[實(shí)用新型]涂布模具有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201520097988.8 | 申請日: | 2015-02-11 |
| 公開(公告)號: | CN204544643U | 公開(公告)日: | 2015-08-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 邱財(cái)韋;夏國雄;黃麟詔 | 申請(專利權(quán))人: | 臺虹科技股份有限公司 |
| 主分類號: | B05C5/02 | 分類號: | B05C5/02 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人: | 馬雯雯;臧建明 |
| 地址: | 中國臺灣高雄市前*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 模具 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型是有關(guān)于一種涂布模具,且特別是有關(guān)于一種具有良好操作視窗的涂布模具。
背景技術(shù)
近年來,電子產(chǎn)品材料逐漸往多層化及多功能化的趨勢發(fā)展。而目前涂布膜層的方式仍以單層涂布制程為主。通過單層涂布制程,若要制作兩膜層以上的結(jié)構(gòu),必須連續(xù)進(jìn)行兩次以上放卷涂布一層涂料并烘干后收卷的步驟,藉此雖然制程操作簡單,但整體良率損耗大,且因需要涂布、干燥兩次以上,不但制程時(shí)間增加,烘干所造成的能源消耗也提高。有鑒于此,具有良好操作視窗及再現(xiàn)性的多層涂布制程成為本領(lǐng)域中的一個(gè)發(fā)展重點(diǎn)。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型提供一種涂布模具,其適用于同時(shí)涂布兩層或三層涂布液的多層涂布制程,且會具有良好的操作視窗及再現(xiàn)性。
本實(shí)用新型的涂布模具包括上模板、下模板以及第一夾板,其中第一夾板配置于上模板與下模板之間。其中,以上模板的模唇、下模板的模唇及第一夾板的模唇中的一者為基準(zhǔn),上模板的模唇、下模板的模唇及第一夾板的模唇中的其他者中的至少一者相對于該基準(zhǔn)偏移一偏移量。
在本實(shí)用新型的一實(shí)施方式中,以上述的下模板的模唇為基準(zhǔn),上模板的模唇及第一夾板的模唇中的至少一者相對于該基準(zhǔn)偏移一偏移量。
在本實(shí)用新型的一實(shí)施方式中,上述的偏移量為5μm至1000μm。
在本實(shí)用新型的一實(shí)施方式中,上述的上模板、下模板及第一夾板之間構(gòu)成兩個(gè)流道。
在本實(shí)用新型的一實(shí)施方式中,上述的涂布模具還包括第二夾板,配置于上模板與第一夾板之間。
在本實(shí)用新型的一實(shí)施方式中,以上述的上模板的模唇、下模板的模唇、第一夾板的模唇及第二夾板的模唇中的一者為基準(zhǔn),上模板的模唇、下模板的模唇、第一夾板的模唇及第二夾板的模唇中的其他者中的至少一者相對于該基準(zhǔn)偏移一偏移量,其中所述偏移量為5μm至1000μm。
在本實(shí)用新型的一實(shí)施方式中,以上述的下模板的模唇為基準(zhǔn),上模板的模唇、第一夾板的模唇及第二夾板的模唇中的至少一者相對于該基準(zhǔn)偏移一偏移量,其中所述偏移量為5μm至1000μm。
在本實(shí)用新型的一實(shí)施方式中,上述的上模板、下模板、第一夾板及第二夾板之間構(gòu)成三個(gè)流道。
基于上述,通過本實(shí)用新型的涂布模具中的模唇具有一偏移量,而使得在進(jìn)行涂布制程時(shí),所涂布的流體能夠具有良好的流場穩(wěn)定性,藉此不但涂布模具具有良好的操作視窗及再現(xiàn)性,且相較于現(xiàn)有單層涂布技術(shù),制程良率得以提升及制程時(shí)間得以降低。
為讓本實(shí)用新型的上述特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂,下文特舉實(shí)施例,并配合附圖作詳細(xì)說明如下。
附圖說明
圖1是本實(shí)用新型的一實(shí)施方式的涂布模具應(yīng)用于一涂布系統(tǒng)的示意圖;
圖2是本實(shí)用新型的一實(shí)施方式的涂布模具應(yīng)用于另一涂布系統(tǒng)的示意圖;
圖3是本實(shí)用新型的一實(shí)施方式的涂布模具的示意圖;
圖4是圖3的涂布模具的局部示意圖;
圖5是本實(shí)用新型的另一實(shí)施方式的涂布模具的局部放大示意圖;
圖6是本實(shí)用新型的另一實(shí)施方式的涂布模具的局部放大示意圖;
圖7是本實(shí)用新型的另一實(shí)施方式的涂布模具的示意圖;
圖8是圖7的涂布模具的局部示意圖;
圖9是本實(shí)用新型的另一實(shí)施方式的涂布模具的局部放大示意圖;
圖10是本實(shí)用新型的另一實(shí)施方式的涂布模具的局部放大示意圖。
附圖標(biāo)記說明:
10、20:涂布系統(tǒng);
12、22:供液裝置;
13、23:平臺;
14:控制單元;
16、26:移動單元;
18、28:基材;
100、200、300、400、500、600:涂布模具;
102、202:上模板;
104、204:下模板;
106、206:第一夾板;
112、116B、212、216B、218B:下表面;
116A、114、214、216A、218A:上表面;
120、122、320、322、324:流道;
131、231:上模模唇;
132、232:上模模肩;
133、233:下模模唇;
134、234:下模模肩;
135、235、237:模唇;
208:第二夾板;
D、P:偏移量;
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