[實用新型]一種采用納米材料的新型鋅合金表面鍍層結構

有效

• 申請號: 201520089975.6
• 申請日: 2015-02-09
• 公開（公告）號: CN204505993U
• 公開（公告）日: 2015-07-29
• 發明（設計）人: 胡棟明
• 申請（專利權）人: 深圳市金源康實業有限公司
• 主分類號: B32B15/01
• 分類號: B32B15/01
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型屬于金屬材料表面鍍層技術領域，尤其涉及一種采用納米材料的新型鋅合金表面鍍層結構。

背景技術

?電子產品外觀結構件在電鍍后的質檢過程中往往會因為凹陷瑕疵而出現10%左右的不良品，帶有深度凹陷部位的鋅合金件表面要求凹陷部位被電鍍層填充，現有技術鋅合金件進行單純的光亮電鍍銅的電鍍，光亮電鍍銅也稱酸性銅電鍍，其特點是電鍍速度快，光亮性好，缺點是難以使深度凹陷部位被電鍍層填充。同時鋅合金件作為電子產品外觀結構件，往往采用鉻作為最外層保護，但其耐磨性和下層的結合強度難以滿足人們越來越多的使用要求，鍍層表面容易被磨損而露出底層材質。

由此可見，上述現有鋅合金表面鍍層結構仍存在有諸多的缺陷，而亟待加以改進。

實用新型內容

本實用新型所要解決的主要技術問題在于，克服現有的采用納米材料的新型鋅合金表面鍍層結構存在的缺陷，而提供一種新型結構的采用納米材料的新型鋅合金表面鍍層結構，提高鋅合金表面鍍層結構的質量。

本實用新型解決其主要技術問題是采用以下技術方案來實現的。依據本實用新型提出的采用納米材料的新型鋅合金表面鍍層結構，該結構由內到外依次包括鋅合金表面，堿性電鍍銅層、光亮電鍍銅層和納米晶鉻-鎳合金鍍層。

本實用新型解決其技術問題還可以采用以下技術措施來進一步實現。

前所述的堿性電鍍銅層的厚度為2微米到4微米。

前所述的堿性電鍍銅層的表面粗糙度的輪廓算術平均偏差Ra的范圍是0.5微米到1微米。

前所述的光亮電鍍銅層的厚度為5微米到15微米。

前所述的納米晶鉻-鎳合金鍍層的厚度為20微米到50微米。

本實用新型與現有技術相比具有明顯的優點和有益效果。由以上技術方案可知，本實用新型由于采用上述技術方案，堿性電鍍銅層的表面粗糙度的輪廓算術平均偏差Ra的范圍是0.5微米到1微米，實踐證明該表面粗糙度能夠保證堿性電鍍銅層和光亮電鍍銅層的實際相互接觸面積，能夠滿足兩層之間結合的需要，同時堿性電鍍銅層的粗糙度也不會給光亮電鍍銅層的平整性帶來不利影響；堿性電鍍銅層具有鍍層厚度增長慢的特點，可以很好地覆蓋鋅合金件的深度凹陷部位表面，在堿性電鍍銅層外再覆蓋一層光亮電鍍銅層，達到光亮的效果，同時采用上述的各層的厚度配比，這樣生產出來的采用納米材料的新型鋅合金表面鍍層結構達到高質量要求，同時具有外觀光亮、耐磨、耐腐蝕的效果。納米晶鉻-鎳合金鍍層光亮平整緊致，與光亮電鍍銅層結合力強，在空氣中的耐磨性和耐腐蝕性優異，適合電子產品外觀結構件的應用。

上述說明僅為本實用新型技術方案特征部份的概述,為使專業技術人員能夠更清楚了解本實用新型的技術手段,并可依照說明書的內容予以實施,以下以本實用新型的較佳實施例并配合附圖詳細說明如后。

本實用新型的具體實施方式由以下實施例及其附圖詳細給出。

附圖說明

圖1是本實用新型的剖面圖。

圖中，1、鋅合金表面；2、堿性電鍍銅層；3、光亮電鍍銅層；4、納米晶鉻-鎳合金鍍層。

具體實施方式

以下結合附圖及較佳實施例，對依據本實用新型提出的其具體實施方式、結構、特征及其功效，詳細說明如后。

請參閱圖1所示，本實用新型的采用納米材料的新型鋅合金表面鍍層結構,?該結構由內到外依次包括鋅合金表面1、堿性電鍍銅層2、光亮電鍍銅層3和納米晶鉻-鎳合金鍍層4，堿性電鍍銅層2的厚度為2微米到4微米，堿性電鍍銅層2的表面粗糙度的輪廓算術平均偏差Ra的范圍是0.5微米到1微米，光亮電鍍銅層3的厚度為5微米到15微米，納米晶鉻-鎳合金鍍層4的厚度為20微米到50微米。

以上所述，僅是本實用新型的較佳實施例而已，并非對本實用新型作任何形式上的限制，凡是依據本實用新型的技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本實用新型技術方案的范圍內。