泵與收集鏡腔室(B)之間通過插板閥(B13)連接,在分子泵(B11)和機械泵(B12)之間用三通連接,三通的第三端口通過閥門連接到收集鏡腔室(B);
所述氣體分析儀(C51)通過閥門(B5)接入所述插板閥(B13)和所述分子泵(B11)之間。
8.如權(quán)利要求5所述的用于極紫外輻照材料測試設(shè)備的抽真空系統(tǒng),其特征在于,所述氣體分析儀(C51)為四極質(zhì)譜計。
9.如權(quán)利要求6所述的用于極紫外輻照材料測試設(shè)備的抽真空系統(tǒng),其特征在于,所述流量調(diào)節(jié)閥(C52)為面密封閥。
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