[實用新型]一種布置VAD和OVD的設備

有效

• 申請號: 201520100490.2
• 申請日: 2015-02-12
• 公開（公告）號: CN204607853U
• 公開（公告）日: 2015-09-02
• 發明（設計）人: 沈小平;向德成;郎瀟;錢昆;沈國鋒;賀程程
• 申請（專利權）人: 江蘇通鼎光棒有限公司
• 主分類號: C03B37/018
• 分類號: C03B37/018
• 代理公司: 蘇州慧通知識產權代理事務所(普通合伙) 32239
• 代理人: 安紀平

1.一種布置VAD和OVD的設備，其包括一個多樓層的廠房和由下到上貫穿于各個樓層的沉積塔架，所述沉積塔架的基座設置在所述廠房的一樓，所述沉積塔架的頂部達到所述廠房的樓頂但未接觸到樓頂，其特征在于，所述沉積塔架在每個樓層的空間中掛裝一個VAD或OVD的設備本體，所述設備本體從一樓至頂樓成螺旋狀排布方式掛裝到所述沉積塔架上；VAD或OVD的輔助設備安裝在對應的VAD或OVD的設備本體的樓層上，且VAD或OVD的輔助設備環繞所述沉積塔架周圍。

2.根據權利要求1所述的一種布置VAD和OVD的設備，其特征在于，所述設備本體從一樓至頂樓成螺旋狀排布方式掛裝到所述沉積塔架上。

3.根據權利要求2所述的一種布置VAD和OVD的設備，其特征在于，還包括提升旋轉機構，每個設備本體對應一臺提升旋轉機構，每個所述提升旋轉機構貫穿兩層樓。

4.根據權利要求3所述的一種布置VAD和OVD的設備，其特征在于，所述設備本體為VAD設備的沉積腔體。

5.根據權利要求4所述的一種布置VAD和OVD的設備，其特征在于，所述廠房有四個樓層，一樓到三樓每個樓層的高度比所述沉積腔體高50cm。

6.根據權利要求5所述的一種布置VAD和OVD的設備，其特征在于，頂樓的高度至少5m，其它樓層的高度為3m。

7.根據權利要求6所述的一種布置VAD和OVD的設備，其特征在于，每層樓層的樓板均設有預留洞口，所述預留洞口恰好供所述沉積塔架穿過。

8.根據權利要求1所述的一種布置VAD和OVD的設備，其特征在于，所述VAD或OVD的輔助設備包括以下一種或幾種：氣柜、SiCl₄和GeCl₄蒸發柜、電柜和操作計算機柜。

9.根據權利要求8所述的一種布置VAD和OVD的設備，其特征在于，所述SiCl₄和GeCl₄蒸發柜設置在VAD或OVD的設備本體相鄰的位置。