[實(shí)用新型]柔性基材雙面磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201520053791.4
• 申請(qǐng)日: 2015-01-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN204509447U
• 公開(kāi)（公告）日: 2015-07-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 談琦
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 四川亞力超膜科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 成都宏順專利代理事務(wù)所(普通合伙) 51227
• 代理人: 周永宏

1.柔性基材雙面磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)，其特征在于，包括真空系統(tǒng)、卷繞系統(tǒng)(2)、濺射系統(tǒng)(3)和前處理系統(tǒng)(4)，真空系統(tǒng)包括真空室(1)和真空泵；卷繞系統(tǒng)(2)、濺射系統(tǒng)(3)和前處理系統(tǒng)(4)均設(shè)置在真空室(1)內(nèi)；

所述的真空系統(tǒng)用于將真空室(1)內(nèi)抽真空至磁控濺射需要的真空環(huán)境；

所述的卷繞系統(tǒng)(2)用于實(shí)現(xiàn)基材(8)的放卷和收卷，卷繞系統(tǒng)(2)包括放卷機(jī)構(gòu)(201)、第一鍍膜鼓(207)、第二鍍膜鼓(217)和收卷機(jī)構(gòu)(222)；由放卷機(jī)構(gòu)(201)釋放的基材(8)經(jīng)第一鍍膜鼓(207)和第二鍍膜鼓(217)，再由收卷機(jī)構(gòu)(222)進(jìn)行收卷；第一鍍膜鼓(207)與第二鍍膜鼓(217)相鄰的方向分別為兩次鍍膜的基材(8)的進(jìn)入方向；

所述的濺射系統(tǒng)(3)用于對(duì)經(jīng)過(guò)第一鍍膜鼓(207)和第二鍍膜鼓(217)的基材(8)進(jìn)行鍍膜得到鍍膜產(chǎn)品；

所述的前處理系統(tǒng)(4)用于對(duì)基材(8)的兩個(gè)表面同時(shí)進(jìn)行處理，有效除去基材(8)表面的油污和水蒸氣，活化基材表面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性基材雙面磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)，其特征在于，所述的真空室(1)內(nèi)部設(shè)有多個(gè)隔板(101)，隔板(101)將真空室(1)隔離為用于安裝卷繞系統(tǒng)(2)的卷繞室(102)，用于安裝濺射系統(tǒng)(3)的第一鍍膜室(103)和第二鍍膜室(104)，以及用于安裝前處理系統(tǒng)的前處理室(105)，前處理室(105)位于第一鍍膜室(103)與第二鍍膜室(104)之間；

所述的第一鍍膜室(103)和第二鍍膜室(104)內(nèi)部分別通過(guò)隔板(101)分割成多個(gè)鍍膜區(qū)間；所述的卷繞室(102)、前處理室(105)和各個(gè)鍍膜區(qū)間的抽氣管道(9)分別通過(guò)閥門(6)連接真空泵(7)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的柔性基材雙面磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)，其特征在于，所述的真空泵(7)為分子泵。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性基材雙面磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)，其特征在于，所述的放卷機(jī)構(gòu)(201)和收卷機(jī)構(gòu)(222)分別位于卷繞室(102)內(nèi)相對(duì)的兩側(cè)，其中，放卷機(jī)構(gòu)(201)和第一鍍膜鼓(207)之間形成第一張力區(qū)間，第一鍍膜鼓(207)與第二鍍膜鼓(217)之間形成第二張力區(qū)間，第二鍍膜鼓(217)和收卷機(jī)構(gòu)(222)之間形成第三張力區(qū)間；

在第一張力區(qū)間設(shè)有張力測(cè)量輥A(203)、展平輥A(206)和至少一個(gè)過(guò)輥，在第三張力區(qū)間設(shè)有展平輥B(216)、張力測(cè)量輥B(219)和至少一個(gè)過(guò)輥，所述的展平輥A(206)和展平輥B(216)分別位于第一鍍膜鼓(207)和第二鍍膜鼓(217)的基材(8)進(jìn)入方向上。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的柔性基材雙面磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)，其特征在于，所述的第一張力區(qū)間設(shè)有過(guò)輥A(202)、過(guò)輥B(204)、過(guò)輥C(205)、過(guò)輥D(208)、過(guò)輥E(209)、過(guò)輥F(210)和過(guò)輥G(211)，其中，過(guò)輥A(202)、過(guò)輥B(204)和過(guò)輥C(205)設(shè)置在第一鍍膜鼓(207)的基材(8)進(jìn)入方向上，過(guò)輥D(208)、過(guò)輥E(209)、過(guò)輥F(210)和過(guò)輥G(211)設(shè)置在第一鍍膜鼓(207)的基材(8)回收方向上；

所述的第二張力區(qū)間設(shè)置有過(guò)輥H(212)和過(guò)輥I(213)；

所述的第三張力區(qū)間設(shè)置有過(guò)輥J(214)、過(guò)輥K(215)、過(guò)輥L(218)和過(guò)輥M(221)，其中，過(guò)輥J(214)和過(guò)輥K(215)設(shè)置在第二鍍膜鼓(217)的基材(8)進(jìn)入方向上，過(guò)輥L(218)和過(guò)輥M(221)設(shè)置在第二鍍膜鼓(217)的基材(8)回收方向上；

所述的過(guò)輥過(guò)輥G(211)和過(guò)輥H(212)位于放卷機(jī)構(gòu)(201)的上方，從第一鍍膜鼓(207)出來(lái)的基材(8)繞過(guò)放卷機(jī)構(gòu)(201)上方后進(jìn)入第二鍍膜鼓(217)；

所述的張力測(cè)量輥B(219)與過(guò)輥M(221)之間設(shè)有跟蹤機(jī)構(gòu)(220)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性基材雙面磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)，其特征在于，所述的第一鍍膜鼓(207)和第二鍍膜鼓(217)以相同的水平位置布置在真空室的下方，第一鍍膜鼓(207)與第二鍍膜鼓(217)的直徑相同。