[實(shí)用新型]一種光刻機(jī)的接近式間隙曝光工件臺(tái)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201520092861.7
• 申請(qǐng)日: 2015-02-10
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN204422970U
• 公開(kāi)（公告）日: 2015-06-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 龔健文;胡松;楊春利
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所
• 主分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 無(wú)
• 代理人: 無(wú)

1.一種光刻機(jī)的接近式間隙曝光工件臺(tái)，其特征在于：包括掩模板(1)、掩模架(2)、滑塊(3)、旋轉(zhuǎn)銅圈(4)、鋼球(5)、樣片(6)、承片臺(tái)(7)、三點(diǎn)彈性支撐機(jī)構(gòu)(8)、鎖緊氣缸(9)、升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(10)、主控制器(11)、控制電路板(12)、正壓輸入端(13)、負(fù)壓輸入端(14)、電控閥門(mén)(15)、限位機(jī)構(gòu)(16)和驅(qū)動(dòng)氣缸(17)；

所述掩模板(1)位于掩模架(2)上方并固接；所述掩模架(2)上表面有真空槽，用于吸緊掩模板(1)，內(nèi)腔設(shè)置有滑塊(3)的徑向?qū)虿郏糜诨瑝K(3)導(dǎo)向；所述滑塊(3)、鋼球(5)以及旋轉(zhuǎn)銅圈(4)嵌入在掩模架(2)內(nèi)腔中，鋼球(5)鑲嵌在滑塊(3)端部，旋轉(zhuǎn)銅圈(4)上設(shè)置有3處滑槽，旋轉(zhuǎn)銅圈(4)旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)帶動(dòng)滑塊(3)徑向伸縮運(yùn)動(dòng)；所述承片臺(tái)(7)設(shè)置有真空槽，用于吸附固定樣片(6)；所述三點(diǎn)彈性支撐結(jié)構(gòu)(8)與承片臺(tái)(7)通過(guò)柔性鉸鏈連接，用于樣片(6)調(diào)平；所述氣缸包括驅(qū)動(dòng)氣缸(17)和鎖緊氣缸(9)，用于驅(qū)動(dòng)銅圈(4)旋轉(zhuǎn)和鎖緊三點(diǎn)彈性支撐結(jié)構(gòu)(8)；所述升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(10)設(shè)置有限位機(jī)構(gòu)(16)，用于停止升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(10)運(yùn)動(dòng)；所述正壓輸入端(13)通過(guò)電控閥門(mén)(15)分別與鎖緊氣缸(9)和驅(qū)動(dòng)氣缸(17)連接；所述負(fù)壓輸入端(14)通過(guò)電控閥門(mén)(15)分別于掩模架(2)和承片臺(tái)(7)連接；所述驅(qū)動(dòng)控制板(12)分別與電控閥門(mén)(15)和主控制器(11)連接。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種光刻機(jī)的接近式間隙曝光工件臺(tái)，其特征在于：所述掩模架(2)為水平基準(zhǔn)面，上表面有真空槽，通過(guò)負(fù)壓將掩模板(1)固定于掩模架(2)上方。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述一種光刻機(jī)的接近式間隙曝光工件臺(tái)，其特征在于：所述掩模架(2)內(nèi)腔中三處滑塊導(dǎo)向槽之間沿徑向以120°夾角均勻分布。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種光刻機(jī)的接近式間隙曝光工件臺(tái)，其特征在于：所述旋轉(zhuǎn)銅圈(4)選用材料銅或者其他耐磨性材料，3處滑槽之間以120°夾角均勻分布。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種光刻機(jī)的接近式間隙曝光工件臺(tái)，其特征在于：所述滑塊(3)端部鑲有鋼球的一端具有一定的恢復(fù)彈性變形的能力，可以采用鈹青銅或者其他具有一定彈性和耐磨的材料代替，三個(gè)鋼球(5)等直徑，鋼球(5)最上端與掩模面的距離為0.5mm或者在彈性變形范圍內(nèi)的其他值。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種光刻機(jī)的接近式間隙曝光工件臺(tái)，其特征在于：所述承片臺(tái)(7)上表面設(shè)有真空槽，與負(fù)壓輸入端(14)相連，通過(guò)負(fù)壓將樣片(6)固定于承片臺(tái)(7)上方。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種光刻機(jī)的接近式間隙曝光工件臺(tái)，其特征在于：所述升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(10)可選用電機(jī)、氣缸或其他具有相似功能的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)；所述電控閥門(mén)(15)、驅(qū)動(dòng)氣缸(17)、鎖緊氣缸(9)、升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(10)的動(dòng)作都由主控制器(11)驅(qū)動(dòng)控制。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種光刻機(jī)的接近式間隙曝光工件臺(tái)，其特征在于：所述主控制器(11)可選用微控制器、單片機(jī)或其他具有相似功能的控制模塊。