[實用新型]一種二級微位移放大結構

有效

• 申請號: 201520060445.9
• 申請日: 2015-01-29
• 公開（公告）號: CN204514510U
• 公開（公告）日: 2015-07-29
• 發明（設計）人: 鄭建毅;王俊清;楊群峰;林俊輝;趙雪楠
• 申請（專利權）人: 廈門大學
• 主分類號: G01L1/00
• 分類號: G01L1/00
• 代理公司: 廈門市精誠新創知識產權代理有限公司 35218
• 代理人: 巫麗青

1.一種二級微位移放大結構，其特征在于：在薄膜上采用刻蝕技術制備，包括：

兩對分別呈中心對稱設置的第一固定端和第二固定端，他們均由形成于基片上的犧牲層和形成于犧牲層上的待測薄膜構成，

一對呈中心對稱設置的固定梁，兩固定梁的一端分別連接在兩第一固定端，

一對呈中心對稱設置的旋轉梁，兩旋轉梁分別通過固定梁連接頸與兩固定梁的另一端連接，兩旋轉梁的一端通過旋轉梁連接頸與第二固定端連接，

一個具有中心對稱結構的指針梁，其對稱中心兩側分別通過兩根中心對稱的指針梁連接頸與兩根旋轉梁的另一端連接，

一對呈中心對稱設置的刻度尺，其形成于基片上的犧牲層和形成于犧牲層上的待測薄膜構成，其為配置與所述基片上的梳齒結構，兩刻度尺分別相對于指針梁的指針設置，用于配合讀取所示指針梁的擺動值，

薄膜下方的犧牲層去除后，薄膜內部的殘余應力作用下，固定梁產生的伸縮位移經過旋轉梁的伸縮位移通過固定梁連接頸傳遞給旋轉梁，旋轉梁將位移進行一級放大，放大后的位移然后經指針梁連接頸傳遞給指針梁，在指針梁連接頸的作用下對位移二次放大，二次放大后的位移轉變為指針梁的左右擺動，指針梁尖端擺動的值通過刻度尺上的刻度讀出。

2.根據權利要求1所述的一種二級微位移放大結構，其特征在于：所述指針梁對稱中心處設有指針梁彎角e。