[實用新型]一種高導電率低反射率金屬網格模具

有效

• 申請號: 201520085215.8
• 申請日: 2015-02-06
• 公開（公告）號: CN204537090U
• 公開（公告）日: 2015-08-05
• 發明（設計）人: 林杰;侯則良;王維綱
• 申請（專利權）人: 福建省諾希科技園發展有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041
• 代理公司: 福州市鼓樓區鼎興專利代理事務所(普通合伙) 35217
• 代理人: 傅契克

技術領域

本實用新型屬于觸摸面板材料領域，尤其是一種高導電率低反射率金屬網格模具。

背景技術

未來移動終端、可穿戴設備、智能家電等產品，對觸摸面板有著強勁需求，同時隨著觸控面板大尺寸化、低價化，以及傳統ITO薄膜不能用于可彎曲應用，導電性及透光率等本質問題不易克服等因素，眾面板廠商紛紛開始研究ITO的替代品，包括納米銀線、金屬網格、納米碳管以及石墨烯等材料。其中，金屬網格因具有成本最低、導電性能良好的特性，在市場中的應用也最為廣泛。

?現有的用于制備金屬網格的金屬網格模具，包括透明基材，透明基材上涂布塑膠薄膜，塑膠薄膜上壓印有金屬網格凹槽，金屬網格凹槽的橫截面為矩形，其上下寬度一致。在使用過程中，只要向金屬網格凹槽內鍍滿金、銀、銅、鋁等低電阻值金屬材料，再采用光阻剝離液將光阻層溶出，就可制得金屬網格。采用現有的金屬網格模具制得的金屬網格的與透明基材接觸位置、遠離透明基材位置的寬度相等，而與透明基材接觸的金屬網格位置寬度越寬，對光的反射率越強，越容易出現莫瑞干涉波紋，其分辨率越差；遠離透明基材的金屬網格位置的寬度越寬，其導電率越好，因此，采用現有的金屬網格模具無法制得兼具低發射率和高導電率雙重優良特性的金屬網格。

發明內容

本實用新型旨在提供一種高導電率低反射率金屬網格模具，該模具適用于金、銀、銅、鋁等所有低電阻金屬的金屬網格制備，并且，制備的金屬網格上寬下窄，兼具高導電率低反射率的雙重優良特性。

一種高導電率低反射率金屬網格模具，包括透明基材，透明基材上鋪設光阻層，光阻層為兩層蝕刻速率不同的光阻層疊加而成；且，上層光阻層為高電漿蝕刻速率電阻層，下層光阻層為低電漿蝕刻速率電阻層，電阻層上開設有電路網格凹槽，電路網格凹槽的底部延伸至透明基材的上表面，電路網格凹槽上寬下窄。這樣的金屬網格模具適用于金、銀、銅、鋁等所有低電阻金屬的金屬網格制備；并且，所制得的金屬網格，其與透明基材接觸的位置，線寬窄，可盡量降低其反射率，避免出現莫瑞干涉波紋；同時，在遠離透明基材的區域，線寬較大，又可盡量維持較高的導電率，尤其適合應用于大尺寸觸控面板，另外，本實用新型的光阻層為兩層蝕刻速率不同的光阻層疊加而成，且，上層光阻層為高電漿蝕刻速率電阻層，下層光阻層為低電漿蝕刻速率電阻層的結構，為在電阻層上開設上寬下窄的電路網格凹槽提供了必要條件。

本實用新型的高導電率低反射率金屬網格模具，可進一步改進：金屬網格凹槽橫截面的兩側邊線均為非直線。此種模具所制得的金屬網格的與透明基材接觸的位置，線寬更窄，反射率更低，確保不會出現莫瑞干涉波紋；同時，在遠離透明基材的區域，線寬更大，可維持更高的導電率。

附圖說明

圖1為本實用新型的透明基板涂布光阻層后的結構圖；

圖2為本實用新型的透明基板上進行光阻層壓印的工作結構圖，其中，箭頭方向為當時壓印模板的移動方向；

圖3為采用本實用新型的金屬網格模具的截面圖；

圖4為采用本實用新型的金屬網格模具制得的金屬網格的截面圖。

具體實施方式

現結合附圖具體說明本實用新型的實施方式：

一種高導電率低反射率金屬網格模具，包括透明基材3，透明基材3上鋪設光阻層（1、2），光阻層（1、2）為兩層蝕刻速率不同的光阻層疊加而成；且，上層光阻層1為高電漿蝕刻速率電阻層，下層光阻層2為低電漿蝕刻速率電阻層，電阻層（1、2）上開設有電路網格凹槽6，電路網格凹槽6的底部延伸至透明基材1的上表面，電路網格凹槽6上寬下窄（如圖3所示）。

本實用新型的金屬網格模具適用于金、銀、銅、鋁等所有低電阻金屬的金屬網格制備；并且，所制得的金屬網格7，其與透明基材3接觸的位置，線寬窄，可盡量降低其反射率，避免出現莫瑞干涉波紋；同時，在遠離透明基材3的區域，線寬較大，又可盡量維持較高的導電率，尤其適合應用于大尺寸觸控面板。

本實用新型的高導電率低反射率金屬網格模具，可進一步改進：金屬網格凹槽6橫截面的兩側邊線60均為非直線。此種模具所制得的金屬網格的與透明基材3接觸的位置，線寬更窄，反射率更低，確保不會出現莫瑞干涉波紋；同時，在遠離透明基材3的區域，線寬更大，可維持更高的導電率。

本實用新型的高導電率低反射率金屬網格模具的制備方法，包括以下步驟：

（1）在透明基材3上涂布光阻層（1、2），光阻層厚度為20~60微米，光阻層為兩層蝕刻速率不同的光阻層疊加而成（如圖1~3所示）；且，上層光阻層1所選用的光阻材料的電漿蝕刻速率大于下層光阻層2所選用的光阻材料的電漿蝕刻速率；